专利名称：曝光装置及其使用的光掩模的制作方法
技术领域：
本发明涉及将被曝光体向一方向搬运、并间歇性地向该被曝光体照射曝光光而形成曝光图案的曝光装置，详细而言，涉及要在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案的曝光装置及其使用的光掩模。
背景技术：
以往的曝光装置对以恒定速度搬运的被曝光体经由光掩模间歇性地照射曝光光， 并将光掩模的掩模图案在规定位置曝光，其中，通过拍摄机构来拍摄光掩模产生的曝光位置的被曝光体的搬运方向跟前侧的位置，基于该拍摄图像来进行被曝光体与光掩模的位置对合，并控制曝光光的照射时机(例如，参照专利文献I)。在先技术文献专利文献专利文献I日本特开2008-76709号公报
发明内容
发明要解决的课题然而，在这种以往的曝光装置中，利用垂直透过光掩模的曝光光，将形成在光掩模上的掩模图案直接转印到被曝光体上，因此，由于向光掩模照射的光源光中的视角(准直半角)的存在，而被曝光体上的图案的像变得模糊，分辨率下降，可能难以曝光形成微细的图案。针对这种问题，对应于掩模图案而在光掩模的被曝光体侧设置微型透镜，从而可以通过将掩模图案缩小投影到被曝光体上来应对，但这种情况下，在沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向相邻的透镜间的部分上无法形成曝光图案，从而存在无法将微细的曝光图案在被曝光体的整面上高密度地形成这样的问题。因此，本发明应对这种问题点，目的在于提供一种要在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案的曝光装置及其使用的光掩模。用于解决课题的手段为了实现上述目的，本发明涉及一种曝光装置，将被曝光体向一方向搬运并经由光掩模向所述被曝光体间歇性地照射曝光光，对应于形成在所述光掩模上的多个掩模图案而在所述被曝光体上形成曝光图案，所述曝光装置的特征在于，所述光掩模包括沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将所述多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。
通过这种结构，将被曝光体向一方向搬运并经由如下的光掩模向被曝光体间歇性地照射曝光光，对应于形成在光掩模上的多个掩模图案而在被曝光体上形成曝光图案，该光掩模包括沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于多个掩模图案列的各掩模图案而形成在被曝光体侧， 并将各掩模图案缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜，以在位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的排列方向分别错开规定尺寸。并且，所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着所述排列方向错开所述掩模图案的向所述被曝光体上的投影像的与所述多个掩模图案的所述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，在该光掩模中，位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列的后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向错开向被曝光体上投影的掩模图案的投影像的、与被曝光体的搬运方向大致正交的方向的宽度的整数倍的尺寸。另外，本发明的光掩模使用于将被曝光体向一方向搬运并向该被曝光体间歇性地照射曝光光而形成曝光图案的曝光装置，所述光掩模的特征在于，包括沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。根据这种结构，使用如下的光掩模，将被曝光体向一方向搬运并向该被曝光体间歇性地照射曝光光而形成曝光图案，该光掩模包括沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于多个掩模图案列的各掩模图案而形成在被曝光体侧，并将各掩模图案缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜，以在位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的排列方向分别错开规定尺寸。此外，所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着所述排列方向错开所述掩模图案的向所述被曝光体上的投影像的与所述多个掩模图案的所述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，在该光掩模中，位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列的后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向错开向被曝光体上投影的掩模图案的投影像的、与被曝光体的搬运方向大致正交的方向的宽度的整数倍的尺寸。此外，所述多个掩模图案形成在透明基板的一个面上，所述多个微型透镜形成在所述透明基板的另一个面上。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，该光掩模将多个掩模图案形成在透明基板的一个面上，并将所述多个微型透镜形成在所述透明基板的另一个面上。
并且，一面上形成有所述多个掩模图案的掩模用基板和一面上形成有所述多个微型透镜的透镜用基板以使所述多个掩模图案与所述多个微型透镜相互对应的方式重合。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，该光掩模通过将一面上形成有多个掩模图案的掩模用基板和一面上形成有多个微型透镜的透镜用基板以使多个掩模图案与多个微型透镜相互对应的方式重合而形成。发明效果根据本发明的第一及第三方面，由于与各掩模图案分别对应地在被曝光体侧设置将各掩模图案缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜，因此能够高分辨率地形成微细的曝光图案。而且，由于位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列的后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的排列方向分别错开规定尺寸而形成，因此在位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间，通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光。因此，能够在被曝光体的整面上高密度地形成曝光图案。另外，根据本发明的第二及第四方面，能够更高密度地排列形成曝光图案。此外，根据本发明的第五方面，由于将掩模图案和微型透镜一体地形成在同一透明基板上，因此不需要掩模图案与微型透镜的位置对合。因此，光掩模的处理变得容易。并且，根据本发明的第六方面，由于将多个掩模图案和多个微型透镜分别形成于不同的基板，因此在掩模图案具有缺陷的情况下或间距相同且进行设计变更的情况下，只要仅更换形成有掩模图案的掩模用基板即可，从而能够抑制光掩模的成本上升。
图I是表示本发明的曝光装置的实施方式的简要结构图。图2是表示在本发明的曝光装置中使用的光掩模的结构的图，(a)是俯视图，(b) 是侧视图，(C)是仰视图。图3是上述光掩模的局部放大俯视图。图4是表示上述曝光装置的控制机构的结构的框图。图5是表示使用上述光掩模而形成在被曝光体上的曝光图案的俯视图。图6是不意性地表不上述光掩模的另一形成例的俯视图。图7是不意性地表不使用图6的光掩模而形成的曝光图案的俯视图。
具体实施例方式以下，基于附图，详细地说明本发明的实施方式。图I是表示本发明的曝光装置的实施方式的简要结构图。该曝光装置将被曝光体向一方向搬运，并向该被曝光体间歇性地照射曝光光而形成曝光图案，具备搬运机构I、掩模台2、光掩模3、曝光光学系统4、拍摄机构5、照明机构6、控制机构7。需要说明的是，这里使用的被曝光体8在透明基板的一面上以规定的关系反复形成有例如TFT基板的薄膜晶体管那样的规定形状的功能图案。上述搬运机构I在台9的上表面载置被曝光体8并以规定速度向一方向(箭头A 方向)进行搬运，通过将例如电动机和齿轮等组合而构成的移动机构，来使台9移动。而且， 在搬运机构I设有用于检测台9的移动速度的速度传感器和用于检测台9的移动距离的位置传感器(未图示)。在上述搬运机构I的上方设有掩模台2。该掩模台2与由搬运机构I载置搬运的被曝光体8接近对置且保持后述的光掩模3，对应于包括光掩模3的掩模图案13的形成区域10及窥窗17在内的区域(参照图2)而在中央部开口，能够定位并保持光掩I旲3的周缘部。并且，在与台9的面平行的面内形成为能够沿着与被曝光体8的箭头A所示的搬运方向大致正交的方向与后述的拍摄机构5 —体地移动。而且，也可以根据需要形成为能够以掩模台2的中心为轴在规定的角度范围内转动。在上述掩模台2保持有可拆装的光掩模3。该光掩模3形成与被曝光体8上形成的曝光图案为相似形的多个掩模图案，且在保持于掩模台2上的状态下具备沿着与被曝光体8的搬运方向大致正交的方向以规定间距排列形成多个掩模图案的多个掩模图案列； 与多个掩模图案列的各掩模图案分别对应而形成在被曝光体8侧，并将各掩模图案缩小投影到被曝光体8上的多个微型透镜，其中，以在位于被曝光体8的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的上述排列方向(与被曝光体8的搬运方向大致正交的方向)分别错开规定尺寸。具体而言，如图2(b)所示，光掩模3例如在由石英构成的透明基板11的一个面 Ila上形成不透明的铬(Cr)膜12，在该铬(Cr)膜12上的由图2(a)虚线所示的图案形成区域10内形成由规定形状的开口构成的多个掩模图案13。需要说明的是，在图2(a)中， 为了避免附图变得烦杂，而掩模图案13简化成与其外形相当的四边形。而且，如图2(c)所示，对应于多个掩模图案13而在上述透明基板11的另一个面Ilb上形成有相对于例如倍率为O. 25倍且焦点距离为355nm的波长的紫外线而为O. 683mm的多个微型透镜14。并且， 各掩模图案列15及各微型透镜14分别沿着多个掩模图案13的排列方向错开掩模图案13 的向被曝光体8上的投影像的与多个掩模图案13的上述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。需要说明的是，在本实施方式中，光掩模3如图3所示，在掩模图案13的向被曝光体8上的投影像16 (相当于后述的曝光图案30 (参照图5))的尺寸例如是一边的长度为W 的四边形时，以4W间距形成各掩模图案列15的多个掩模图案13,相对于第一掩模图案列 15a，分别沿着各掩模图案列15的掩模图案13的排列方向(与箭头A大致正交的方向)错开W、2W、3W而形成搬运方向排头侧的第一掩模图案列15a的后续的第二、第三、第四掩模图案列15b、15c、15d，并将第一 第四掩模图案列15a 15d以4W间距平行地形成。而且，如图2 (a)所不，以第一 第四掩模图案列15a 15d为I组而以各掩模图案列15平行的方式排列形成3组。因此，一个曝光图案通过多个掩模图案13的重合曝光而形成。此外，在光掩模3的铬(Cr)膜12上，如图2(a)所示，在图案形成区域10的侧方的距第一掩模图案列15a为距离D处形成有与各掩模图案列15大致平行的细长状的开口部。该开口部作为后述的能够通过拍摄机构5进行被曝光体8表面的观察的窥窗17。并且，如图I所示，光掩模3以微型透镜14侧为被曝光体8侧并以窥窗17为被曝光体8的搬运方向(箭头A方向)跟前侧而定位固定在掩模台2上。在上述掩模台2的上方形成有曝光光学系统4。该曝光光学系统4对光掩模3照射均匀的光源光LI，具备光源18、棒状透镜19、聚光透镜20。
上述光源18是放射例如355nm的紫外线、且通过后述的控制机构7来控制点亮的例如闪光灯、紫外线发光激光光源等。而且，上述棒状透镜19设置在从光源18放射的光源光LI的放射方向前方，用于使光源光LI的在与曝光光学系统4的光轴正交的截面内的亮度分布均匀。需要说明的是，作为实现光源光LI的亮度分布的均匀化的机构，并不局限于棒状透镜19，也可以使用光导管或其他的公知的机构。并且，上述聚光透镜20以其前焦点与棒状透镜19的输出端面19a—致的方式设置，将从棒状透镜19射出的光源光LI形成为平行光而对光掩模3进行照射。在上述曝光光学系统4的被曝光体8的如箭头A所示的搬运方向跟前侧设有拍摄机构5。该拍摄机构5在基于光掩模3的曝光位置的搬运方向跟前侧的位置上，同时拍摄形成在被曝光体8上的作为定位基准的功能图案的基准位置及形成在光掩模3的窥窗17 内的基准标记，是将受光元件在与台9的上表面平行的面内沿着与被曝光体8的搬运方向 (箭头A方向)大致正交的方向排列成一直线状的直线相机，其长度中心轴配置成与光掩模 3的窥窗17的长度中心轴一致。需要说明的是，在图I中，符号21是使拍摄机构5的光路折弯的全反射镜。对应于拍摄机构5的拍摄区域而在上述搬运机构I的台9的下侧设有照明机构6。 该照明机构6对被曝光体8从下面侧照射将紫外线切断的由可见光构成的照明光，并通过拍摄机构5能够观察形成在被曝光体8表面上的功能图案，例如是卤素灯等。需要说明的是，照明机构6也可以设置在台9的上方而进行入射照明。与上述搬运机构I、拍摄机构5、光源18、掩模台2及照明机构6连接而设置控制机构7。该控制机构7如下进行控制将被曝光体8沿着一方向搬运,并经由光掩模3向被曝光体8间歇地照射曝光光L2,与形成在被曝光体8上的功能图案重合而形成与光掩模3的多个掩模图案13对应的曝光图案30，如图4所示，该控制机构7具备图像处理部22、运算部23、存储器24、搬运机构驱动控制器25、光源驱动控制器26、掩模台驱动控制器27、照明机构驱动控制器28、控制部29。图像处理部22对通过拍摄机构5取得的被曝光体8表面及光掩模3的基准标记的拍摄图像进行图像处理，检测出在被曝光体8上的功能图案处预先设定的基准位置和光掩模3的基准标记的位置。另外，运算部23算出通过图像处理部22检测出的被曝光体8上的基准位置与光掩模3的基准标记的位置之间的距离，将其结果与保存在后述的存储器24中的目标值进行比较，将其差量作为修正值而向掩模台驱动控制器27输出，并输入搬运机构I的位置传感器的输出而算出台9的移动距离，将其结果与保存在存储器24中的被曝光体8的功能图案的箭头A方向(搬运方向)的排列间距W进行比较，每当台9移动距离W时向光源驱动控制器26输出使光源18点亮的点亮指令。此外，存储器24临时保存运算部23中的运算结果，并存储台9的移动速度V、被曝光体8上的基准位置与光掩模3的基准标记的位置之间的距离的目标值、及其他初始设定值。另外，搬运机构驱动控制器25使搬运机构I的台9沿着箭头A所示的方向以恒定速度移动，输入搬运机构I的速度传感器的输出而与保存在存储器24中的台9的移动速度进行比较，以两者一致的方式控制搬运机构I。
并且，光源驱动控制器26使光源18间歇地点亮，按照从运算部23输入的点亮指令向光源18发送驱动信号。另外，掩模台驱动控制器27使掩模台2与拍摄机构5—体地沿着与箭头A所示的搬运方向大致正交的方向移动，基于从运算部23输入的修正值来控制掩模台2的移动。此外，照明机构驱动控制器28使照明机构6点亮及熄灭，并如下进行控制当曝光开始开关接通时，使照明机构6点亮，在向被曝光体8上的全部的曝光结束时，使照明机构 6熄灭。并且，控制部29以能适当地驱动上述各结构要素的方式介于各结构要素间并进行控制。接下来，说明如此构成的曝光装置的动作。需要说明的是，这里，说明一边为W的四边形的曝光图案30以纵横排列间距W形成的情况。首先，对例如键盘等构成的未图示的操作机构进行操作，而输入台9的移动速度 V、从曝光开始到曝光结束的台9的移动距离、光源18的功率及点亮时间、光掩模3的第一掩模图案列15与窥窗17之间的距离D、形成在被曝光体8上的功能图案的箭头A方向(搬运方向)的排列间距W、预先设定在被曝光体8的上述功能图案处的基准位置与形成在光掩模3上的基准标记之间的距离的目标值等，保存于存储器24，进行初始设定。接下来，将表面涂敷有感光性树脂的被曝光体8以其涂敷面朝上的方式定位并载置在台9上的规定位置。并且，当未图示的曝光开始开关接通时，控制机构7的搬运机构驱动控制器25起动，而使台9以速度V沿着箭头A方向移动。此时，搬运机构驱动控制器25 输入搬运机构I的速度传感器的输出，与保存于存储器24的速度V进行比较，以使台9的移动速度成为V的方式控制搬运机构I。而且，当曝光开始开关接通时，照明机构驱动控制器28起动而使照明机构6点亮。同时，拍摄机构5起动而开始拍摄。伴随着台9的移动而搬运被曝光体8，当形成在被曝光体8上的功能图案中的位于搬运方向(箭头A方向)排头侧的功能图案到达拍摄机构5的拍摄区域时，拍摄机构5通过光掩模3的窥窗17拍摄上述功能图案，同时拍摄光掩模3的基准标记。并且，将这些拍摄图像的电信号向控制机构7的图像处理部22输出。在图像处理部22中，对从拍摄机构5输入的拍摄图像的电信号进行图像处理，检测预先设定在被曝光体8的功能图案上的基准位置及光掩模3的基准标记的位置，并将这些位置数据向运算部23输出。在运算部23中，基于从图像处理部22输入的上述基准位置的位置数据与光掩模 3的基准标记的位置数据来运算两者间的距离，与从存储器24读出的两者间的距离的目标值进行比较，以其差量为修正值而向掩模台驱动控制器27输出。掩模台驱动控制器27使掩模台2在与台9的面平行的面内沿着与箭头A方向(搬运方向)大致正交的方向移动从运算部23输入的修正值量,来进行被曝光体8与光掩模3 的定位。需要说明的是，该动作在对被曝光体8的整面的曝光动作中始终进行，能抑制被曝光体8的向与箭头A正交的方向的偏摆所引起的位置错动。另外，利用图像处理部22对从拍摄机构5输入的拍摄图像的电信号进行图像处理，当检测到被曝光体8的搬运方向(箭头A方向)排头侧的功能图案时，运算部23基于搬运机构I的位置传感器的输出而算出从上述功能图案检测时刻开始的台9的移动距离， 并将其与保存于存储器24中的光掩模3的第一掩模图案列15a和窥窗17之间的距离D进行比较。并且，当台9的移动距离与上述距离D —致时，运算部23将使光源18点亮的点亮指令向光源驱动控制器26输出。光源驱动控制器26按照上述点亮指令而将驱动信号向光源18输出。由此，光源18按照上述初始设定值以规定的功率点亮规定时间。从光源18放射的紫外线的光源光LI在通过棒状透镜19而使亮度分布均匀化之后，通过聚光透镜20形成为平行光而向光掩模3照射。通过了光掩模3的曝光光L2由微型透镜14聚光在被曝光体8上，如图3所示，对光掩模3的掩模图案13进行缩小投影，如图5所示在被曝光体8上形成一边为W的四边形形状的曝光图案30。由此,如图3所不,对应于第一掩模图案列15a而形成第一曝光图案列31a,对应于第二掩模图案列15b沿着与箭头A方向(搬运方向)正交的方向相对于第一曝光图案列 31a错开W而形成第二曝光图案列31b，对应于第三掩模图案列15c沿着与箭头A方向(搬运方向)正交的方向相对于第一曝光图案列31a错开2W而形成第三曝光图案列31c，对应于第四掩模图案列15d沿着与箭头A方向(搬运方向)正交的方向相对于第一曝光图案列 31a错开3W而形成第四曝光图案列31d。此外，运算部23将基于搬运机构I的位置传感器的输出而取得的台9的移动距离与保存于存储器24的初始设定值中的、形成在被曝光体8上的功能图案的箭头A方向(搬运方向)的排列间距W进行比较，在两者一致时，将光源18的点亮指令向光源驱动控制器 26输出。由此，光源18按照上述初始设定值以规定的功率点亮规定时间。从光源18放射的紫外线的光源光LI与上述同样地向光掩模3照射。并且，通过了光掩模3的曝光光L2与上述同样地将光掩模3的掩模图案13缩小投影到被曝光体8上， 从而在被曝光体8上形成一边的长度为W的四边形形状的曝光图案30。以后，每当台9移动距离W时使光源18点亮规定时间而形成曝光图案30，如图5所示，在位于被曝光体8的搬运方向(箭头A方向)排头侧的第一掩模图案列15a所形成的多个曝光图案30之间，利用后续的第二 第四掩模图案列15b 15d所形成的多个曝光图案30进行插补，而能够在被曝光体8的整面上形成曝光图案30。图6是表示光掩模3的另一形成例的主要部分放大俯视图，能够将图7中虚线包围所示的形状大的单位曝光图案30s纵横排列形成。这种情况下，在光掩模3上，由搬运方向(箭头A方向)排头侧的第一掩模图案列 15a曝光形成的第一曝光图案30a例如是一边的长度为W的四边形形状时,用于在第一曝光图案30a的箭头A所示的搬运方向的紧后方连续地曝光形成第二曝光图案30b (参照图7) 的第二掩模图案列15b以与箭头A方向大致正交的方向上的偏移量为零的方式设置在第一掩模图案列15a的后方。而且，用于与上述第一曝光图案30a的朝向箭头A方向的紧右方相邻排列地曝光形成第三曝光图案30c (参照图7)的第三掩模图案列15c沿着与箭头A大致正交的方向相对于第一掩模图案列15a错开W而设置在第二掩模图案列15b的后方。并且，用于在第三曝光图案30c的箭头A所示的搬运方向的紧后方连续地曝光形成第四曝光图案30d(参照图7)的第四掩模图案列15d沿着与箭头A大致正交的方向相对于第一掩模图案列15a错开W而设置在第三掩模图案列15c的后方。而且，由与上述第一 第四掩模图案列15a 15d相同的组合所构成的掩模图案列沿着与箭头A方向大致正交的方向相对于第一掩模图案列15a错开2W而设置在第四掩模图案列15d的后方。并且,第一 第四掩模图案列15a 15d的箭头A方向的排列间距形成为例如3W间距。
在使用如此形成的光掩模3时，只要当被曝光体8沿着箭头A方向每移动距离2W 时使光源18间歇地点亮并曝光即可。由此，如图7所示，在由第一掩模图案列15a形成的多个第一曝光图案30a之间，利用后续的掩模图案列15形成的曝光图案30进行插补，从而能够在被曝光体8的整面上形成曝光图案30。这种情况下，通过第一 第四曝光图案30a 30d，如图7虚线包围所示那样形成单位曝光图案30s，该单位曝光图案30s纵横排列形成。由此，在将形状大的曝光图案以规定间距纵横排列形成时，可以将上述曝光图案分割形成为多个微小的图案。需要说明的是，上述第一 第四掩模图案列15a 15d的排列顺序并未限定为上述的情况，也可以适当替换。而且，各掩模图案列的排列间距及曝光时机对应于预先形成在被曝光体8上的图案的间距而适当设定。另外，在上述实施方式中，说明了光掩模3将多个掩模图案13形成在透明基板11 的一个面Ila上并将多个微型透镜14形成在透明基板11的另一个面发明并不局限于此，光掩模3可以通过将在一面上形成有多个掩模图案在一面上形成有多个微型透镜14的透镜用基板以使多个掩模图案13 相互对应的方式重合而形成。
Ilb上的情况，但本 13的掩模用基板和与多个微型透镜1符号说明
I...搬运机构
3...光掩模
8...被曝光体
11...透明基板
Ila. · 一个面
Ilb..·另一个面
13...掩模图案
14...微型透镜
15...掩模图案列
15a. ·第一掩模图案列
15b..·第二掩模图案列
15c..·第三掩模图案列
15d...第四掩模图案列
16.. 投影像
18...光源
30.. 曝光图案
LI...光源光
L2...曝光光
权利要求
1.一种曝光装置，将被曝光体向一方向搬运并经由光掩模向所述被曝光体间歇性地照射曝光光，对应于形成在所述光掩模上的多个掩模图案而在所述被曝光体上形成曝光图案，所述曝光装置的特征在于，所述光掩模包括沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将所述多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。
2.根据权利要求I所述的曝光装置，其特征在于，所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着所述排列方向错开所述掩模图案的向所述被曝光体上的投影像的与所述多个掩模图案的所述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。
3.一种光掩模，使用于将被曝光体向一方向搬运并向该被曝光体间歇性地照射曝光光而形成曝光图案的曝光装置，所述光掩模的特征在于，包括沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。
4.根据权利要求3所述的光掩模，其特征在于，所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着所述排列方向错开所述掩模图案的向所述被曝光体上的投影像的与所述多个掩模图案的所述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。
5.根据权利要求3或4所述的光掩模,其特征在于，所述多个掩模图案形成在透明基板的一个面上，所述多个微型透镜形成在所述透明基板的另一个面上。
6.根据权利要求3或4所述的光掩模,其特征在于，一面上形成有所述多个掩模图案的掩模用基板和一面上形成有所述多个微型透镜的透镜用基板以使所述多个掩模图案与所述多个微型透镜相互对应的方式重合。
全文摘要
本发明中，光掩模(3)具备沿着与被曝光体的搬运方向(A)大致正交的方向以规定间距排列形成多个掩模图案(13)的多个掩模图案列(15)；与多个掩模图案列(15)的各掩模图案(13)分别对应而形成在被曝光体侧，并将各掩模图案(13)缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜(14)，其中，以在位于被曝光体的搬运方向(A)的排头侧的掩模图案列(15a)所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列(15b～15d)所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将上述后续的掩模图案列(15b～15d)及与之对应的各微型透镜(14)沿着多个掩模图案(13)的上述排列方向分别错开规定尺寸。由此，在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案。
文档编号G03F7/20GK102597881SQ20098016236
公开日2012年7月18日 申请日期2009年11月12日 优先权日2009年11月12日
发明者水村通伸 申请人:株式会社V技术