专利名称：化合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种利用光的照射使包含具有亲液性的基团的化合物与包含具有疏液性的基团的化合物进行二聚化反应而得的化合物。更具体来说，涉及在将功能性薄膜加以图案处理时所用的所述化合物。
背景技术：
在有机薄膜晶体管元件、有机薄膜太阳能电池、有机EL显示器等领域中，研究过很多功能性薄膜。功能性薄膜是如下的薄膜，即，含有体现出各种功能的材料，在设备中需要体现该功能的场所，以为体现该功能所必需的精度配置，进行了所谓的微细图案处理的膜。作为利用图案处理来体现的功能，可以例示出配线、电极、绝缘层、发光层、电荷传输层等功能。作为进行这些图案处理的方法，例如有光刻法。即，该方法在基板等上的一面形成薄膜后，在该薄膜上形成含有光刻胶材料的层，利用光刻胶材料的感光性，对基底的薄膜进 行微细图案处理，形成功能性薄膜。但是，利用光刻法形成的功能性薄膜因进行光刻法中的紫外线照射、显影、清洗等工序，而经常会有该功能性薄膜的功能大幅度降低的情况，特别是在功能性薄膜为功能性有机薄膜的情况下，因进行显影、清洗的工序，而经常出现该功能性有机薄膜的功能受到很大的损害的情况。作为解决光刻法的问题的方法，提出过将功能性薄膜使用喷墨法或喷嘴法、或者各种辊涂印刷法，例如苯胺印刷或反转印刷等，在基板上直接进行图案处理的方法。这些印刷法一般来说使用浓度及粘度比较低的墨液，因此作为在将墨液向基板接触转印后仅在必需的场所准确地形成功能性薄膜的方法，有在形成功能性薄膜的区域的周围设置用于防止墨液的流动的隔壁的方法、在基板表面形成接收墨液的亲液性的区域和不接收墨液的疏液性的区域的方法。作为在基板表面形成亲液性的区域和疏液性的区域的方法，具体来说，已知有如下的方法，即，在亲液性的薄膜的表面涂布含氟硅烷偶联剂等疏液性物质而形成疏液性的薄膜，将波长小于200nm的光向疏液性的薄膜的一部分照射而分解该疏液性物质，然后除去分解物。利用该方法得到的基板中仅光照射部位是亲液性表面(专利文献I)。另外作为使用波长比较长的光的方法，可以举出如下的方法，即，在亲液性的基板上形成包含具有疏液性基团的化合物和光聚合引发剂的疏液性组合物的薄膜，通过对该薄膜的一部分照射光，而将该疏液性的组合物聚合，变得不溶于溶剂，通过使用溶剂除去未聚合部分，而对亲液性区域进行图案处理(专利文献2)。作为使用长波长的紫外线的方法，还已知有如下的方法，S卩，在亲液性的层上形成含有氧化钛等光催化剂的疏液性的薄膜，对该薄膜的一部分照射光，将疏液性的薄膜分解而对亲液性的区域进行图案处理(专利文献3)。专利文献专利文献I :日本特开2000-282240号公报专利文献2 :国际公开第2007-102487号
专利文献3 :日本特开平11-344804号公报但是，照射波长小于200nm的光的方法是长时间照射高能量光的方法，该方法需要大规模的设备、真空装置、高能量光源等特别的装置，存在制造成本升高的问题。另外，由于高能量的光的照射，而会有使照射光的层的基底层的特性降低的情况。使用波长比较长的光的方法由于使用能量比较低的光，因此可以减少照射光的层的基底层的特性的降低，然而在疏液性组合物中含有光聚合引发剂，从而会有该光聚合引发剂的反应残基使形成于其上的功能性薄膜的特性降低的问题。使用长波长的紫外线的方法也有光催化剂使形成于其上的功能性薄膜的特性降低的问题。
发明内容
S卩，本发明之第一发明提供一种化合物，利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团，所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的 感光性基团、和具有疏液性的基团。本发明之第二发明提供如下的所述化合物，其特征在于，化合物(A)中所含的感光性基团包含双键或芳香族稠环。本发明之第三发明提供如下的所述化合物，其特征在于，化合物(B)中所含的感光性基团包含双键或芳香族稠环。本发明之第四发明提供如下的所述化合物，即，化合物(A)是以式(1-1)表示的化合物。[化I]
权利要求
1.一种化合物,其特征在于， 利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团，所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。
2.根据权利要求I所述的化合物，其特征在于， 化合物(A)中所含的感光性基团包含双键或芳香族稠环。
3.根据权利要求I或2所述的化合物，其特征在于， 化合物(B)中所含的感光性基团包含双键或芳香族稠环。
4.根据权利要求I 3中任一项所述的化合物，其中， 化合物㈧是以式(ι-i)表示的化合物； [化I]
5.根据权利要求I 3中任一项所述的化合物，其中， 化合物㈧是以式(1-2)表示的化合物； [化2]
6.根据权利要求I 5中任一项所述的化合物，其中， 具有亲液性的基团是包含属于周期表的第4族、第5族、第6族、第13族、第14族、第15族或第16族的原子的基团。
7.根据权利要求6所述的化合物，其中，具有亲液性的基团是包含硅原子的基团。
8.根据权利要求7所述的化合物，其中， 具有亲液性的基团是以式(1-3)表示的基团； [化3]
9.根据权利要求I 8中任一项所述的化合物，其中， 化合物⑶是以式(2-1)表示的化合物； [化4]
10.根据权利要求I 8中任一项所述的化合物，其中， 化合物⑶是以式(2-2)表示的化合物； [化5]
11.根据权利要求9或10所述的化合物，其中， 具有疏液性的基团是以下式表示的基团；
12.根据权利要求11所述的化合物，其中， 具有疏液性的基团是以下式表示的基团；
13.根据权利要求12所述的化合物，其中， 具有疏液性的基团是以下式表示的基团；
全文摘要
本发明的课题在于，在照射光而进行功能性薄膜的微细图案处理的情况下，抑制照射光的层的基底层的特性降低及功能性薄膜的特性降低。课题的解决途径是，提供一种化合物，是利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团，所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。
文档编号G03F7/004GK102712664SQ201080052079
公开日2012年10月3日 申请日期2010年11月18日 优先权日2009年11月18日
发明者中谷修平, 原口修一, 后藤修, 坂上惠, 小川雅司, 新海征治, 柿本秀信, 白木智丈 申请人:住友化学株式会社, 松下电器产业株式会社