专利名称：一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示器技术领域，具体涉及一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法。
背景技术：
液晶显示器的主要结构是由上下两片玻璃基板压合而成，两片玻璃基板之间灌有液晶，这样通过玻璃基板间的电场控制液晶翻转，加上背光后即可达到显示图像的目的。若要通过输入信号产生的电场显示正确的图像，就需要保证两片玻璃基板间有均匀宽度的间隙。目前，通常采用一种制作光阻间隔物(Photo Spacer，PS)的工艺来提高玻璃基板间间隙宽度的均匀性。该方法选取一块玻璃基板通过涂胶，曝光，显影等工艺制作出一个个的PS点，作为两块基板间的支撑点，从而提高玻璃基板间间隙宽度的均匀性，进而提高液晶盒盒厚的均匀性。该方法能够精确的选择放置PS点的位置，且PS点的密度和高度都有很高的均匀性。但是，形成电路结构后的基板的表面是凸凹不平的，而传统的PS制作方法制作出的各个PS点的高度却是完全一致的，这就导致，贴合后基板间间隙的宽度仍然不够均匀，从而，使液晶盒盒厚的均匀性达不到较高水平。
发明内容
本发明实施例提供一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法，以进一步提高液晶显示器基板间间隙的宽度均匀性，从而提高液晶盒盒厚均匀性。
一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法，包括:在液晶显示器的一个基板的表面涂布负向光阻材料；通过掩模板对所述负向光阻材料进行曝光，所述掩模板上开设有至少两种直径的圆孔；经过显影步骤，形成具有至少两种高度的光阻间隔物。本发明实施例采用在掩模板上开设有至少两种直径的圆孔，制作出具有至少两种高度的光阻间隔物的技术方案，使得制作出的光阻间隔物的高度不再完全一致，而是可以与凸凹不平的基板表面相配合，从而可以进一步提高液晶显示器基板间间隙的宽度均匀性，进而提闻液晶盒盒厚均勻性。
图1是本发明实施例提供的在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法的流程图；图2是本发明实施例中采用的掩模板的示意图；图3是本发明实施例中曝光操作的示意图；图4是本发明实施例中制成的光阻间隔物的示意图。
具体实施例方式实施例一、请参考图1，本发明实施例提供一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法，包括:101、在液晶显示器的一个基板的表面涂布负向光阻材料。102、通过掩模板对所述负向光阻材料进行曝光，所述掩模板上开设有至少两种直径的圆孔。103、经过显影步骤，形成具有至少两种高度的光阻间隔物。传统光阻间隔物(Photo Spacer, PS)的制作包括涂胶，曝光，显影等步骤，经这些步骤可以制作出高度一致的PS。本发明实施例技术方案则是利用光衍射效应来制作高度不一致的光阻间隔物。光的衍射是指光绕过障碍物偏离直线传播路径的现象。衍射效应使得障碍物后空间的光强分布既区别于几何光学给出的光强分布，又区别于光波自由传播时的光强分布，衍射光强有了一种重新分布。光的这种衍射效应使得一切几何影界失去了明锐的边缘，本设计即在确定曝光条件的前提下，通过孔径的大小差异控制衍射效应的强弱，进而控制所制作产品的几何尺寸。本发明实施例中，曝光步骤利用掩模板进行。掩模板210的结构如图2所示，其上开设有直径不同的圆孔220。本实施例中，以开设两种直径的圆孔220为例。曝光过程如图3所示，光线通过掩模板210上开设的圆孔220照射到已经涂布了负向光阻材料230的基板240上。所述基板240可以是玻璃基板，所述负向光阻材料230在曝光时受光照部分的分子结构发生变化，在后续显影工艺中不与显影液发生反应。光线通过掩模板210上开设的圆孔220时会产生衍射效应，圆孔半径越小，衍射效应越强。受衍射效应的作用，圆孔220边缘的光强重新分布，则经显影步骤后，非圆孔部位对应的负向光阻材料溶解脱落，圆孔220对应位置的负向光阻材料230则形成为光阻间隔物250，该光阻间隔物250呈上小下大的锥台形，且锥台的边缘是圆滑的，没有尖锐的棱角。可以预见，当圆孔220的直径足够小时，经曝光显影后形成的光阻间隔物250的顶端甚至会缺失，以至于使形成的光阻间隔物250的高度低于负向光阻材料230的原始高度。从而，可以确定一个临界值，当圆孔220的直径大于该临界值时，可以制作出高度等于负向光阻材料230的原始高度的光阻间隔物250 ;当圆孔220的直径小于该临界值时，可以制作出高度低于负向光阻材料230的原始高度的光阻间隔物250，且圆孔220的直径愈小，制出的光阻间隔物250的高度愈低。如图3所不,一种实施方式中，掩模板210上开设有直径大于临界值的第一圆孔221和直径小于临界值的第二圆孔222，通过该掩模板210进行曝光，可以形成两种高度的光阻间隔物250。如图4所示，对应于第一圆孔221的位置，将形成较高的第一光阻间隔物251，对应第二圆孔222的位置将形成较矮的第二光阻间隔物252。并且，第一光阻间隔物251的高度与与负向光阻材料230的原始高度相同，第二光阻间隔物252的高度则低于负向光阻材料230的原始高度。
其它实施方式中，掩模板上开设的圆孔可以具有更多的直径，从而可以具有各种高度的光阻间隔物。当液晶显示器基板上的电路结构完成后，基板表面是凸凹不平的，两块基板贴合后，基板不同点对应的间隙也大小不同。本实施例中，可以根据液晶显示器的基板上形成的电路结构设计光阻间隔物的位置分布和高度分布，进而根据该位置分布和高度分布制作具有相应圆孔的掩模板。在间隙较大的位置，开设具有较大直径的圆孔；在间隙较小的位置，则开设直径较小的，且直径小于临界值的圆孔；从而，对于不同宽度的间隙，可以形成不同高度的光阻间隔物，使光阻间隔物的位置与高度和基板表面完全匹配；当两块基板贴合后，利用这些高度不同的间隔物来平衡基板间隙，可进一步提高液晶显示器基板间间隙的宽度均匀性，进而提高液晶盒盒厚均匀性。综上，本发明实施例提供了一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法，该方法利用里光线衍射的原理，采用在掩模板上开设有至少两种直径的圆孔，制作出具有至少两种高度的光阻间隔物的技术方案，使得制作出的光阻间隔物的高度不再完全一致，而是可以与凸凹不平的基板表面相配合，从而可以进一步提高液晶显示器基板间间隙的宽度均匀性，进而提高液晶盒盒厚均匀性，以及生产良率，提高产品质量和市场竞争力。以上对本发明实施例所提供的在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法进行了详细介绍，但以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，不应理解为对本发明的限制。本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发 明的保护范围之内。
权利要求
1.一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法，其特征在于，包括: 在液晶显不器的一个基板的表面涂布负向光阻材料； 通过掩模板对所述负向光阻材料进行曝光，所述掩模板上开设有至少两种直径的圆孔； 经过显影步骤，形成具有至少两种高度的光阻间隔物。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的经过显影步骤，形成具有至少两种高度的光阻间隔物包括: 通过较大直径的圆孔曝光的区域经显影后形成第一光阻间隔物，通过较小直径的圆孔曝光的区域经显影后形成第二光阻间隔物，所述第一光阻间隔物的高度大于第二光阻间隔物的高度。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于: 所述第一光阻间隔物的高度与涂布的负向光阻材料的原始高度相同，所述第二光阻间隔物的高度低于涂布的负向光阻材料的原始高度。
4.根据权利要求1或2或3所述的方法，其特征在于，所述的通过掩模板对所述负向光阻材料进行曝光之前还包括: 根据液晶显示器的基板上形成的电路结构设计光阻间隔物的位置分布和高度分布，进而根据该位置分布和高度分 布制作具有相应圆孔的掩模板。
全文摘要
本发明公开了一种在液晶显示器基板间制作光阻间隔物的方法，包括在液晶显示器的一个基板的表面涂布负向光阻材料；通过掩模板对所述负向光阻材料进行曝光，所述掩模板上开设有至少两种直径的圆孔；经过显影步骤，形成具有至少两种高度的光阻间隔物。本发明实施例采用在掩模板上开设有至少两种直径的圆孔，制作出具有至少两种高度的光阻间隔物的技术方案，使得制作出的光阻间隔物的高度不再完全一致，而是可以与凸凹不平的基板表面相配合，从而可以进一步提高液晶显示器基板间间隙的宽度均匀性，进而提高液晶盒盒厚均匀性。
文档编号G03F7/00GK103226265SQ201210364549
公开日2013年7月31日 申请日期2012年9月26日 优先权日2012年9月26日
发明者胡君文, 李林, 洪胜宝, 梅新东, 李建华 申请人:信利半导体有限公司