光敏组合物及其中使用的化合物的制作方法

文档序号:2698233阅读:227来源:国知局
光敏组合物及其中使用的化合物的制作方法
【专利摘要】公开了一种光敏组合物和其中使用的化合物。如使用本申请提供的组合物,则可形成具有改善的图案黏着强度的薄膜。
【专利说明】光敏组合物及其中使用的化合物
[0001]相关申请的相互参引
[0002]本申请要求分别于2011年7月15日和2012年5月29日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2011-0070644号和第10-2012-0056628号的优先权和权益,其全部内容在此以参引的方式纳入本说明书。
【技术领域】
[0003]本申请涉及光敏组合物及用在该光敏组合物中的化合物。
【背景技术】
[0004]多种光敏材料可用于制备液晶显示器二极管的滤光片。例如,可使用颜料分散型光敏材料以形成彩色像素。此外,黑矩阵(black matrix)——其为作为遮光膜遮光的黑色分区——可通过使用将黑色颜料、炭黑、茈黑、二氧化钛或类似物分散在光敏材料中的溶液制备。用于校正像素之间的间距(step)的保护层和用于维持液晶显示器二极管的单元间隙(cell gap)的柱状间隔物可通过使用不含颜料的透明光敏材料制备。此外,在制备所述柱状间隔物或保护层时使用的光敏组合物可用于薄膜晶体管层的钝化。如将光敏材料施用在玻璃基底或涂覆有氧化铟锡的玻璃基底上,并随后通过光刻蚀法处理,则得到滤光片的单一基底。
[0005]如提高液晶显示器二极管的分辨率以呈现更高级别的图像,则滤光片的分辨率增大。为了制备具有高分辨率的滤光片,可减小像素、黑矩阵、柱状间隔等的尺寸。此情况下,加工过程中光敏材料的薄膜与下方基底之间的黏着强度变差,因而增加因丢失部分图像而产生缺陷的可能性。较之 相 关现有技术,存在提高光敏材料与下方基底之间的黏着强度的 需要。

【发明内容】

[0006]本申请致力于提供光敏组合物和光敏组合物中使用的新型化合物。
[0007]本申请的一个示例性实施方案提供一种光敏组合物,其包含:含有一种或多种由下式I表示的化合物的偶联剂;含有碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂;含有两个或更多个烯键式不饱和基团的交联化合物;光聚合引发剂;和溶剂:
[0008][式I]
[0009]
【权利要求】
1.一种光敏组合物,其包含:含有一种或多种由下式I表示的化合物的偶联剂;含有碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂;含有两个或更多个烯键式不饱和基团的交联化合物;光聚合引发剂;和溶剂:[式I]
2.权利要求1的光敏组合物,其中,式I为下式2至式4的任一个:[式2]
3.权利要求2的光敏组合物,其中,式2为选自下式5至式8的任一个:[式5]
4.权利要求2的光敏组合物,其中,式4为下式9或式10: [式9]
5.权利要求1的光敏组合物,其中,所述偶联剂的含量为基于光敏组合物的总重量计.0.01-1.32 重量 %。
6.权利要求1的光敏组合物,其中,所述偶联剂的含量为基于固体的总重量计0.05-5重量%。
7.权利要求1的光敏组合物,其中,所述粘合剂树脂的含量为基于光敏组合物的总重量计1-20重量%。
8.权利要求1的光敏组合物,其中,所述交联化合物的含量为基于光敏组合物的总重量计1-30重量%。
9.权利要求1的光敏组合物,其中,所述光聚合引发剂的含量为基于光敏组合物的总重量计0.1-5重量%。
10.权利要求1的光敏组合物,其中,所述溶剂的含量为基于光敏组合物的总重量计45-95 重量 %。
11.权利要求1的光敏组合物,其还包括:基于光敏组合物的总重量计1-20重量%的着色剂。
12.权利要求1的光敏组合物,其还包括: 基于光敏组合物的总重量计0.01-5重量%的添加剂。
13.权利要求12的光敏组合物,其中,所述添加剂为选自固化促进剂、热聚合引发剂、表面活性剂、分散剂、抗氧化剂、UV吸收剂、流平剂、感光剂、塑化剂、黏着促进剂、填料和助粘剂中的一种或多种。
14.通过使用权利要求1的光敏组合物制备的光敏材料。
15.权利要求14所述的光敏材料,其中,所述光敏材料选自用于制备TFTLCD滤光片的颜料分散型光敏材料、用于形成TFT LCD的黑矩阵或有机发光二极管的光敏材料、用于形成保护层的光敏材料、 柱状间隔物光敏材料以及用于印刷电路板的光敏材料。
16.由式2表不的化合物: [式2]
17.权利要求16的化合物,其中式2为选自下式5至式8的任一个: [式5]
18.由式3表不的化合物:
【文档编号】G03F7/075GK103718110SQ201280034988
【公开日】2014年4月9日 申请日期:2012年6月7日 优先权日:2011年7月15日
【发明者】李健雨 申请人:株式会社Lg化学
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