电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制作方法
【专利摘要】本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成在支承体上的底涂层和形成在底涂层上的感光层，其中所述底涂层具有由式(C1)或式(C2)表示的结构。
【专利说明】电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
【技术领域】
[0001]本发明涉及电子照相感光构件并涉及各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
【背景技术】
[0002]现在，含有有机光电导性物质的电子照相感光构件是用于处理盒和电子照相设备的电子照相感光构件的主流。通常，电子照相感光构件包括支承体和形成在支承体上的感光层。为抑制从支承体侧至感光层侧的电荷注入并抑制起雾等图像缺陷的发生，在支承体和感光层之间设置底涂层。
[0003]近年来，已使用具有较高感光度的电荷产生物质。然而，存在电荷产生物质的较高感光度导致更大量电荷产生的问题；因此，电荷易于滞留在感光层中，从而容易导致重影。具体地，易于发生其中仅在对应于前次旋转时用光照射部分的输出图像的部分的浓度增加的现象，即正重影现象。
[0004]作为抑制(减少)此类重影现象的技术，已知将电子输送物质引入底涂层中的技术。在将电子输送物质引入底涂层中以免在底涂层上形成感光层时溶出电子输送物质的情况下，已知使用由难溶于感光层涂布液的溶剂的固化性材料组成的底涂层的技术。
[0005]PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报公开了一种底涂层，其包含具有芳族四羰基双酰亚胺骨架和交联位点的缩合聚合物(电子输送物质)并且其包含与交联剂的聚合物的底涂层。日本专利特开2003-330209和2008-299344号公报公开一种底涂层，其包含具有不可水解的可聚合官能团的电子输送物质的聚合物。
[0006]近年来，电子照相图像已要求具有更好的图像品质，因此对上述正重影的容许度已经变得非常严格。
[0007]本发明人已经进行研究并发现，关于正重影特别地是在连续图像输出前后正重影的水平变化的抑制(减少)，PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报和日本专利特开2003-330209与2008-299344号公报中公开的技术仍有改进的空间。在PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报和日本专利特开2003-330209与2008-299344号公报公开的技术中，有时在初期和重复使用时正重影未充分减少。
【发明内容】
[0008]本发明的方面提供减少正重影的电子照相感光构件和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒与电子照相设备。
[0009]本发明的一个公开方面提供一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成在支承体上的底涂层和形成在底涂层上的感光层，其中所述底涂层包括由下式(Cl)表示的结构或由下式(C2)表示的结构，
[0010]
【权利要求】
1.一种电子照相感光构件,其包括: 支承体； 形成在所述支承体上的底涂层；和 形成在所述底涂层上的感光层； 其中所述底涂层包括由下式(Cl)表示的结构、或由下式(C2)表示的结构，
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件， 其中，在式(ii)中， α表示具有I至6个主链原子的亚烷基、具有I至6个主链原子且被具有I至6个碳原子的烷基取代的亚烷基、具有I至6个主链原子且被苄基取代的亚烷基、具有I至6个主链原子且被烷氧基羰基取代的亚烷基或具有I至6个主链原子且被苯基取代的亚烷基， 所述亚烷基主链中的碳原子之一可以被O、NH或NR1取代。
3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件， 其中所述底涂层包括具有由式(Cl)表示的结构或由式(C2)表示的结构的固化物。
4.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件， 其中除A1之外由式(ii)表示的基团的主链原子数为2至9。
5.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件， 其中，在式(ii)中， α为具有I至5个主链原子且被具有I至4个碳原子的烷基取代的亚烷基或具有I至5个主链原子的亚烷基。
6.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件， 其中，在式(ii)中， β为亚苯基。
7.—种处理盒，其可拆卸地安装至电子照相设备的主体，其中所述处理盒一体化地支承:` 根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件，和 选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置。
8.一种电子照相设备，其包括: 根据权利要求1至6任一项所述的电子照相感光构件； 充电装置； 曝光装置； 显影装置；和 转印装置。
【文档编号】G03G5/10GK103529666SQ201310268775
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2013年6月28日 优先权日:2012年6月29日
【发明者】中村延博, 奥田笃, 关户邦彦, 关谷道代, 伊藤阳太, 加来贤一, 友野宽之, 石塚由香 申请人:佳能株式会社