一种显影工艺喷嘴的制作方法
【专利摘要】本发明显影工艺喷嘴包括：喷嘴主体，该喷嘴主体的底面开设条形安装槽，该条形安装槽的中部向上设置一显影液入口；以及，喷嘴底板，该喷嘴底板上部内设置条形主流道，该条形主流道的上口边向上设置法兰凸台，底部设置若干出射流道；所述喷嘴主体和喷嘴底板上下对置安装，所述条形安装槽与所述法兰凸台配合定位。其中所述出射流道呈细孔状，且该细孔的深径比不大于10。本发明显影工艺喷嘴用于集成电路芯片显影工艺中显影液的输出，将显影液出射流道流道从传统的大深径比孔流道改为细短孔状出射流道，由大深径比孔改为小深径比孔，解决了现有显影工艺喷嘴中大深径比孔难以加工的难题，同时降低了显影工艺喷嘴的加工周期和加工成本，满足显影工艺发展的要求。
【专利说明】一种显影工艺喷嘴【技术领域】
[0001]本发明涉及喷涂领域，主要应用于芯片显影工艺，具体涉及一种显影工艺喷嘴。
【背景技术】
[0002]目前，显影设备中对显影工艺喷嘴的要求越来越高，不仅要求显影工艺喷嘴能实现较好的喷涂区域，同时对喷嘴的加工精度以及成本也提出了很高的要求。
[0003]传统的显影工艺喷嘴出射流道的孔径一般较大，同时出射孔流道较深，喷嘴流道的设计不具有良好的加工性能。细长孔具有孔径小、孔深大的特点，现有的一些细长孔出射流道喷嘴，一直存在细长孔深径比(孔长度/深度与孔直径的比)大，难以加工的问题。这些大大增加了对喷嘴设备的要求，延长了喷嘴的加工周期，同时，喷嘴的加工成本也会相应提闻。
【发明内容】
[0004]鉴于现有芯片显影工艺中存在的大深径比孔难以加工的问题，本发明提供了一种显影工艺喷嘴，通过对显影液流道的设计，减少出射流道的长度，在实现较好的喷涂效果的同时降低了显影工艺喷嘴的加工难度，为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案。
[0005]一种显影工艺喷嘴包括:喷嘴主体，该喷嘴主体的底面开设条形安装槽，该条形安装槽的中部向上设置一显影液入口 ；以及，喷嘴底板，该喷嘴底板上部内设置条形主流道，该条形主流道的上口边向上设置法兰凸台，底部设置若干出射流道；所述喷嘴主体和喷嘴底板上下对置安装，所述条形安装槽与所述法兰凸台配合定位。
[0006]其中，所述出射流道间隔分布于所述条形主流道的底部。
[0007]所述出射流道呈细孔状，且该细孔的深径比不大于10，该细孔的深度不超过3mm。
[0008]所述显影液入口包括连接部、出口段部以及该连接部与出口段部之间的窄部。
[0009]所述出口段部与窄部的直径比为1:0.5-0.8。
[0010]所述喷嘴主体与所述喷嘴底板之间加设柔性密封垫。
[0011]本发明显影工艺喷嘴用于集成电路芯片显影工艺中显影液的输出，将显影液出射流道从传统的大深径比孔流道改为细短孔状出射流道，由大深径比孔改为小深径比孔，解决了现有显影工艺喷嘴中大深径比孔难以加工的难题，同时降低了显影工艺喷嘴的加工周期和加工成本，满足显影工艺发展的要求。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1为本发明显影工艺喷嘴的实施例1的结构示意图；
图2为图1实施例1截面图；
图3为图2圈示部分的放大图；
图4为图1中喷嘴底板的截面图；`
图5为图1中喷嘴底板的俯视图。【具体实施方式】
[0013]以下结合具体实施例对本发明做详细描述。
[0014]参照图1-5，本发明用于芯片显影工艺的工艺喷嘴实施例1主要包括喷嘴主体I和喷嘴底板2。
[0015]喷嘴主体I呈条形板状，喷嘴主体I的底面开设条形安装槽12，条形安装槽12的中部向上设置一显影液入口 11。如图2，显影液入口 11位于喷嘴主体I的中心处，显影液入口 11包括带螺纹的连接部111、出口段部113以及连接部111与出口段部113之间的窄部112。带螺纹的连接部111用于与传统显影液的输出管连接，该输出管的孔径与窄部112孔径相同。显影液入口 11的出口段部113与窄部112的直径比为1:0.75。
[0016]喷嘴底板2上部内设置条形主流道22，条形主流道22的上口边向上设置法兰凸台21，条形主流道22的底部设置若干出射流道23。出射流道23间隔分布于主体流道22的底部，该出射流道23呈细孔状，设计要求该细孔的深径比不大于10，且深度不大于3mm。实施例I中该细孔23的直径为0.3mm，深度为3mm，深径比为10。条形主流道22的横截面呈长圆状，这种设计方式减少了构成出射流道的细孔的深度，便于出射流道23的加工，进而便于喷嘴底板2的整体加工。
[0017]安装时，喷嘴主体I和喷嘴底板2上下对置固定，所述条形安装槽12与所述法兰凸台21配合定位，法兰凸台的上表面与条形凹槽的底面接触。来自显影液输出管(连接在显影液入口 11的连接部111)的显影液由显影液入口 11注入，进而流经窄部112、出口段部113、条形主流道22，由各出射流道23喷出。
[0018]为了便于组装以及喷嘴主体I与喷嘴底板2之间的密封，在喷嘴主体与喷嘴底板之间加设柔性密封垫，该密封垫采用全氟橡胶制成，以防止显影液的腐蚀。
[0019]以上通过具体实施例对本发明做了详细的说明，这些具体的描述不能认为本发明仅仅限于这些实施例的内容。本领域技术人员根据本发明构思、这些描述并结合本领域公知常识做出的任何改进、等同替代方案，均应包含在本发明权利要求的保护范围内。
【权利要求】
1.一种显影工艺喷嘴，其特征在于，包括: 喷嘴主体，该喷嘴主体的底面开设条形安装槽，该条形安装槽的中部向上设置一个显影液入口 ；以及 喷嘴底板，该喷嘴底板上部内设置条形主流道，该条形主流道的上口边向上设置法兰凸台，底部设置若干出射流道；所述喷嘴主体和喷嘴底板上下对置，所述条形安装槽与所述法兰凸台配合定位； 其中，所述出射流道呈细孔状，且该细孔的深径比不大于10。
2.根据权利要求1所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述出射流道间隔分布于所述条形主流道的底部。
3.根据权利要求1或2所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述细孔的深度不超过3mm ο
4.根据权利要求1所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述显影液入口包括连接部、出口段部以及该连接部与该出口部之间的窄部。
5.根据权利要求4所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述出口段部与窄部的直径比为 I:0.5-0.8。
6.根据权利要求1所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述法兰凸台的上表面与所述条形凹槽的底面接触。
7.根据权利要求1所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述喷嘴主体与所述喷嘴底板之间加设柔性密封垫。
8.根据权利要求1所述的显影工艺喷嘴，其特征在于，所述条形主流道的横截面呈长圆状。
【文档编号】G03F7/30GK103576470SQ201310525953
【公开日】2014年2月12日 申请日期:2013年10月31日 优先权日:2013年10月31日
【发明者】刘学平, 徐强, 向东, 牟鹏, 王汉 申请人:清华大学深圳研究生院