显影方法及系统的制作方法

显影方法及系统的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种显影系统及方法，属于显示技术领域，该方法可以应用于显影系统中，该显影系统包括：喷淋组件和浓度调节组件，该方法包括：通过该喷淋组件向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液；通过该浓度调节组件向该待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，使得在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。本发明可以通过该浓度调节组件对待显影基板上各个显影区域内的显影液浓度进行调节，以保证在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同，解决了相关技术中显影均匀性较差的问题，提高了显影系统对基板进行显影时的显影均匀性。本发明用于显影。
【专利说明】
显影方法及系统
技术领域
[0001] 本发明设及显示技术领域，特别设及一种显影方法及系统。
【背景技术】
[0002] 在制备薄膜晶体管(英文:Thin Film Transistor;简称:TFT)阵列基板的过程中， 需要经过涂胶、曝光、显影和刻蚀等工艺。其中，显影工艺主要用于去除曝光后的基板上的 光刻胶，预先形成所需图形W便进行下一步的刻蚀工艺。
[0003] 相关技术中，显影工艺中所采用的显影系统一般为喷淋式的显影系统。该显影系 统通常包括传输组件W及设置在该传输组件上方的显影液喷嘴，在进行显影时，可W将曝 光完成的基板放置在该传输组件上，传输组件可W带动基板沿预设方向移动，同时该显影 液喷嘴可W向基板表面喷淋显影液，该显影液可W溶解光刻胶，从而在该基板上预先形成 所需图形。
[0004] 但是，由于基板上不同区域处TFT的密度不同，所需形成的图形密度也不同，从而 使得显影过程中基板上不同区域的显影速度也不同，即图形密度低的区域(例如显示区域） 显影液消耗多，使得该区域显影液浓度较低，显影速度较慢；图形密度高的区域(例如用于 设置栅极驱动电路的驱动区域）显影液消耗少，使得该区域显影液浓度较大，显影速度较 快。因此该图形密度较高的区域容易发生过显影，导致显影系统的显影均匀性较差。

【发明内容】

[0005] 为了解决相关技术中显影系统的显影均匀性较差的问题，本发明提供了一种显影 系统及方法。所述技术方案如下：
[0006] -方面，提供了一种显影方法，应用于显影系统中，所述显影系统包括:喷淋组件 和浓度调节组件，所述方法包括：
[0007] 通过所述喷淋组件向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液；
[000引通过所述浓度调节组件向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓 度的调节液体，使得在显影过程中所述待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。
[0009] 可选的，所述通过所述浓度调节组件向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改 变显影液浓度的调节液体，包括：
[0010] 控制所述浓度调节组件的调节参数，使所述浓度调节组件按照所述调节参数向所 述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，所述调节参数包括启动 状态、喷淋量和喷淋溫度中的至少一种，所述启动状态包括开启或者关闭。
[0011] 可选的，所述调节参数包括启动状态，所述控制所述浓度调节组件的调节参数，包 括：
[0012] 在显影的过程中，检测所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的 显影区域是否为所述目标显影区域；
[0013] 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域为所述目 标显影区域时，开启所述浓度调节组件；
[0014] 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域不为所述 目标显影区域时，关闭所述浓度调节组件。
[0015] 可选的，所述调节参数包括喷淋量和/或喷淋溫度，所述控制所述浓度调节组件的 调节参数，包括：
[0016] 检测所述待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度；
[0017] 根据所述各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制所述浓度调节组件的 喷淋量和/或喷淋溫度。
[0018] 可选的，所述待显影基板上的显影区域包括：显示区域W及所述显示区域周围用 于设置栅极驱动电路的驱动区域；
[0019] 所述根据所述各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制所述浓度调节组 件的喷淋量和/或喷淋溫度，包括：
[0020] 计算所述显示区域与所述驱动区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度之差，根据所述 光刻胶厚度之差控制所述浓度调节组件的喷淋量和/或喷淋溫度，使所述浓度调节组件的 喷淋量与所述光刻胶厚度之差正相关，和/或，使所述浓度调节组件的喷淋溫度与所述光刻 胶厚度之差正相关。
[0021] 可选的，所述待显影基板上的显影区域包括：显示区域W及所述显示区域周围用 于设置栅极驱动电路的驱动区域；
[0022] 所述目标显影区域为所述驱动区域，所述调节液体能够稀释所述显影液的浓度； 或者，所述目标显影区域为所述显示区域，所述调节液体能够浓缩所述显影液的浓度。
[0023] 另一方面，提供了一种显影系统，所述系统包括:喷淋组件和浓度调节组件；
[0024] 所述喷淋组件用于向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液；
[0025] 所述浓度调节组件用于向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓 度的调节液体，使得在显影过程中所述待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。
[0026] 可选的，所述系统还包括:控制组件；
[0027] 所述控制组件与所述浓度调节组件电连接，能够控制所述浓度调节组件的调节参 数，使所述浓度调节组件按照所述调节参数向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变 显影液浓度的调节液体，所述调节参数包括启动状态、喷淋量和喷淋溫度中的至少一种，所 述启动状态包括开启或者关闭。
[0028] 可选的，所述调节参数包括启动状态，所述系统还包括:区域检测组件；
[0029] 所述区域检测组件与所述控制组件电连接，所述区域检测组件用于在显影的过程 中，检测所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域是否为所述目 标显影区域；
[0030] 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域为所述目 标显影区域时，向所述控制组件发送启动指令，W便所述控制组件根据所述启动指令开启 所述浓度调节组件；
[0031] 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域不为所述 目标显影区域时，向所述控制组件发送关闭指令，W便所述控制组件根据所述关闭指令关 闭所述浓度调节组件。
[0032] 可选的，所述调节参数包括喷淋量和/或喷淋溫度，所述系统还包括:厚度检测组 件；
[0033] 所述厚度检测组件与所述控制组件电连接，用于检测所述待显影基板上各个显影 区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，并将所述待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后 的光刻胶厚度发送至所述控制组件；
[0034] 所述控制组件，还用于根据所述各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控 制所述浓度调节组件喷淋调节液体时的喷淋量和/或喷淋溫度。
[0035] 可选的，所述喷淋组件包括多个沿第一方向间隔设置的喷嘴，所述浓度调节组件 包括多个沿所述第一方向间隔设置的针孔状喷嘴。
[0036] 可选的，所述系统还包括：
[0037] 传输组件，所述传输组件用于承载并沿第二方向传输所述待显影基板，所述第二 方向垂直于所述第一方向；
[0038] 所述喷淋组件和所述浓度调节组件固定设置在所述传输组件的上方。
[0039] 可选的，所述传输组件包括多个沿所述第二方向间隔设置的传输滚轮。
[0040] 可选的，所述喷淋组件和所述浓度调节组件沿所述第二方向排列在所述传输组件 的上方。
[0041] 可选的，所述浓度调节组件沿所述第一方向的长度与所述待显影基板的宽度相 等，所述待显影基板的宽度方向与所述第一方向平行。
[0042] 可选的，所述调节液体为去离子水或者浓度大于预设阔值的显影液。
[0043] 本发明提供的技术方案带来的有益效果是：
[0044] 本发明提供了一种显影系统及方法，该方法可W应用于显影系统中，该显影系统 包括:喷淋组件和浓度调节组件，该方法包括可W通过该浓度调节组件向该待显影基板上 的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，使得在显影过程中该待显影基板上各个 显影区域的显影速度相同，因此提高了显影系统对基板进行显影时的显影均匀性。
【附图说明】
[0045] 为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使 用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于 本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可W根据运些附图获得其他 的附图。
[0046] 图1本发明实施例提供的一种显影系统的结构示意图；
[0047] 图2是本发明实施例提供的一种显影方法的流程图；
[0048] 图3是本发明实施例提供的一种控制浓度调节组件的调节参数的方法流程图；
[0049] 图4是本发明实施例提供的另一种显影系统的结构示意图；
[0050] 图5是本发明实施例提供的又一种显影系统的结构示意图；
[0051] 图6是图4所示的显影系统的侧视图；
[0052] 图7是本发明实施例提供的另一种控制浓度调节组件的调节参数的方法流程图。
【具体实施方式】
[0053] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方 式作进一步地详细描述。
[0054] 图1本发明实施例提供的一种显影系统的结构示意图，如图1所示，该显影系统可 W包括:喷淋组件10和浓度调节组件11。图2是本发明实施例提供的一种显影方法的流程 图，该显影方法可W应用于图1所示的显影系统中，如图2所示，该方法可W包括：
[0055] 步骤201、通过喷淋组件向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液。
[0056] 步骤202、通过浓度调节组件向该待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液 浓度的调节液体，使得在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。
[0057] 综上所述，本发明实施例提供了一种显影方法，通过该方法对待显影基板进行显 影时，可W通过浓度调节组件向待显影基板上的目标显影区域喷淋调节液体，因此可W通 过该浓度调节组件对待显影基板上各个显影区域内的显影液浓度进行调节，W保证在显影 过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同，提高了该显影系统对基板进行显影 时的显影均匀性。
[0化引可选的，上述步骤202具体包括：
[0059] 控制该浓度调节组件的调节参数，使该浓度调节组件按照该调节参数向该待显影 基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，该调节参数包括启动状态、喷淋 量和喷淋溫度中的至少一种，该启动状态包括开启或者关闭。
[0060] 可选的，该调节参数包括该启动状态，参考图3,上述步骤202中控制该浓度调节组 件的调节参数的具体过程可W包括：
[0061] 步骤2021a、在显影的过程中，检测待显影基板上浓度调节组件的喷淋方向所指向 的显影区域是否为目标显影区域。
[0062] 当该待显影基板上该浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域为该目标显影 区域时，执行步骤2022a;当该待显影基板上该浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域 不为该目标显影区域时，执行步骤2023a。
[0063] 图4是本发明实施例提供的另一种显影系统的结构示意图，参考图4,该待显影基 板00上的显影区域可W包括:显示区域Ol W及该显示区域Ol周围用于设置栅极驱动电路的 驱动区域02。
[0064] 当喷淋喷淋组件10向待显影基板00上的各个显影区域喷淋相同浓度且等量的显 影液后，由于该驱动区域02中需要形成的TFT个数较多，因此该驱动区域02的图形密度较 高，相对于显示区域01，该驱动区域02在单位时间内对显影液的消耗量较少，因此在显影过 程中该驱动区域02内的实时显影液浓度较高，显影速度较快。
[0065] 在本发明实施例中，一方面，该目标显影区域可W为该驱动区域02,该调节液体能 够稀释该显影液的浓度，此时该调节液体可W为去离子水;另一方面，该目标显影区域还可 W为该显示区域01，该调节液体能够浓缩该显影液的浓度，此时该调节液体可W为浓度大 于预设阔值的显影液，该预设阔值可W为喷淋组件10所喷淋的显影液的浓度。通过调节目 标显影区域的实时显影液浓度，可W使得该显示区域Ol内的实时显影液浓度与驱动区域02 内的实时显影液浓度相等，进而保证显影过程中该待显影基板00上各个显影区域保持相同 的显影速度。
[0066] 图5是本发明实施例提供的又一种显影系统的结构示意图，如图5所示，该显影系 统还可W包括:控制组件12和区域检测组件13,该区域检测组件13与该控制组件12电连接， 该控制组件12用于控制该浓度调节组件11的调节参数，该区域检测组件13用于在显影的过 程中，检测该待显影基板上该浓度调节组件11的喷淋方向所指向的显影区域是否为该目标 显影区域。
[0067] 在本发明实施例中，该区域检测组件13可W为光栅尺传感器，该光栅尺传感器可 W设置在该浓度调节组件11中，该待显影基板上的各个显影区域中可W设置有光栅尺，在 显影的过程中，该浓度调节组件11与该待显影基板相对移动时，该光栅尺传感器可W根据 不同显影区域中的光栅尺检测并识别该各个显影区域的始末位置。
[0068] 或者，该区域检测组件13还可W根据待显影基板上各个显影区域的尺寸、相邻显 影区域之间的间距W及显影过程中浓度调节组件与待显影基板之间的相对移动速度，确定 该浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域是否为该目标显影区域。示例的，图6是图4 所示的显影系统的侧视图，假设如图6所示，显影过程中，该浓度调节组件11的位置保持不 变，该待显影基板OOW速度V匀速沿y方向移动，且如图4所示，该待显影基板00上，相邻两个 驱动区域02在y方向上的间距分别为Sl和s2,每个驱动区域02在y方向上的宽度为s3(图2中 未标示），则该区域调节组件可W确定，在显影过程中，每隔tl时间段或者t2时间段，该浓度 调节组件11的喷淋方向所指向的显影区域即为该驱动区域02,其中tl = sl/v，t2 = s2/v，因 此该区域调节组件可W每隔tl或者t2时间段向该控制组件发送一次启动指令，W便该控制 组件根据该启动指令开启该浓度调节组件。此外，该区域调节组件还可W在每次发送启动 指令之后，隔t3时间段，再向该控制组件发送关闭指令，W便该控制组件根据该关闭指令关 闭该浓度调节组件，其中，t3 = s3/v。
[0069] 步骤2022a、开启该浓度调节组件。
[0070] 当该待显影基板上该浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域为该目标显影 区域时，控制组件可W开启该浓度调节组件。
[0071] 示例的，假设该目标显影区域为图4所示的驱动区域02,则当浓度调节组件11的喷 淋方向指向该驱动区域02时，控制组件可W开启该浓度调节组件11，W便该浓度调节组件 11向该驱动区域02喷淋调节液体，例如，可W喷淋去离子水，W降低该驱动区域02的实时显 影液浓度。
[0072] 步骤2023a、关闭该浓度调节组件。
[0073] 当该待显影基板上该浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域不为该目标显 影区域时，控制组件可W关闭该浓度调节组件。
[0074] 示例的，当浓度调节组件11的喷淋方向指向显示区域Ol时，控制组件可W关闭该 浓度调节组件11，W保证该显示区域Ol可W保持较高的显影液浓度，从而可W保证在显影 过程中，该显示区域和驱动区域的显影速度相同，提高了该显影系统对基板进行显影时的 显影均匀性。
[0075] 可选的，该调节参数可W包括喷淋量和/或喷淋溫度，参考图7，上述步骤202中控 制该浓度调节组件的调节参数具体可W包括：
[0076] 步骤202化、检测待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度。
[0077] 在本发明实施例中，参考图5,该显影系统中还可W包括:厚度检测组件14,该厚度 检测组件14与该控制组件12电连接，用于检测该待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液 后的光刻胶厚度，并将该待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度发送至 该控制组件12。
[0078] 在实际应用中，可W在批量显影前，先对一张基板样本进行显影测试，在该显影测 试的过程中，仅采用喷淋组件10向该待显影的基板样本喷淋显影液。显影测试结束后，可W 通过厚度检测组件14检测该基板样本上不同显影区域的光刻胶厚度，并将检测结果发送至 该控制组件12。例如，可W分别测量驱动区域02中TFT沟道的光刻胶厚度W及显示区域Ol中 TFT沟道的光刻胶厚度，由于该驱动区域02中对显影液消耗的较少，剩余的显影液浓度较 高，因此该驱动区域02中TFT沟道的光刻胶厚度会小于该显示区域Ol中TFT沟道的光刻胶厚 度;或者，上述厚度检测的过程还可W在批量显影的过程中实时进行，本发明实施例对此不 做限定。
[0079] 步骤2022b、根据该各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制浓度调节组 件的喷淋量和/或喷淋溫度。
[0080] 如图4所示，该待显影基板00上的显影区域可W包括:显示区域Ol W及该显示区域 Ol周围用于设置栅极驱动电路的驱动区域02,控制组件12可W计算该显示区域Ol与该驱动 区域02在喷淋显影液后的光刻胶厚度之差，并根据该光刻胶厚度之差控制该浓度调节组件 的喷淋量和/或喷淋溫度，使该浓度调节组件的喷淋量与该光刻胶厚度之差正相关，和/或， 使该浓度调节组件的喷淋溫度与该光刻胶厚度之差正相关。
[0081] 示例的，该控制组件12中可W存储有如表1所示的光刻胶厚度之差与调节参数的 对应关系，该调节参数包括喷淋量和喷淋溫度，其中喷淋量Vl <v2<v3，则从表1中可W看 出，随着光刻胶厚度之差的增加，浓度调节组件向目标显影区域喷淋调节液体时的喷淋量 也越大，喷淋溫度（即调节液体的溫度)也越高。假设控制组件12接收到厚度检测组件14发 送的检测结果为:显示区域Ol的TFT沟道的光刻胶厚度为0.5微米um，驱动区域02的TFT沟道 的光刻胶厚度为〇.4um时，由于该两个区域的光刻胶厚度之差为0.1 um,则根据表1所示的对 应关系，该控制组件12可W确定在批量显影过程中，该浓度调节组件11的喷淋量为vlml/s， 喷淋溫度为23 °C。
[0082] 表 1
[0083]
[0084] 因此，在批量显影的过程中，该浓度调节组件11可W根据控制组件12设置的喷淋 量:vlml/s和喷淋溫度:23°C向目标显影区域喷淋调节液体，使得在显影完成后，各个显影 区域内的光刻胶厚度相同，从而提高了显影的均匀性。
[0085] 需要说明的是，一般情况下，浓度调节组件的喷淋量越大，对目标显影区域中显影 液浓度的调节量也越大;浓度调节组件所喷淋的调节液体的喷淋溫度越高，该目标显影区 域的显影速度也越快。
[0086] 在实际应用中，通过显影系统完成上述显影操作后，可W将该显影完成的基板送 入至清洗单元，该清洗单元可W向基板表面喷洒去离子水，W便对该基板上残留的显影液 进行清洗;清洗完成的基板由水平状态变换为的倾斜状态(倾斜角度可W为5度左右），并传 输至风刀干燥系统进行干燥;干燥完成后的基板再由倾斜状态变换回水平状态，W便进入 下一步的刻蚀工序。
[0087] 综上所述，本发明实施例提供了一种显影方法，通过该方法对待显影基板进行显 影时，可W通过浓度调节组件向待显影基板上的目标显影区域喷淋调节液体，因此可W通 过该浓度调节组件对待显影基板上各个显影区域内的显影液浓度进行调节，W保证在显影 过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同，提高了该显影系统对基板进行显影 时的显影均匀性。
[0088] 本发明实施例提供了一种显影系统，参考图1，该系统可W包括:喷淋组件10和浓 度调节组件11，该喷淋组件10用于向待显影基板00上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影 液。
[0089] 该浓度调节组件11用于向该待显影基板00上的目标显影区域喷淋改变显影液浓 度的调节液体，使得在显影过程中该待显影基板00上各个显影区域的显影速度相同。
[0090] 综上所述，本发明实施例提供了一种显影系统，该显影系统除了包括喷淋组件，还 包括浓度调节组件，由于该浓度调节组件可W向待显影基板上的目标显影区域喷淋调节液 体，因此可W通过该浓度调节组件对待显影基板上各个显影区域内的显影液浓度进行调 节，W保证在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同，提高了该显影系 统对基板进行显影时的显影均匀性。
[0091] 可选的，图4是本发明实施例提供的另一种显影系统的结构示意图，参考图4,该待 显影基板00上的显影区域可W包括:显示区域Ol W及该显示区域周围用于设置栅极驱动电 路的驱动区域02。
[0092] 在本发明实施例中，一方面，该目标显影区域可W为该驱动区域02,该调节液体能 够稀释该显影液的浓度，此时该调节液体可W为去离子水。通过浓度调节组件11向该驱动 区域02喷淋雾状的去离子水，可W稀释该驱动区域02内的显影液浓度，使得该驱动区域02 内的实时显影液浓度与显示区域Ol内的实时显影液浓度相等，进而保证显影过程中该待显 影基板00上各个显影区域保持相同的显影速度。
[0093] 另一方面，该目标显影区域还可W为该显示区域01，该调节液体能够浓缩该显影 液的浓度，此时该调节液体可W为浓度大于预设阔值的显影液，该预设阔值可W为喷淋组 件10所喷淋的显影液的浓度。通过浓度调节组件11向该显示区域Ol喷淋浓度大于预设阔值 的显影液，可W浓缩该显示区域Ol内的显影液浓度，使得该显示区域Ol内的实时显影液浓 度与驱动区域02内的实时显影液浓度相等，进而保证显影过程中该待显影基板00上各个显 影区域保持相同的显影速度。
[0094] 可选的，参考图5,该系统还可W包括:控制组件12,该控制组件12与该浓度调节组 件11电连接，能够控制该浓度调节组件11的调节参数，该调节参数可W包括启动状态、喷淋 量和喷淋溫度中的至少一种，该启动状态包括开启或者关闭，该浓度调节组件的喷淋溫度 是指该浓度调节组件所喷淋的调节液体的溫度。
[OOM] 当该调节参数包括启动状态时，参考图5,该系统还可W包括:区域检测组件13。该 区域检测组件13与该控制组件12电连接，该区域检测组件13用于在显影的过程中，检测该 待显影基板上该浓度调节组件11的喷淋方向所指向的显影区域是否为该目标显影区域。
[0096] 当该待显影基板上该浓度调节组件11的喷淋方向所指向的显影区域为该目标显 影区域时，向该控制组件12发送启动指令，W便该控制组件12根据该启动指令开启该浓度 调节组件11。
[0097] 当该待显影基板上该浓度调节组件11的喷淋方向所指向的显影区域不为该目标 显影区域时，该区域检测组件13还可W向该控制组件12发送关闭指令，W便该控制组件12 根据该关闭指令关闭该浓度调节组件11。
[0098] 在实际应用中，该区域检测组件可W为光栅尺传感器，该光栅尺传感器可W设置 在该浓度调节组件中，该待显影基板上的各个显影区域中可W设置有光栅尺，在显影的过 程中，该浓度调节组件与该待显影基板相对移动时，该光栅尺传感器可W根据不同显影区 域中的光栅尺检测并识别该各个显影区域的始末位置。
[0099] 可选的，当该调节参数包括喷淋量和/或喷淋溫度时，参考图5,该系统还可W包 括:厚度检测组件14。
[0100] 该厚度检测组件14与该控制组件12电连接，用于检测该待显影基板上各个显影区 域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，并将该待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后的光 刻胶厚度发送至该控制组件12。
[0101] 该控制组件12,还用于根据该各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制 该浓度调节组件11喷淋调节液体时的喷淋量和/或喷淋溫度。
[0102] 需要说明的是，在实际应用中，该控制组件、区域检测组件和厚度检测组件可W为 =个独立的组件，或者该区域检测组件和厚度检测组件也可W集成在该控制组件中，即该 控制组件还可W具备区域检测和厚度检测的功能。
[0103] 进一步的，参考图4,该喷淋组件10可W包括多个沿第一方向X间隔设置的喷嘴，该 浓度调节组件11可W包括多个沿该第一方向X间隔设置的针孔状喷嘴，示例的，如图4所示， 该浓度调节组件11可W包括多个密集排布的超细针孔状喷嘴。由于每个针孔状喷嘴的喷淋 量较小，在显影的过程中，可W通过控制针孔状喷嘴开启的个数精确调整该浓度调节组件 的喷淋量，因此可W提高该浓度调节组件11的调节精度。
[0104] 需要说明的是，在实际应用中，该控制组件12控制该浓度调节组件11的启动状态 时，可W对每个针孔状喷嘴的启动状态分别进行控制。例如，该控制组件12可W任意组合各 个针孔状喷嘴的开启与关闭，
[0105] 可选的，参考图4,该系统还可W包括:传输组件15。该传输组件15可W包括多个沿 该第二方向y间隔设置的传输滚轮150。
[0106] 该传输组件15用于承载并沿第二方向y传输该待显影基板00,该第二方向垂直于 该第一方向X，参考图4和图6,该喷淋组件10和该浓度调节组件11固定设置在该传输组件15 的上方，且沿该第二方向y依次排列在该传输组件15的上方。
[0107] 本发明实施例提供的该显影系统可W设置在显影腔室中，该显影腔室具有入口和 出口，该传输组件15可W将该待显影基板00从显影腔室的入口沿第二方向y传输至显影腔 室的出口，待显影基板00在传输的过程中，喷淋组件10会先向待显影基板上的各个显影区 域喷淋显影液，之后，当待显影基板OO上的目标显影区域传输至浓度调节组件12的喷淋方 向所指向的区域时，该浓度调节组件12可W向该目标显影区域喷淋调节液体。
[0108] 进一步的，如图4所示，该浓度调节组件11沿该第一方向X的长度d与该待显影基板 00的宽度W相等，W保证该浓度调节组件11的喷淋范围可W覆盖该待显影基板00上的各个 显影区域，其中，该待显影基板00的宽度方向与该第一方向X平行。
[0109] 需要说明的是，本发明实施例中所述的显影过程即为显影液溶解光刻胶的过程， 显影速度即为光刻胶溶解的速度。
[0110] 综上所述，本发明实施例提供了一种显影系统，该显影系统除了包括喷淋组件，还 包括浓度调节组件，由于该浓度调节组件可W向待显影基板上的目标显影区域喷淋调节液 体，因此可W通过该浓度调节组件对待显影基板上各个显影区域内的显影液浓度进行调 节，W保证在显影过程中该待显影基板上各个显影区域的显影速度相同，避免驱动区域由 于显影液浓度过高造成过显影，导致该驱动区域中TFT沟道光刻胶偏薄或缺失，W致于在刻 蚀工艺中TFF沟道有源层被刻穿而发生开路(也称为化anel open不良），提高了该显影系统 对基板进行显影时的显影均匀性，降低了基板驱动区域出现不良的概率，提升了产品良率。 并且，本发明实施例提供的显影系统可W适用于不同产品的显影工艺中，不会改变现有显 影过程中基板的运动方式和显影液的涂覆方法，因此不会额外引入可能会导致显影不均匀 的因素。
[0111] 所属领域的技术人员可W清楚地了解到，为描述的方便和简洁，上述描述的显影 系统的具体工作过程，可W参考前述方法实施例中的对应描述，在此不再寶述。此外，本发 明中术语"和/或"，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可W存在=种关系，例如，A 和/或B，可W表示:单独存在A，同时存在A和B，单独存在B运=种情况。
[0112] W上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用W限制本发明，凡在本发明的精神和 原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种显影方法，其特征在于，应用于显影系统中，所述显影系统包括：喷淋组件和浓 度调节组件，所述方法包括： 通过所述喷淋组件向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液； 通过所述浓度调节组件向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的 调节液体，使得在显影过程中所述待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。2. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过所述浓度调节组件向所述待显影 基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，包括： 控制所述浓度调节组件的调节参数，使所述浓度调节组件按照所述调节参数向所述待 显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的调节液体，所述调节参数包括启动状 态、喷淋量和喷淋温度中的至少一种，所述启动状态包括开启或者关闭。3. 根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述调节参数包括启动状态，所述控制所 述浓度调节组件的调节参数，包括： 在显影的过程中，检测所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影 区域是否为所述目标显影区域； 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域为所述目标显 影区域时，开启所述浓度调节组件； 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域不为所述目标 显影区域时，关闭所述浓度调节组件。4. 根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述调节参数包括喷淋量和/或喷淋温度， 所述控制所述浓度调节组件的调节参数，包括： 检测所述待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度； 根据所述各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制所述浓度调节组件的喷淋 量和/或喷淋温度。5. 根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述待显影基板上的显影区域包括：显示 区域以及所述显示区域周围用于设置栅极驱动电路的驱动区域； 所述根据所述各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制所述浓度调节组件的 喷淋量和/或喷淋温度，包括： 计算所述显示区域与所述驱动区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度之差，根据所述光刻 胶厚度之差控制所述浓度调节组件的喷淋量和/或喷淋温度，使所述浓度调节组件的喷淋 量与所述光刻胶厚度之差正相关，和/或，使所述浓度调节组件的喷淋温度与所述光刻胶厚 度之差正相关。6. 根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述待显影基板上的显影区域包 括:显示区域以及所述显示区域周围用于设置栅极驱动电路的驱动区域； 所述目标显影区域为所述驱动区域，所述调节液体能够稀释所述显影液的浓度;或者， 所述目标显影区域为所述显示区域，所述调节液体能够浓缩所述显影液的浓度。7. -种显影系统，其特征在于，所述系统包括:喷淋组件和浓度调节组件； 所述喷淋组件用于向待显影基板上的各个显影区域喷淋相同浓度的显影液； 所述浓度调节组件用于向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显影液浓度的 调节液体，使得在显影过程中所述待显影基板上各个显影区域的显影速度相同。8. 根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述系统还包括： 控制组件； 所述控制组件与所述浓度调节组件电连接，能够控制所述浓度调节组件的调节参数， 使所述浓度调节组件按照所述调节参数向所述待显影基板上的目标显影区域喷淋改变显 影液浓度的调节液体，所述调节参数包括启动状态、喷淋量和喷淋温度中的至少一种，所述 启动状态包括开启或者关闭。9. 根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述调节参数包括启动状态，所述系统还 包括:区域检测组件； 所述区域检测组件与所述控制组件电连接，所述区域检测组件用于在显影的过程中， 检测所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域是否为所述目标 显影区域； 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域为所述目标显 影区域时，向所述控制组件发送启动指令，以便所述控制组件根据所述启动指令开启所述 浓度调节组件； 当所述待显影基板上所述浓度调节组件的喷淋方向所指向的显影区域不为所述目标 显影区域时，向所述控制组件发送关闭指令，以便所述控制组件根据所述关闭指令关闭所 述浓度调节组件。10. 根据权利要求8所述的系统，其特征在于，所述调节参数包括喷淋量和/或喷淋温 度，所述系统还包括:厚度检测组件； 所述厚度检测组件与所述控制组件电连接，用于检测所述待显影基板上各个显影区域 在喷淋显影液后的光刻胶厚度，并将所述待显影基板上各个显影区域在喷淋显影液后的光 刻胶厚度发送至所述控制组件； 所述控制组件，还用于根据所述各个显影区域在喷淋显影液后的光刻胶厚度，控制所 述浓度调节组件喷淋调节液体时的喷淋量和/或喷淋温度。11. 根据权利要求7至10任一所述的系统，其特征在于， 所述喷淋组件包括多个沿第一方向间隔设置的喷嘴，所述浓度调节组件包括多个沿所 述第一方向间隔设置的针孔状喷嘴。12. 根据权利要求11所述的系统，其特征在于，所述系统还包括： 传输组件，所述传输组件用于承载并沿第二方向传输所述待显影基板，所述第二方向 垂直于所述第一方向； 所述喷淋组件和所述浓度调节组件固定设置在所述传输组件的上方。13. 根据权利要求12所述的系统，其特征在于， 所述传输组件包括多个沿所述第二方向间隔设置的传输滚轮。14. 根据权利要求12所述的系统，其特征在于， 所述喷淋组件和所述浓度调节组件沿所述第二方向排列在所述传输组件的上方。15. 根据权利要求11所述的系统，其特征在于， 所述浓度调节组件沿所述第一方向的长度与所述待显影基板的宽度相等，所述待显影 基板的宽度方向与所述第一方向平行。16. 根据权利要求7至10任一所述的系统，其特征在于， 所述调节液体为去离子水或者浓度大于预设阈值的显影液。
【文档编号】G03F7/30GK105954983SQ201610566567
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年7月18日
【发明人】罗丽平, 刘明悬, 张小祥, 刘会双, 孙增标, 李伟
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司