专利名称：一种红外截止滤光片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种滤光片，特别涉及一种应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头等数码成像领域的红外截止滤光片。
背景技术：
红外截止滤光片(IRCF)是利用精密光学镀膜技术在光学玻璃基片上交替镀上高低折射率的光学膜，实现可见光区(400-630nm)高透，近红外(700 — IlOOnm)截止的光学滤光片，即红外光抑制，主要应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头等数码成像领域，用于消除红外光线对CCD/CM0S成像的影响。红外光抑制是图像传感器必需的功能之一，这是因为(XD、CM0S对光的感应和人眼不同，人眼只能看到380-780的可见光，而(XD、CMOS则可以感应红外光和紫外光，尤其对红外光十分敏感，所以必须要将红外光加以抑制，并保持可见光透过，使CCD/C0MS对光的感应接近于人的眼睛，从而使拍摄的图像也符合眼睛的感应。然而，红外截止滤光片对700 -1lOOnm的红外光并非是完成截止的，在现有技术中，44层膜层以下的红外截止滤光片的红外光透过率通常为1%_2%，而若采用0.3mm光学玻璃作基板时，其红外光透过率则更高，甚至高达20%，远低于高像素摄像头红外截止透过率小于0.5%的要求。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种膜层较少、红外光透过率非常低的红外截止滤光片。为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是:一种红外截止滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的34层膜，该34层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次堆叠组成，该34层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为11-11.3nm;第2层，SiO2膜层，厚度为34.8_35nm;第3层，TiO2膜层，厚度为111-111.3nm;第4层，SiO2膜层，厚度为171.5_172nm ;第5层，TiO2膜层，厚度为110-110.4nm;第6层，SiO2膜层，厚度为179-179.3nm ;第7层，TiO2膜层，厚度为112.5-113nm;第8层，SiO2膜层，厚度为178-178.49nm;第9层，TiO2膜层，厚度为113-113.4nm ;第10层，SiO2膜层，厚度为180.5_181nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为 112.5-112.8nm ;第 12 层，SiO2 膜层，厚度为 179-179.4nm ;第 13 层，TiO2 膜层，厚度为113.5-114nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为178.5_179nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为111-111.3nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为176.5_177nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为 107.5-107.8nm ;第 18 层，SiO2 膜层，厚度为 162.5-162.8nm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为91-91.3nm;第20层，SiO2膜层，厚度为145-145.4nm ;第21层，TiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为140-140.3nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为83.5-84nm ;第24层，TiO2膜层，厚度为138-138.49nm ;第25层，SiO2膜层，厚度为83-83.3nm ;第26层，TiO2膜层，厚度为137.5_138nm ;第27层，SiO2膜层，厚度为82.5-83nm ;第28层，TiO2膜层，厚度为138.5_139nm ;第29层，SiO2膜层，厚度为83-83.4nm ;第30层，TiO2膜层，厚度为139.6_140nm ;第31层，SiO2膜层，厚度为85-85.4nm ;第32层，TiO2膜层，厚度为145.5_146nm ;第33层，SiO2膜层，厚度为85.5-86nm ;第 34 层，TiO2 膜层，厚度为 70.5_71nm。本实用新型红外截止滤光片的制造工艺包括:将透明玻璃基板置于精密真空镀膜机中，然后设定好膜层厚度参数，最后通过真空镀膜(例如蒸镀)方式形成所述的34层膜。镀膜之后的红外截止滤光片在700 -1lOOnm的红外光波段，其红外光透过率整体上小于
0.5%，符合高像素摄像头的要求。本实用新型的有益效果是:本实用新型的膜层为较少的34层，在700 -1lOOnm红外光波段具有极低的红外光透过率，其红外光透过率整体小于0.5%，而在380 - 640nm可见光波段，则不影响可见光透过，因此，本实用新型具有极高的光学性能，能广泛应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头，以及高像素摄像头等数码成像领域。
图1为本实用新型红外截止滤光片的整体结构示意图。图2为本实用新型红外截止滤光片的另一整体结构示意图。图3为本实用新型红外截止滤光片进行光线透射测试的透射率特性图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，在该具体实施方式
中，该红外截止滤光片100，包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板上的34层膜2，该34层膜2由高折射率的二氧化钛TiO2膜层21和低折射率的二氧化硅SiO2膜层22多次堆叠组成，该34层膜I从内至外依次为 第I层，TiO2膜层，厚度为11-11.3nm;第2层，SiO2膜层，厚度为34.8_35nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为111-111.3nm;第4层，SiO2膜层，厚度为171.5_172nm ;第5层，TiO2膜层，厚度为110-110.4nm;第6层，SiO2膜层，厚度为179-179.3nm;第7层，TiO2膜层，厚度为112.5-113nm;第8层，SiO2膜层，厚度为178-178.49nm;第9层，TiO2膜层，厚度为113-113.4nm ;第10层，SiO2膜层，厚度为180.5_181nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为 112.5-112.8nm ;第 12 层，SiO2 膜层，厚度为 179-179.4nm ;第 13 层，TiO2 膜层，厚度为113.5-114nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为178.5_179nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为111-111.3nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为176.5_177nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为 107.5-107.Snm ;第 18 层，SiO2 膜层，厚度为 162.5-162.Snm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为91-91.3nm;第20层，SiO2膜层，厚度为145-145.4nm ;第21层，TiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为140-140.3nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为83.5-84nm ;第24层，TiO2膜层，厚度为138-138.49nm ;第25层，SiO2膜层，厚度为83-83.3nm ;第26层，TiO2膜层，厚度为137.5_138nm ;第27层，SiO2膜层，厚度为82.5-83nm ;第28层，TiO2膜层，厚度为138.5_139nm ;第29层，SiO2膜层，厚度为83-83.4nm ;第30层，TiO2膜层，厚度为139.6_140nm ;第31层，SiO2膜层，厚度为85-85.4nm ;第32层，TiO2膜层，厚度为145.5_146nm ;第33层，SiO2膜层，厚度为85.5-86nm ;第 34 层，TiO2 膜层，厚度为 70.5_71nm。在上述技术方案中，二氧化钛膜层21和二氧化硅膜层22通过真空镀膜(如真空蒸镀)方式形成于透明玻璃基板之上，氧化钛膜层21和二氧化硅膜层22的层数和厚度根据二氧化钛及二氧化硅的折射率，经大量计算而得出，二氧化钛具有较高折射率，其在部分光线波段中折射率参见表一 ；二氧化硅具有较低折射率，其在部分光线波段中折射率参见表二。表一、二氧化钛在部分光线波段中的折射率:
权利要求1.一种红外截止滤光片，其特征在于:包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的34层膜，该34层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次堆叠组成，该34层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为11-11.3nm ;第2层，SiO2膜层，厚度为34.8-35nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为111-111.3nm ;第4层，SiO2膜层，厚度为171.5-172nm;第5层，TiO2膜层，厚度为110-110.4nm;第6层，SiO2膜层，厚度为179-179.3nm;第7层，TiO2膜层，厚度为112.5_113nm;第8层，SiO2膜层，厚度为178-178.49nm ;第9层，TiO2膜层，厚度为113-113.4nm ;第10层，SiO2膜层，厚度为 180.5-181nm ;第 11 层，TiO2 膜层，厚度为 112.5-112.8nm ;第 12 层，SiO2 膜层，厚度为179-179.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为113.5_114nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为178.5-179nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为111-111.3nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为 176.5-177nm ;第 17 层，TiO2 膜层，厚度为 107.5-107.8nm ;第 18 层，SiO2 膜层，厚度为162.5-162.8nm ;第19层，TiO2膜层，厚度为91-91.3nm ;第20层，SiO2膜层，厚度为145-145.4nm ;第21层，TiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为140-140.3nm;第23层，TiO2膜层，厚度为83.5_84nm;第24层，TiO2膜层，厚度为138-138.49nm ;第25层，SiO2膜层，厚度为83-83.3nm ;第26层，TiO2膜层，厚度为137.5-138nm ;第27层，SiO2膜层，厚度为82.5_83nm ;第28层，TiO2膜层，厚度为138.5-139nm ;第29层，SiO2膜层，厚度为83-83.4nm ;第30层，TiO2膜层，厚度为139.6-140nm ;第31层，SiO2膜层，厚度为85-85.4nm ;第32层，TiO2膜层，厚度为145.5-146nm ;第33层，SiO2膜层，厚度为85.5_86nm ;第34层，TiO2膜层，厚度为70.5_71nm0
2.根据权利要求1所述的红外截止滤光片，其特征在于:所述34层膜的厚度依次为■ 第 I 层，11.127nm;第 2 层，34.955nm ;第 3 层，111.1lnm ;第 4 层，171.779nm ;第 5 层，110.308nm ;第 6 层，179.06Inm ;第 7 层，112.555nm ;第 8 层，178.46Inm ;第 9 层，113.303nm ；第 10 层，180.689nm;第 11 层，112.555nm;第 12 层，179.232nm;第 13 层，113.624nm;第 14 层，178.718nm;第 15 层，111.003nm;第 16 层，176.748nm;第 17 层，107.526nm;第 18 层，162.61Inm ；第 19 层，91.049nm ;第 20 层，145.305nm ；第 21 层，86.235nm ；第22 层，140.079nm ；第 23 层，83.88Inm ;第 24 层，138.45Inm ；第 25 层，83.078nm ；第 26层，137.766nm ；第 27 ·层，82.865nm ;第 28 层，138.537nm ；第 29 层，83.239nm ;第 30 层，139.908nm ;第 31 层，85.325nm ;第 32 层，145.648nm ;第 33 层，85.7nm ;第 34 层，70.682nm。
3.根据权利要求1或2所述的红外截止滤光片，其特征在于:所述透明玻璃基板为光学玻璃基板D263T。
4.根据权利要求3所述的红外截止滤光片，其特征在于:所述光学玻璃基板D263T的厚度为 0.145mm 或 0.21mm 或 0.3mm 或 0.4mm 或 0.55mm。
5.根据权利要求1或2所述的红外截止滤光片，其特征在于:还包括一层磨损层，该磨损层叠加于所述的34层膜之外，该磨损层为SiO2膜层，厚度为3-5nm。
专利摘要本实用新型公开了一种红外截止滤光片，涉及滤光片技术领域。本实用新型包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的34层膜，该34层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次堆叠组成。本实用新型的膜层为较少的34层，在700－1100nm红外光波段具有极低的红外光透过率，其红外光透过率整体小于0.5%，而在380－640nm可见光波段，则不影响可见光透过，本实用新型具有极高的光学性能，能广泛应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头、汽车摄像头，以及高像素摄像头等数码成像领域。
文档编号G02B1/10GK203164464SQ201320076008
公开日2013年8月28日 申请日期2013年2月19日 优先权日2013年2月19日
发明者奂微微, 黄兴桥 申请人:东莞五方光电科技有限公司