防尘薄膜组件框架以及采用该框架的防尘薄膜组件的制作方法

防尘薄膜组件框架以及采用该框架的防尘薄膜组件的制作方法
【专利摘要】本发明的目的为，提供一种在防尘薄膜组件框架内侧的表面没有被误认为凹陷以及白点等的异物的亮点（缺陷），外观品质以及可信性优良的防尘薄膜组件框架以及使用该防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件。本发明的铝合金制的防尘薄膜组件框架10，在防尘薄膜组件框架10的形状被加工成以后，至少在防尘薄膜组件框架内侧的表面上形成纯铝皮膜22，该纯铝皮膜22的上面有铝阳极氧化皮膜23形成。纯铝皮膜22优选为纯度为99.7%以上，其厚度优选为3μm以上50μm以下。
【专利说明】防尘薄膜组件框架以及采用该框架的防尘薄膜组件

【技术领域】
[0001] 本发明涉及半导体设备，印刷基板，液晶或有机EL显示器等的制造时作为防尘器 使用的防尘薄膜组件框架以及使用其的防尘薄膜组件。

【背景技术】
[0002] LSI，超LSI等的半导体或为液晶显示器等的制造中，对半导体晶片或液晶用原板 进行光照射，以制作图案，但是，此时所用的光掩模或中间光掩模（以下，简称光掩模）上有 灰尘附着，此灰尘就会将光吸收，或使光弯曲，转印的图案就会变形，边沿变得模糊，基底污 黑等，尺寸，品质，外观等受损。
[0003] 由此，这些操作通常在无尘室中进行，但即使如此，也难以达到光掩模得经常清 洁。因此，要在光掩模表面贴附作为防尘器的防尘薄膜组件后进行曝光。在该场合，异物就 不会在光掩模的表面上直接附着，而仅在防尘薄膜组件上附着，此时，只要将焦点对准光掩 模的图案，防尘薄膜组件上的异物就与转印无关了。
[0004] 一般来说，防尘薄膜组件有，由使光良好通过的硝化纤维素，乙酸纤维素或氟树脂 等构成的透明的防尘薄膜组件膜在由铝，不锈钢等构成的防尘薄膜组件框架的上端面进行 贴附或接着来构成。另外，在防尘薄膜组件框架的下端，设置为了进行光掩模安装的由聚丁 烯树脂，聚乙酸乙烯基树脂，丙烯酸树脂，硅酮树脂等构成的粘着层，以及设置为了保护粘 着层的离型层(分离物)。
[0005] 这样的防尘薄膜组件，要在暗室内等中用集光灯进行异物检查，确认是否有异物 的附着。此检查不仅在防尘薄膜组件膜的表面，在防尘薄膜组件框架的内面也进行。在防 尘薄膜组件框架内面附着的异物，有落在光掩模表面的可能，一般，将该异物检查在暗室内 用集光灯等的照度大的光进行照射并目视进行，在有异物的场合，就会看到在防尘薄膜组 件框架上的亮点。由于在防尘薄膜组件框架的表面有细微的凹凸存在，如包括微小的凹凸， 可以说亮点有无数个。由此，现状是，从亮点的大小来进行推测异物的大小，将大于设定的 容许值的判定为不良。
[0006] 但是，在防尘薄膜组件框架内面设置粘着层的场合，虽有异物附着但落下可能小， 这种可以容许的异物，例如可以为数十Pm程度，但是近年来，由于担心由于曝光时的迷光 而造成老化以及发生气体，所以多不设置粘着层，在这种场合下，检查极为严格，即使极小 的，例如数μ m大小的异物也会成为问题，被判定为不良的情况就会很多。
[0007] 但是，在如此严格的检查中，被作为异物检查出物体中，往往不是附着的异物，而 是防尘薄膜组件框架的铝阳极氧化皮膜的缺陷被误认的情况。在一般使用的铝合金制防尘 薄膜组件框架的表面，通常进行黑色铝阳极氧化处理，在表面具有粗大的析出物(金属互化 物）等的场合，该表面不能进行正常的铝阳极氧化皮膜的形成，会变成凹陷或不能很好地进 行染色而成为白点。
[0008] 专利文献1以及2中，记载了为了对上述加以防止，使铝合金的合金元素的杂质的 量减低，从而使析出物的体积变小等。但是，在铝合金中，含有作为强化元素的各种各样的 元素，将来自合金成分的缺陷(亮点）进行完全防止是极为困难的。
[0009] 在专利文献3中，记载了由于铝阳极氧化皮膜的表面多孔，担心该表面会发生灰 尘，所以要在防尘薄膜组件框架表面进行树脂涂布的技术，但是在该场合中，防尘薄膜组件 框架表面由于进行树脂涂布以及赋与光泽，表面的缺陷(亮点）会进一步被强调。
[0010] 如以上所述，至今为止，还不能得到没有被误认异物的缺陷(亮点）的表面品质优 良的防尘薄膜组件框架以及防尘薄膜组件。在这样的场合，防尘薄膜组件框架内面的异物 检查需要极长的时间，这样的长时间的异物检查，除了成本增加外，检查中有误认以及漏检 的可能，从而可信性有问题。
[0011] 【现有技术文献】
[0012] 【专利文献】
[0013] 【专利文献1】日本专利3777987号
[0014] 【专利文献2】日本专利4605305号
[0015] 【专利文献3】日本特开2007-333910


【发明内容】

[0016] 【发明的概要】
[0017] 本发明，就是鉴于上述问题而完成的，本发明的目的是提供一种在防尘薄膜组件 框架内侧的表面没有被误认为凹陷以及白点等的异物的亮点(缺陷)，外观品质以及可信性 优良的防尘薄膜组件框架以及使用该防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件。
[0018] 本发明人，为了达成上述目的，进行了研究，得知如在构成防尘薄膜组件框架的铝 合金的表面或近傍有不少的析出物存在的话，铝阳极氧化被覆膜就不能在该附近正常形 成从而容易有凹陷等的形状缺陷发生，该形状缺陷就会成为被误认为异物的表面缺陷(亮 点)，如将具有该形状缺陷的表面或表面近傍用几乎没有析出物的高纯度的纯铝进行覆盖 的话，就会完全不受由铝合金而来的析出物以及由该析出物而产生的形状缺陷的影响。
[0019] 【
【发明内容】
】
[0020] 即，本发明，为用铝合金制作的防尘薄膜组件框架，其特征在于：在防尘薄膜组件 框架的形状加工后，至少在防尘薄膜组件框架内侧的表面形成纯铝皮膜。优选在该场合的 纯铝皮膜的纯度为99. 7%以上，表面粗度为RaO. 5?5 μ m，纯铝皮膜优选被研磨平滑。
[0021] 另外，优选纯铝皮膜的厚度为，3μπι以上50μπι以下，这样的纯铝皮膜用喷镀或蒸 镀形成。
[0022] 进一步，优选纯铝皮膜形成后，进行铝阳极氧化处理，染色或电解着色，进一步进 行封孔处理，还可以在封孔处理后在纯铝皮膜外侧形成树脂皮膜，该树脂皮膜的材质，优选 从丙烯酸树脂，聚酯树脂，硅酮树脂，氟树脂构成的群中进行选择。
[0023] 【发明的效果】
[0024] 根据本发明，在防尘薄膜组件框架内面设置纯铝皮膜层，由此可以大幅度使被误 认为防尘薄膜组件框架内面的异物的缺陷(亮点）减少，这样一来，不仅异物的检查可以短 时间完成，而且可以得到外观品质优良，以及可信性高的防尘薄膜组件。

【专利附图】

【附图说明】
[0025] 【图1】表示本发明的一实施方式的防尘薄膜组件框架的平面图。
[0026] 【图2】表示本发明的一实施方式的防尘薄膜组件框架的正面图。
[0027] 【图3】表示本发明的一实施方式的防尘薄膜组件框架的右侧面图。
[0028] 【图4】表示本发明的一实施方式的防尘薄膜组件框架的截面详细图。
[0029] 【图5】先有技术的防尘薄膜组件框架的铝阳极氧化皮膜近傍的截面图。
[0030] 【图6】本发明的防尘薄膜组件框架的铝阳极氧化皮膜近傍的截面图。
[0031] 【图7】表示本发明的另一个实施方式的防尘薄膜组件框架的截面详细图。
[0032] 【图8】由本发明的防尘薄膜组件框架构成的防尘薄膜组件的斜视图。

【具体实施方式】
[0033] 以下，对本发明的实施方式进行说明，但是本发明并不限于此。
[0034] 图1为，本发明的一实施方式的防尘薄膜组件框架10的平面图，图2为该防尘薄 膜组件框架的正面图，图3为该防尘薄膜组件框架的右侧面图，图4为图1的A-A截面的扩 大图。
[0035] 本发明的防尘薄膜组件框架10为，使用铝合金通过机械加工或压铸等制作，设有 通气孔11以及处理用的夹具孔12等。另外，该防尘薄膜组件框架10在铝合金的构造体21 的内侧表面设有纯铝皮膜22。
[0036] 另外，该纯铝皮膜22,在构造体21被加工为防尘薄膜组件框架形状后，在其表面 上形成，并且不仅在内面，进一步在其以外的表面上形成也可以。另外，在最外层进行铝阳 极氧化处理以及染色或电解着色处理，进一步进行封孔处理，即设置所谓的铝阳极氧化皮 膜23。纯铝皮膜22，优选在形成后，在进行铝阳极氧化处理前进行机械研磨或化学研磨，使 表面平滑化，以减少皮膜形成时的外观斑点。
[0037] 作为构造体21使用的铝合金，可以使用JIS7000系，6000系，5000系，2000系或铸 造用合金等。本发明，在使用析出物(金属互化物)大量产生的铝合金系的场合，具有特别好 的效果。
[0038] 图5中，表示了被误认为异物的表面缺陷(亮点)，该表面缺陷(亮点）的原因为，在 构成防尘薄膜组件框架的铝合金51的表面或表面近傍有析出物52存在的场合，铝阳极氧 化皮膜53在其附近不能正常形成，而生成凹陷等的形状缺陷54而造成的。对此，图6表示 的本发明的防尘薄膜组件框架上，即使在铝合金61的表面有析出物62存在的场合，由于在 其外侧设有纯铝皮膜22,在铝阳极氧化皮膜23形成时也完全不受析出物62的影响。其结 果，可以形成缺陷(亮点）极少的铝阳极氧化皮膜23。
[0039] 在本发明中，优选至少在防尘薄膜组件框架的内面侧形成纯铝皮膜22,其理由为， 在不光掩模进行保护的防尘薄膜组件框架的外面侧以及防尘薄膜组件膜接着层以及光掩 模粘着层覆盖的上下的端面，不太需要考虑表面缺陷(亮点）的缘故。由此，该纯铝皮膜22 优选由喷镀或蒸镀来形成，其纯度为，99. 7%以上，更优选为99. 9%以上。纯度越高，表面缺 陷越难发生，如纯度为99. 7%未满，会有析出物大量存在，从而不优选。
[0040] 另外，为了形成良好的铝阳极氧化皮膜23,纯铝层22的厚度以3 μ m以上50 μ m以 下为优选，如3 μ m未满，受铝阳极氧化皮膜形成时的基底的构造体21表面的影响，有发生 缺陷的危险，如超过50 μ m，皮膜的形成需要时间，这除了成本上升之外，尺寸精度也有可能 变差。
[0041] 纯铝皮膜22的表面粗度，为了防止表面自身的凹凸成为缺陷(亮点）的原因，所以 以RaO. 5?5 μ m的范围为优选。如RaO. 5 μ m未满，会过于平滑而产生光泽，这除了很小的 外伤等的缺陷就会非常显眼以外，反射也会变强，会成为检查时的障碍。如超过Ra5 μ m，表 面闪亮感会变强，要检查的表面缺陷(亮点）就会难以检出，这也是不合适的。另外，优选在 铝阳极氧化皮膜的形成前，用化学研磨以及喷砂处理等对表面粗度进行调整，该场合，大约 以Ra为1 μ m以下的表面粗度为好。
[0042] 在铝阳极氧化皮膜形成后，进行染色以及封孔处理，使铝阳极氧化皮膜23完成， 从此时的耐光性的观点，也可不用黑色有机染料染色，而使用析出Ni，Co, Cu，Sn，Fe等的电 解着色。另外，作为铝阳极氧化皮膜的形成时使用的电解液，除一般使用硫酸外，也可使用 草酸，酒石酸，磷酸以及柠檬酸等的有机酸。
[0043] 图7为，表示另一实施方式的图，与图4相同，为图1的防尘薄膜组件框架的A-A截 面的扩大图。防尘薄膜组件框架的基本构造，与上述的实施方式相同，为了防止从铝阳极氧 化皮膜23的细微的凹凸发生灰尘，在铝阳极氧化皮膜23的外侧设有树脂皮膜24。此树脂皮 膜24的材质可以为，环氧树脂，氨基丙烯酸树脂，尼龙树脂等各种树脂，特别是，从耐光性， 发生气体量，外观，处理等的观点，优选从由丙烯酸树脂，聚酯树脂，硅酮树脂以及氟树脂构 成的群中选择。
[0044] 如果基底的铝阳极氧化皮膜23为黑色，树脂皮膜24没有必要为黑色，即使透明也 可以。另外，防尘薄膜组件框架内侧和外侧的膜，也可以为分别不同的材质来构成。此场合， 整体用树脂皮膜24构成后，仅内侧为用不同的树脂皮膜(未图示）来形成也可以，内侧以及 外侧也可以用分别不同的材质进行分别涂布。在该场合，特别优选，内侧膜为被赋与粘着性 的材料构成的膜。
[0045] 作为树脂皮膜24的形成方法，可以采用电泳涂装，喷雾涂装，浸渍等的方法，但是 在皮膜形成时，优选操作环境清洁化以及对涂布液也进行过滤，以便不使异物混入被覆膜。
[0046] 图8为，用本发明的防尘薄膜组件框架构成的防尘薄膜组件的斜视图。在防尘薄 膜组件框架10的一个端面上，设置防尘薄膜接着层81，以便使防尘薄膜膜82以适当的张力 被接着。另外，在另一个端面上，设置光掩模粘着层83以及保护用的分离物84。在防尘薄 膜组件框架10上，至少设置1个通气孔11，此通气孔11被过滤器85覆盖。
[0047] 本发明的防尘薄膜组件框架10,如果如上制作，在检查中被误认为异物的表面的 缺陷(亮点）极少，而且外观品质优良，并且在使用该防尘薄膜组件框架10构成防尘薄膜组 件80的场合，防尘薄膜组件框架内面的检查容易，操作性被提高，另外，可以进行高感度检 查，由此可信赖性变高。
[0048] 【实施例】
[0049] 以下，对本发明的实施例进行详述。以下的实施例虽然为半导体用的小型的防尘 薄膜组件，但是本发明并不对防尘薄膜组件的大小进行限定。
[0050] 〈实施例1>
[0051] 具有图1表示的外观形状的防尘薄膜组件框架10是用机械切削加工进行制作的。 如图2所示，长边的侧面上，处理用的夹具孔12被在各边2处设置，同时设置通气孔11。此 防尘薄膜组件框架10为外寸115X149mm，内寸lllX145mm，高度3. 5_的矩形状，其角部 为，外侧R5mm，内侧R3mm。
[0052] 在实施例1中，制作图7表示的实施方式的防尘薄膜组件框架。构造体21的材质 为，铝合金A7075,对此进行T651的热处理，内侧表面，用气体喷镀形成厚度20 μ m的纯度为 99. 9%的纯铝皮膜22。此皮膜表面为，表面粗度Ra6?7 μ m，有些粗糙，由此要将该皮膜表 面用砥石研磨而成为平滑面，进一步用喷砂处理使表面粗度成为RaO. 7?0. 8 μ m的表面。 另外，进行铝阳极氧化处理以及黑色染色，封孔处理，铝阳极氧化皮膜23形成。将其水洗， 完全干燥后，用电泳涂装在其表面上形成厚度5 μ m的透明的丙烯酸树脂皮膜24。
[0053] 然后，将如此制作的防尘薄膜组件框架10搬入无尘室，用表面活性剂和纯水洗 净，干燥后，在暗室中用集光灯进行异物检查，内面侧没有发现被误认为异物的表面缺陷 (亮点)，具有极优良的外观。
[0054] 〈实施例2>
[0055] 制作与上述实施例1同形状的防尘薄膜组件框架10,但是内侧表面的纯铝皮膜22 的形成法变为蒸镀法。此时，纯度99. 9%的纯铝皮膜22的厚度为3?4 μ m，因为表面平滑， 所以不进行研磨，而仅进行喷砂磨光处理，铝阳极氧化皮膜23被形成。此后，与上述实施例 1同样，用电泳涂装在最外层形成丙烯酸树脂皮膜24。
[0056] 然后，该防尘薄膜组件框架10与上述实施例1同样，用集光灯进行异物检查，在内 面侧没有发现被误认为异物的表面缺陷(亮点)，具有极优良的外观。
[0057] 〈实施例3>
[0058] 用上述实施例1的防尘薄膜组件框架10,制作如图8所示的那样的防尘薄膜组件 80。作为防尘薄膜接着层81，用氟树脂接着剂进行涂布，在其上将由氟树脂组成的防尘薄膜 82无折皱地以适当地张力贴附接着。另外，用丙烯酸粘着剂形成光掩模粘着层83，在该表 面上安装保护用的在PET膜上涂布有离型剂而得到的分离物84。进一步，通气孔11中，介 于丙烯酸粘着层安装由PTFE制膜构成的过滤器85。
[0059] 然后，将如此制作的防尘薄膜组件80,在暗室内中用集光灯进行外观，异物的检 查，可以发现即使防尘薄膜组件框架内面以外的外观也没有问题，作为全体具有极优良的 外观。另外，由于没有防尘薄膜组件框架内面的表面缺陷(亮点）反射在防尘薄膜上，易于 检查。
[0060] 【比较例】
[0061] 在本比较例中，将与上述实施例1具有同样的形状的防尘薄膜组件框架10仅用与 实施例1同样材质的铝合金制作。防尘薄膜组件框架的内面侧不设纯铝皮膜23,用与实施 例1的场合完全相同的工序，在最外层，进行与实施例1同样的丙烯酸树脂的电泳涂装。
[0062] 然后，对如此制作的防尘薄膜组件框架10,进行与上述实施例1同样的检查，发现 大小40?50 μ m的被误认为异物的亮点2个，10?20 μ m的被误认为异物的亮点5个。 另外，对该缺陷部用显微镜进行观察，得知被误认为异物的亮点，全为铝阳极氧化皮膜的缺 陷，为被表面的电泳涂装膜强调之物。【符号的说明】
[0063] 10防尘薄膜组件框架
[0064] 11通气孔
[0065] 12夹具孔
[0066] 21构造体
[0067] 22纯铝皮膜
[0068] 23铝阳极氧化皮膜
[0069] 24树脂皮膜
[0070] 51铝合金
[0071] 52析出物
[0072] 53铝阳极氧化皮膜
[0073] 54表面缺陷
[0074] 61铝合金
[0075] 62析出物
[0076] 80防尘薄膜组件
[0077] 81防尘薄膜组件膜接着层
[0078] 82防尘薄膜组件膜
[0079] 83光掩模粘着层
[0080] 84分离物
[0081] 85过滤器
【权利要求】
1. 一种防尘薄膜组件框架，其为由铝合金制作的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所 述防尘薄膜组件框架的形状加工后，至少在所述防尘薄膜组件框架内侧的表面形成纯铝皮 膜。
2. 根据权利要求1所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述纯铝皮膜的纯度为 99. 7%以上。
3. 根据权利要求1或2所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述纯铝皮膜的表面 粗度为RaO. 5?5μπι的范围。
4. 根据权利要求1至3的任一项所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述纯铝皮 膜被研磨平滑化。
5. 根据权利要求1至4的任一项所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述纯铝皮 膜的厚度为3 μ m以上50 μ m以下。
6. 根据权利要求1至5的任一项所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述纯铝皮 膜为通过喷镀或蒸镀形成的。
7. 根据权利要求1至6的任一项所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述纯铝皮 膜形成后，进行铝阳极氧化处理，染色或电解着色，进一步进行封孔处理。
8. 根据权利要求7所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述封孔处理后，在其外侧 进一步形成树脂皮膜。
9. 根据权利要求8所述的防尘薄膜组件框架，其特征在于：所述树脂皮膜的材质从由 丙烯酸树脂，聚酯树脂，硅酮树脂，氟树脂构成的群中进行选择。
10. -种防尘薄膜组件，其特征在于：由权利要求1至9的任一项所述的防尘薄膜组件 框架构成。
【文档编号】G03F1/64GK104102089SQ201410150086
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年4月15日 优先权日:2013年4月15日
【发明者】関原一敏 申请人:信越化学工业株式会社