一种液晶显示屏及制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种液晶显示屏及制造方法，属于电子【技术领域】。所述液晶显示屏包括第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦层和第一配向层，所述平坦层设置在所述彩膜基板的下表面，所述第一基板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层设置在所述平坦层下表面，所述第一配向层设置在所述第一绝缘层下表面。本发明通过所述液晶显示屏及制造方法，提高了产品的良率。
【专利说明】一种液晶显示屏及制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及电子【技术领域】，特别涉及一种液晶显示屏及制造方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示面板主要由有源元件阵列基板、彩膜基板以及一液晶层所组成。当在彩膜基板与有源元件阵列基板之间施加电场时，液晶层内的液晶分子便会受到电场的作用而产生偏转，使得液晶层具有相应于此电场的光线穿透率。因此，液晶显示面板便可以依据彩膜基板与有源元件阵列基板之间的电场大小，而显示不同的灰阶画面。
[0003]为了使液晶分子快速反应以及满足广视角的需求，必须令液晶分子形成倾倒排列。对此，通常是在配向层上采用摩擦制程，即在配向层上按照一定的方向摩擦出整齐排列的沟槽，与配向层接触的液晶会由于沟槽方向以及分子间的作用力而达到定向排列的效果O
[0004]配向层与平坦层之间的附着力差，且由于平坦层一般硬度较小，不利于配向层的印刷以及配向层的摩擦配向。一旦印刷不均匀或者摩擦不均匀，均会影响产品良率。
【发明内容】
[0005]本发明实施例提供了一种液晶显示屏及制造方法，以提高产品的良率。
[0006]一方面，本发明实施例提供了一种液晶显示屏，包括第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦层和第一配向层，所述平坦层设置在所述彩膜基板的下表面，所述第一基板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层设置在所述平坦层下表面，所述第一配向层设置在所述第一绝缘层下表面。
[0007]第二方面，本发明实施例提供了一种液晶显示屏的制造方法，所述方法包括制作第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦层和第一配向层，包括:
[0008]在彩膜基板下表面上涂布平坦层；
[0009]在所述平坦层下表面溅射或气相沉积第一绝缘层；
[0010]在所述第一绝缘层下表面印刷第一配向层。
[0011]本发明提供的技术方案带来的有益效果是:
[0012]从上述本发明实施例可知，由于第一基板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层设置在所述平坦层下表面，所述第一配向层设置在所述第一绝缘层下表面，增强了第一配向层在第一基板上的附着性，且第一绝缘层较平坦层硬度大，有利于第一配向层的印刷以及配向摩擦，因此，提高了产品的良率。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为本发明一种液晶显示屏第一基板结构示意图；
[0015]图2为本发明一种液晶显示屏第二基板结构示意图；
[0016]图3为本发明一种液晶显示屏的制造方法的实施例第一基板制造流程图；
[0017]图4为本发明一种液晶显示屏的制造方法的实施例第二基板制造流程图。
【具体实施方式】
[0018]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
[0019]参见图1，本发明实施例提供了一种液晶显示屏，包括第一基板01，所述第一基板01包括彩膜基板11、平坦层12和第一配向层13，所述平坦层12设置在所述彩膜基板11的下表面，所述第一基板01还包括第一绝缘层14，所述第一绝缘层14设置在所述平坦层12下表面，所述第一配向层13设置在所述第一绝缘层14下表面。
[0020]具体实施中，第一绝缘层14材料可为二氧化硅。
[0021]具体实施中，第一绝缘层14材料可为氮化硅，所述氮化硅的厚度为30nm。
[0022]具体实施中，所述第一绝缘层的硬度大于所述平坦层的硬度。有利于第一配向层的印刷以及配向摩擦。
[0023]具体实施中，所述平坦层远离所述彩膜基板的一侧具有第一表面，所述第一配向层在所述第一表面上的投影被所述绝缘层在所述第一表面上的投影部分或全部覆盖。
[0024]具体实施中，所述绝缘层在垂直于所述第一表面上的厚度大于所述配向层在垂直于所述第一表面上的厚度。
[0025]参见图2，一种液晶显示屏，还包括第二基板02，所述第二基板02与所述第一基板01间隔设置，所述第二基板包括衬底21、薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor,TFT) 22、第二绝缘层23和第二配向层24，所述薄膜场效应晶体管22设置在所述衬底21上表面，所述第二绝缘层23设置在所述薄膜场效应晶体管22上表面，所述第二配向层24设置在所述第二绝缘层23上表面。
[0026]本实施例通过第一基板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层设置在所述平坦层下表面，所述第一配向层设置在所述第一绝缘层下表面，增强了第一配向层在第一基板上的附着性，且第一绝缘层较平坦层硬度大，有利于第一配向层的印刷以及配向摩擦，因此，提闻了广品的良率。
[0027]与一种液晶显示屏实施例相对应，本发明还提供了一种液晶显示屏的制造方法的实施例。
[0028]如图3所示，一种液晶显示屏的制造方法，所述方法包括制作第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦层和第一配向层，包括:在彩膜基板下表面上涂布平坦层；在所述平坦层下表面溅射或气相沉积第一绝缘层；在所述第一绝缘层下表面印刷第一配向层。
[0029]具体实施中，第一绝缘层材料可为二氧化硅。
[0030]具体实施中，第一绝缘层材料可为氮化硅，所述氮化硅的厚度为30nm。
[0031]具体实施中，所述第一绝缘层的硬度大于所述平坦层的硬度；所述绝缘层在垂直于所述第一表面上的厚度大于所述配向层在垂直于所述第一表面上的厚度。[0032]如图4所示，一种液晶显示屏的制造方法还包括:在衬底上表面镀膜和显影薄膜场效应晶体管TFT ;在所述TFT上表面溅射或气相沉积第二绝缘层；在所述第二绝缘层下表面印刷第二配向层。
[0033]本实施例通过在彩膜基板下表面上设置平坦层；在所述平坦层下表面溅射或气相沉积第一绝缘层；在所述第一绝缘层下表面设置第一配向层，增强了第一配向层在第一基板上的附着性，且第一绝缘层较平坦层硬度大，有利于第一配向层的印刷以及配向摩擦，因此，提闻了广品的良率。
[0034]上述本发明实施例序号仅仅为了描述，不代表实施例的优劣。
[0035]以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种液晶显示屏，包括第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦层和第一配向层，所述平坦层设置在所述彩膜基板的下表面，其特征在于，所述第一基板还包括第一绝缘层，所述第一绝缘层设置在所述平坦层下表面，所述第一配向层设置在所述第一绝缘层下表面。
2.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第一绝缘层材料为二氧化硅。
3.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第一绝缘层材料为氮化硅，所述氮化娃的厚度为30nm。
4.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述第一绝缘层的硬度大于所述平坦层的硬度。
5.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述平坦层远离所述彩膜基板的一侧具有第一表面，所述第一配向层在所述第一表面上的投影被所述绝缘层在所述第一表面上的投影部分或全部覆盖。
6.根据权利要求1所述的液晶显示屏，其特征在于，所述绝缘层在垂直于所述第一表面上的厚度大于所述配向层在垂直于所述第一表面上的厚度。
7.一种液晶显示屏的制造方法，所述方法包括制作第一基板，所述第一基板包括彩膜基板、平坦层和第一配向层，其特征在于，所述方法还包括: 在所述彩膜基板下表面上涂布平坦层； 在所述平坦层下表面溅射或气相沉积第一绝缘层； 在所述第一绝缘层下表面印刷第一配向层。
8.根据权利要求7所述的液晶显示屏的制造方法，其特征在于，所述第一绝缘层材料为二氧化硅。
9.根据权利要求7所述的液晶显示屏的制造方法，其特征在于，所述第一绝缘层材料为氮化娃，所述氮化娃的厚度为30nm。
10.根据权利要求7所述的液晶显示屏的制造方法，其特征在于，所述第一绝缘层的硬度大于所述平坦层的硬度；所述绝缘层在垂直于所述第一表面上的厚度大于所述配向层在垂直于所述第一表面上的厚度。
【文档编号】G02F1/1337GK103995395SQ201410210003
【公开日】2014年8月20日 申请日期:2014年5月16日 优先权日:2014年5月16日
【发明者】王士敏, 张超, 赵约瑟, 刘立峰, 李绍宗 申请人:深圳莱宝高科技股份有限公司