正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜和用其制备的显示装置制造方法

文档序号:2712577阅读:106来源:国知局
正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜和用其制备的显示装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜和用其制备的显示装置。所述正性光敏树脂组合物包括:(A)碱溶性树脂;(B)光敏重氮醌化合物;(C)包含由化学式1或化学式2表示的化合物中的至少一种的第一溶解控制剂;(D)包含由化学式3表示的化合物的第二溶解控制剂;以及(E)溶剂。
【专利说明】正性光敏树脂组合物、光敏树脂膜和用其制备的显示装置
[000。 相关申请的引用
[0002] 本申请要求于2013年8月13日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号 10-2013-0096165的优先权和权益,通过引用将其全部内容并入本文中。

【技术领域】
[0003] 本公开涉及正性光敏树脂组合物W及光敏树脂膜和通过使用其制备的显示装置 (显示器件)。

【背景技术】
[0004] 用于半导体器件的表面保护层和层间绝缘膜使用具有优异的耐热性、电特性、机 械特性等的聚醜亚胺树脂。近来,聚醜亚胺树脂已经被用作光敏聚醜亚胺前体组合物。光 敏聚醜亚胺前体组合物容易被涂覆在半导体装置上,通过紫外(UV)线进行图案化、显影W 及热醜亚胺化,从而形成表面保护层、层间绝缘膜等。因此,与常规非光敏聚醜亚胺前体组 合物相比,光敏聚醜亚胺前体组合物可W显著地缩短加工时间。然而,由于聚醜胺酸的駿 酸过高地溶于碱中,因此正性光敏聚醜亚胺前体组合物具有不能获得期望图案的问题。为 了解决该问题,已经建议具有酷轻基的材料(专利特许公开PyonglO-307393)代替駿酸, 但是该种材料不足够开发并且已经引入膜损失或树脂从基板脱层的问题。近来,通过将聚 苯并嗯哇前体和重氮蔡酿化合物混合制备的另一材料已经引起关注(日本专利特许公开 Sho63-96162)。然而,当被实际用作聚苯并嗯哇前体组合物时,未曝光部分的膜损失显著增 力口,显影之后很难获得期望的图案。此外,由于用于调节溶解度的酷化合物在热固化过程中 的高温下分解,引起副反应等,并且对固化膜的机械性能造成巨大损害,因此要求对溶解控 制剂进行研究。


【发明内容】

[0005] 本发明的一个实施方式提供了具有曝光部分和未曝光部分之间的改善的对比度、 W及高灵敏度(敏感性)和高分辨率的正性光敏树脂组合物。
[0006] 本发明的另一个实施方式提供了使用该正性光敏树脂组合物的光敏树脂膜。
[0007] 本发明的又一个实施方式提供了包括该光敏树脂膜的显示装置。
[0008] 本发明的一个实施方式提供了一种正性光敏树脂组合物,包含:(A)碱溶性树脂; 炬)光敏重氮酿化合物;(C)包含由W下化学式1或化学式2表示的化合物中的至少一种 的第一溶解控制剂;(D)包含由W下化学式3表示的化合物的第二溶解控制剂;W及巧)溶 剂。
[000引[化学式U[0010]

【权利要求】
1. 一种正性光敏树脂组合物,包括: ㈧碱溶性树脂; (B) 光敏重氮醌化合物; (C) 包含由以下化学式1或化学式2表示的化合物中的至少一种的第一溶解控制剂; (D) 包含由以下化学式3表示的化合物的第二溶解控制剂;以及 (E) 溶剂:
其中,在以上化学式1和2中, R1和R2独立地是氢、或取代或未取代的Cl至C30烷基, m和η是1至5的整数,以及
R3至R8独立地是氢、羟某、或取代或去取代的Cl革镋某. [化学式3] 其中,在以上化学式3中, L 是 0、CO、CONH、NH、S2、SO、SO2 或单键, R9和Rltl独立地是氢、取代或未取代的Cl至C30烷基、或取代或未取代的C6至C30芳 基,以及 〇和P独立地是1至5的整数。
2. 根据权利要求1所述的正性光敏树脂组合物,其中,所述第二溶解控制剂具有150°C 至350°C的沸点。
3. 根据权利要求1所述的正性光敏树脂组合物,其中,所述碱溶性树脂是聚苯并噁唑 前体、聚酰亚胺、或它们的组合。
4. 根据权利要求1所述的正性光敏树脂组合物,其中,所述正性光敏树脂组合物进一 步包含硅烷偶联剂、热生酸剂、或它们的组合。
5. 根据权利要求1所述的正性光敏树脂组合物,其中,基于100重量份的所述碱溶性树 脂(A),所述正性光敏树脂组合物包括: 5重量份至100重量份的所述光敏重氮醌化合物(B), 1重量份至60重量份的所述第一溶解控制剂(C), 1重量份至20重量份的所述第二溶解控制剂(D),以及 10重量份至900重量份的所述溶剂(E)。
6. -种通过使用根据权利要求1所述的正性光敏树脂组合物形成的光敏树脂膜。
7. -种包括根据权利要求6所述的光敏树脂膜的显示装置。
【文档编号】G03F7/039GK104375379SQ201410211550
【公开日】2015年2月25日 申请日期:2014年5月19日 优先权日:2013年8月13日
【发明者】权志伦, 姜真熙, 金大润, 金上权, 金尚洙, 金容台, 卢健培, 朴银碧, 白载烈, 宋在焕, 尹银卿, 李范珍, 李种和, 李珍泳, 洪忠范, 黄银夏, 黄仁澈 申请人:第一毛织株式会社
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