用于制造装饰基板上的抗蚀图案或导电图案的转印型感光性导电膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供可抑制在具有高低差的装饰基板上形成抗蚀图案或导电图案时产生气泡的、可在装饰基板上的抗蚀图案或导电图案的制造中优选使用的转印型感光性导电膜。转印型感光性导电膜具备支撑膜、设置在所述支撑膜上的导电膜、设置在所述导电膜上的感光性树脂层、以及设置在所述感光性树脂层上的实施了压花加工的保护膜。
【专利说明】用于制造装饰基板上的抗蚀图案或导电图案的转印型感光 性导电膜
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及用于制造装饰基板上的抗蚀图案或导电图案的转印型感光性导 电膜。特别是涉及能制造可作为液晶显示元件等平板显示器、触摸面板（触摸屏）、太阳能 电池、照明等装置的电极配线使用的导电图案的转印型感光性导电膜。
【背景技术】
[0002] 在个人电脑或者电视机等大型电子设备、汽车导航系统、手机、电子辞典等小型电 子设备、0A/FA设备等的显示设备等中，液晶显示元件及触摸面板正在普及。近年来，面向 这种中小型液晶面板的高性能化，正在探讨护罩玻璃一体型触摸面板。
[0003] 根据这种方式，触摸面板可以由以往的护罩玻璃、触摸面板和液晶面板这3张构 成削减成2张构成，可以预见到设备的薄型化及制造成本的削减。另外，由于没有了在以往 的触摸面板中为必需的玻璃基板或膜基板，因此具有界面反射降低、可视性提高的优点。
[0004] 然而，作为触摸面板的透明电极形成材料，以往一直使用ΙΤ0(氧化铟锡）、氧化 铟、氧化锡等，因为它们会对可见光显示出高的透射率。液晶显示元件用基板等中设置的透 明电极使用对由上述材料构成的透明导电膜进行布图而得到的电极。
[0005] ΙΤ0膜或氧化锡膜一般通过溅射法形成，但根据溅射方式的不同、溅射功率或气 压、基板温度、环境气体的种类等，透明导电膜的性质容易变化。另外，该方法中存在下述问 题：无法对高低差（台阶）部分进行蒸镀，或者当基材为PET膜时，基材因溅射时的热而发 生收缩。
[0006] 近年来，尝试了使用替代ΙΤ0、氧化铟及氧化锡等的材料来形成透明的导电图案。 例如公开了下述的导电图案的形成方法：在基板上形成含有银纤维等导电性纤维的导电膜 及在该导电膜上形成感光性树脂层，自其上方隔着图案掩模进行曝光、显影（参照专利文 献1或2)。
[0007] 现有技术文献
[0008] 专利文献
[0009] 专利文献1 :国际公开第2010/021224号
[0010] 专利文献2 :国际公开第2013/051516号 实用新型内容
[0011] 实用新型要解决的技术问题
[0012] 但是，护罩玻璃一体型触摸面板也有时在实施了数μ m装饰的基材上直接形成电 极，将上述专利文献记载的感光性导电膜贴合在该装饰基板上时，膜不会完全追随高低差， 气泡或龟裂进入到膜与基板之间，以其为主要原因而存在断线或者无法形成图案这样的问 题。
[0013] 本实用新型鉴于上述事实而完成，其目的在于提供能够抑制在具有高低差的装饰 基板上形成抗蚀图案或导电图案时产生气泡的、可在装饰基板上的抗蚀图案或导电图案的 制造中优选使用的转印型感光性导电膜。
[0014] 用于解决技术问题的方法
[0015] 本实用新型提供以下的具体方式。
[0016] 〈1> 一种转印型感光性导电膜，其具备支撑膜、设置在所述支撑膜上的导电膜、设 置在所述导电膜上的感光性树脂层、以及设置在所述感光性树脂层上的实施了压花加工的 保护膜。
[0017] 〈2>上述〈1>所述的转印型感光性导电膜，其中，所述导电膜与所述感光性树脂层 的总厚度为10 μ m以上。
[0018] 〈3>上述〈2>所述的转印型感光性导电膜，其中，所述保护膜的所述感光性树脂层 侧的算术平均粗糙度Ra在将所述感光性树脂层的厚度设为T时，为0. 5 μ m以上且0. 2T μ m 以下。
[0019] 〈4>上述〈1>所述的转印型感光性导电膜，其在400nm?700nm的波长区域内的平 均透光率为80%以上。
[0020] 〈5>上述〈2>所述的转印型感光性导电膜，其在400nm?700nm的波长区域内的平 均透光率为80%以上。
[0021] 〈6>上述〈3>所述的转印型感光性导电膜，其在400nm?700nm的波长区域内的平 均透光率为80%以上。
[0022] 〈7>-种转印型感光性导电膜卷，其具备卷芯和卷绕在所述卷芯上的转印型感光 性导电膜，所述转印型感光性导电膜是上述〈1>?〈6>中任一项所述的转印型感光性导电 膜。
[0023] 实用新型效果
[0024] 根据本实用新型，可以抑制在具有高低差的装饰基板上形成抗蚀图案或导电图案 时产生气泡。
【专利附图】
【附图说明】
[0025] 图1是表示本实用新型中能够使用的转印型感光性导电膜的一个实施方式的示 意截面图。
[0026] 图2是表示本实用新型中能够使用的转印型感光性导电膜的一个实施方式的示 意截面图。
[0027] 图3是表示本实用新型中能够使用的转印型感光性导电膜的一个实施方式的部 分切开立体图。
[0028] 图4是表示本实用新型中能够使用的装饰基板一个实施方式的示意图。
[0029] 图5是表示按照本实用新型在装饰基板上层压转印型感光性导电膜的形态的截 面图。
[0030] 图6是表示利用光学显微镜观察实施例及比较例的装饰基板与转印型感光性导 电膜的界面时的测定位置的图。
[0031] 图7是表示利用光学显微镜观察图5状态的装饰基板与感光性导电膜的界面的照 片（实施例1)。
[0032] 图8是表示利用光学显微镜观察图5状态的装饰基板与感光性导电膜的界面的照 片（比较例1)。
[0033] 符号说明
[0034] 1支撑膜
[0035] 2导电膜
[0036] 2a导电图案
[0037] 3感光性树脂层
[0038] 3a树脂固化层
[0039] 4感光层
[0040] 5实施了压花加工的保护膜
[0041] 10、12感光性导电膜
[0042] 20装饰基板
【具体实施方式】
[0043] 以下详细地说明本实用新型的实施方式。
[0044] 图1是表示本实用新型中能够使用的转印型感光性导电膜的一个实施方式的示 意截面图。图1所示的转印型感光性导电膜10具有支撑膜1、设置在支撑膜1上的感光层 4、以及设置在感光层4上的实施了压花加工的保护膜5。感光层4由设置在支撑膜1上的 导电膜2和设置在导电膜2上的感光性树脂层3构成。此外，图1所示的转印型感光性导 电膜在所述感光层4的支撑膜侧的面具有导电性的范围内示出了感光层含有导电性纤维 的形态。
[0045] 图2是表示本实用新型中能够使用的转印型感光性导电膜的一个实施方式的示 意截面图。图2所示的实施方式除了保护膜5的实施了压花加工的面的形状不同之外，与 已经说明过的图1所示的实施方式相同。如图1及图2所示，压花加工的形状并无特别限 定。
[0046] 作为支撑膜1,可以使用聚合物膜，优选具有耐热性和耐溶剂性的聚合物膜。作为 这种聚合物膜，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚碳酸酯膜。其 中，从透明性或耐热性的观点出发，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。
[0047] 上述聚合物膜为了在之后容易从感光层4上剥离，还可经过脱模处理。
[0048] 支撑膜1的厚度从机械强度的观点出发，优选为5 μ m以上、更优选为10 μ m以上、 进一步优选为15 μ m以上。通过使支撑膜1的厚度为上述数值以上，例如在为了形成导电 膜2而涂布导电体分散液等的工序中、在为了形成感光性树脂层3而涂布感光性树脂组合 物的工序中、或者从感光层4上剥离支撑膜1的工序中，可以防止支撑膜1破裂。另外，从 隔着支撑膜1对感光性树脂层3照射活性光线时充分确保导电图案的析像度的观点出发， 支撑膜1的厚度优选为100 μ m以下、更优选为80 μ m以下、进一步优选为60 μ m以下。
[0049] 支撑膜1的雾度值从能够使感度及析像度变得良好的观点出发，优选为0. 01 %? 5.0%、更优选为0.01%?3.0%、进一步优选为0.01?％?2.0%、特别优选为0.01%? 1.5%。此外，雾度值可以使用雾度计（日本电色工业株式会社制；NDH-5000)、根据JIS K 7105进行测定。
[0050] 导电膜2可以含有选自无机导电体及有机导电体中的至少1种导电体。只要可获 得导电膜2的导电性，则可没有特别限定地使用无机导电体及有机导电体，这些导电体可 单独使用或者组合使用2种以上。
[0051] 作为无机导电体，可举出后述的金属纤维。作为有机导电体，可举出导电性聚合 物。作为导电性聚合物，可以使用选自聚噻吩、聚噻吩衍生物、聚苯胺及聚苯胺衍生物中的 至少1种导电体。例如，可以组合使用聚乙烯二氧噻吩、聚己基噻吩及聚苯胺中的1种或2 种以上。导电膜2含有有机导电体而构成时，优选含有有机导电体和感光性树脂。
[0052] 导电膜2优选含有导电性纤维。通过导电膜含有导电性纤维，可以兼顾导电性和 透明性，可以形成显影性进一步提高、析像度优异的导电图案。
[0053] 作为上述导电性纤维，例如可举出金、银、铜、钼等的金属纤维、碳纳米管等碳纤维 等。它们可单独使用或者组合使用2种以上。从导电性的观点出发，优选使用金纤维或银 纤维，从可以容易地调整导电膜的导电性的观点出发，更优选使用银纤维。
[0054] 上述金属纤维例如可通过利用NaBH4等还原剂将金属离子还原的方法或者多元 醇法来进行制备。另外，上述碳纳米管可以使用Unidym公司的Hipco单层碳纳米管等市售 品。
[0055] 导电性纤维的纤维径优选为lnm?50nm、更优选为2nm?20nm、进一步优选为 3nm?10nm。另夕卜，导电性纤维的纤维长优选为1 μ m?100 μ m、更优选为2 μ m?50 μ m、 进一步优选为3 μ m?10 μ m。纤维径及纤维长可通过扫描型电子显微镜测定。
[0056] 图3是表示本实用新型中能够使用的转印型感光性导电膜的一个实施方式的部 分切开立体图。图3所示的转印型感光性导电膜12具有支撑膜1和设置在支撑膜1上的 感光层4。感光层4由设置在支撑膜1上的导电膜2和设置在导电膜2上的感光性树脂层 3构成。导电膜2如图3所示，优选具有导电性纤维之间接触而成的交联网状结构。具有这 种交联网状结构的导电膜2可以形成在感光性树脂层3的支撑膜1侧的表面上，但如果在 剥离支撑膜1时露出的感光层4的表面上沿其面方向可获得导电性，则也可以以感光性树 脂层3的一部分进入导电膜2中的形态形成，还可以以在感光性树脂层3的支撑膜1侧的 表层中含有导电膜2的形态形成。
[0057] 导电膜2例如如下形成：将含有上述无机导电体和有机导电体中的一种以上、水 或有机溶剂、以及根据需要的表面活性剂等分散稳定剂的导电体分散液或导电体溶液涂布 在支撑膜1上，之后进行干燥而形成。涂布例如可以利用辊涂法、逗点涂布法、凹版涂布法、 气刀涂布法、模涂法、棒涂法、喷涂法等公知的方法进行。另外，干燥可以在30°C?150°C 下、利用热风对流式干燥机等进行1?30分钟左右。导电膜2中，无机导电体或有机导电 体也可与表面活性剂或分散稳定剂共存。导电膜2也可以是由将多个导电体分散液或导电 体溶液依次涂布在支撑膜1上并进行干燥而获得的多个膜构成的导电膜。
[0058] 导电膜2的厚度根据所形成的导电图案的用途或所需的导电性而不同，优选为 1 μ m以下、更优选为lnm?0. 5 μ m、进一步优选为5nm?0. 1 μ m。导电膜2的厚度为1 μ m 以下时，400?700nm的波长区域内的透光率足够高，图案形成性也优异，特别适于透明电 极的制作。另外，导电膜2的厚度是指利用扫描型电子显微镜照片测定的值。
[0059] 在支撑膜1上形成导电膜2之后，可以进一步设置感光性树脂层3。另外，还可根 据需要将形成于支撑膜1的导电膜2层压在设置于基板上的感光性树脂层3上。
[0060] 感光性树脂层3可以由含有（a)粘合剂聚合物、（b)具有烯键式不饱和键的光聚 合性化合物及（c)光聚合引发剂的感光性树脂组合物形成。感光性树脂层3通过含有上述 成分，可以进一步提高基板与导电图案的粘接性以及图案形成性。这些物质可以没有特别 限定地使用公知的物质。
[0061] 感光层4的厚度根据用途而不同，以干燥后的厚度计优选为5 μ m?50 μ m、更优选 为10 μ m?50 μ m、进一步优选为10 μ m?40 μ m、特别优选为12 μ m?40 μ m、极其优选为 14 μ m?35 μ m。该厚度为5 μ m以上时，可以追随性良好地层压在具有5 μ m以下高低差的 装饰基板上，厚度为10 μ m以上时，可以追随性更好地进行层压。即，在相对于所述装饰基 板的高低差X、所述感光层的厚度为2X以上时，可以追随性更好地进行层压，为3X以上时， 可以进一步追随性良好地进行层压。
[0062] 从透光性的观点出发，感光层4的厚度优选为50 μ m以下、更优选为40 μ m以下、 进一步优选为35 μ m以下。从感光层4的光固化性的观点出发是优选的。感光层4的厚度 可利用扫描型电子显微镜进行测定。
[0063] 感光性导电膜10中，感光层4 (上述导电膜2及上述感光性树脂层3的层叠体） 优选400nm?700nm的波长区域内的平均透光率为80%以上、更优选为85%以上。感光层 4满足这种条件时，显示器面板等的透明性进一步提高。
[0064] 对于本实用新型的转印型感光性导电膜，按照与感光层的支撑膜侧相反侧的面相 接触的方式进一步设置实施了压花加工的保护膜。此外，压花加工的形状也可以是除图1 或图2所示形状以外的形状。通过使用实施了压花加工的膜，可将微细的拉深花纹转印到 感光层树脂层3的表面上，可以形成压接时的空气通道。
[0065] 作为保护膜，可以使用具有表面粗糙度的具有耐热性和耐溶剂性的聚合物膜。作 为聚合物膜，可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚丙烯膜、聚乙烯膜等。另外，作为保护膜， 也可使用与上述支撑膜相同的聚合物膜。
[0066] 具有表面粗糙度的保护膜例如可通过使拉伸聚乙烯膜在表面加工了所谓绉纹的 花纹等的金属辊与橡胶辊之间通过来获得。如此获得的膜被称作绉纹加工膜或压花加工膜 等。另外，使微粒均匀地分散在膜中也可获得具有表面粗糙度的保护膜。获得具有表面粗 糙度的保护膜的方法并非限定于这些方法。
[0067] 表面粗糙的形状并无特别限定（例如参照图1或图2)，但所述保护膜的与感光 层相接触的面的凹凸的表面粗糙度从抑制层压时产生的气泡的观点出发，以算术平均粗糙 度（Ra)计，在将感光层4的厚度设为T时，优选为0. 5 μ m以上且0. 2T μ m以下，更优选为 1. Ομπι以上且0. 2Τμπι以下，进一步优选为1. Ιμπι以上且0. 2Τμπι以下。
[0068] 保护膜5的算术平均粗糙度（Ra)由JIS Β0601 :2013定义，例如可按照下述顺序 进行测定。
[0069] (a)从保护膜切出5cmX 10cm的测定样品。
[0070] (b)利用吸管将1滴水滴在平坦的玻璃基板（10cmX 10cm)上后，按照不进入气泡 的方式利用清洁辊将测定样品压接在玻璃基板上。
[0071] (C)利用压板将测定样品的长度方向两端固定，任意选择10处测定样品中的测定 区域（284. 1 μ mX 213. 1 μ m 的区域）。
[0072] (d)使用形状测定激光显微镜（VK_X200、KEYENCE株式会社制），以物镜50倍观察 测定区域，同时测定算术平均粗糙度（Ra)及最大高度（Rmax)，然后算出共计10处的平均 值。
[0073] (e)反复进行上述工序（a)?（d)，共计获取3次测定值，采用反复3次的平均值 作为算术平均粗糙度（Ra)。
[0074] 保护膜的厚度优选为1 μ m?100 μ m、更优选为5μηι?50 μ m、进一步优选为 5 μ m?40 μ m、特别优选为15 μ m?30 μ m。保护膜的厚度从机械强度优异的方面出发优选 为1 μ m以上，从变得比较廉价的方面出发优选为100 μ m以下。
[0075] 为了将保护膜从感光性树脂层3上容易地剥离，保护膜与感光性树脂层3之间的 粘接力优选小于支撑膜1与感光层4(导电膜2及感光性树脂层3)之间的粘接力。
[0076] 另外，保护膜优选保护膜中所含的直径为80 μ m以上的鱼眼数为5个/m2以下。 需要说明的是，"鱼眼"是在将材料进行热熔融、利用混炼、挤出、双轴拉伸、流延法等制造膜 时、材料的异物、未溶解物、氧化劣化物等进入到膜中所产生的。
[0077] 从在要求透明性的触摸面板用途等中进行使用的观点出发，转印型感光性导电膜 10在400nm?700nm的波长区域内的平均透光率优选为80%以上、更优选为85%以上。透 光率可利用UV分光计（例如株式会社日立制作所制、228A型W光束分光光度计及紫外可见 分光光度计（U-3310))、雾度计（例如日本电色工业株式会社制、制品名"NDH5000"）等进 行测定。
[0078] 感光性导电膜10例如可以以原样的平板状的形态或者卷绕在圆筒状等的卷芯上 以卷状的形态进行储存。
[0079] 本实用新型的一个实施方式中，转印型感光性导电膜卷具备卷芯和卷绕在所述卷 芯上的转印型感光性导电膜，所述转印型感光性导电膜是已经说明过的本实用新型的转印 型感光性导电膜。另外，此时优选按照支撑膜1处于最外侧的方式进行卷绕。
[0080] 作为卷芯，只要是以往使用的则无特别限定，可举出聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚 苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、ABS树脂（丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物）等塑料。另外， 从端面保护的观点出发，优选在卷绕成卷状的感光性导电膜的端面设置端面隔离物，进而 从耐边缘融合的观点出发，优选设置防湿端面隔离物。另外，在捆包感光性导电膜时，优选 包装在透湿性小的黑铁皮中。
[0081] 本实用新型的一个实施方式中，转印型感光性导电膜优选是具备支撑膜、设置在 所述支撑膜上的导电膜、设置在所述导电膜上的感光性树脂层、以及设置在所述感光性树 脂层上的实施了压花加工的保护膜的转印型感光性导电膜。通过具有这种构成，可形成可 靠性优异的透明电极图案。另外，所述导电膜与所述感光性树脂层的总厚度更优选为10 μ m 以上。
[0082] 本实用新型中能够使用的装饰基板除了具有高低差之外，没有特别限定。
[0083] 图4是表示本实用新型中能够使用的装饰基板的一个实施方式的示意图。
[0084] 作为装饰基板20,可举出玻璃基板、环烯烃聚合物膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚 碳酸酯等塑料基板。装饰基板20的高低差的厚度X可根据使用目的适当选择。
[0085] 装饰基板是对基板实施了数μ m的装饰高低差的基板，该高低差通常要求为 10 μ m左右，更优选为10 μ m以下、进一步优选为5 μ m以下、再进一步优选为3 μ m以下。
[0086] 相对于高低差X，感光层4的厚度优选为1. 5X以上、更优选为2X以上、进一步优选 为3X以上。
[0087] 装饰基板20优选400nm?700nm的波长区域内的最小透光率为80%以上。装饰 基板20在满足这种条件时，显不器面板等中的1?壳度化变得容易。
[0088] 转印型感光性导电膜在装饰基板上的层压优选通过真空层压来进行。层压工序例 如可举出将转印型感光性导电膜10在除去保护膜之后一边加热一边将感光层4侧压接在 基板20上来进行层叠的方法。该工序从密合性、追随性及残存气泡的除去的立场出发，在 减压下进行层叠。减压度优选为10hPa以下，但并非特别限定于该条件。
[0089] 转印型感光性导电膜10的层叠优选将感光层树脂3及/或装饰基板20加热至 70°C?130°C、优选使压接压力为0· IMPa?l.OMPa左右（lkgf/cm2?10kgf/cm2左右），但 并非特别限定于这些条件。另外，如果将感光性树脂层3如上所述加热至70°C?130°C，则 没有必要预先对装饰基板20进行预热处理，但为了进一步提高层叠性，也可进行装饰基板 20的预热处理。
[0090] 图5是表示按照本实用新型在装饰基板上层压转印型感光性导电膜的形态的截 面图。
[0091] 根据本实施方式的方法，通过将另外制作的转印型感光性导电膜10层压在装饰 基板20上来设置感光层4,可以更为简便地将感光层4形成在装饰基板20上，可以谋求生 广率的提商。
[0092] 通过使用本实用新型的转印型感光性导电膜层压在装饰基板上，可以在装饰基板 上形成导电图案。之后，通过对层压在装饰基板上的转印型感光性导电膜的感光性层的规 定部分照射活性光线的曝光工序和在所述曝光工序之后将所述感光层的所述规定部分以 外的部分除去，可以形成导电图案。
[0093] 曝光工序和显影工序的条件可以参照上述专利文献1及2的内容进行调整。
[0094] 通过本实用新型形成的具有带有导电图案的装饰基板的电子部件由于在层压时 产生气泡的情况减少，因此会抑制透明电极的断线等，成为可靠性高的电子部件。
[0095] 实施例
[0096] 以下根据实施例具体地说明本实用新型，但本实用新型并非限定于此。
[0097] (实施例1)
[0098] 〈转印型感光性导电膜的制作〉
[0099][导电膜（感光性导电膜的导电膜）W1的制作]
[0100] 相对于银纳米线分散溶液（Cambrios株式会社制、ClearOhm Ink-A AQ)每30 质量份，添加超纯水（和光纯药工业社制、超纯水Ultrapure Water) 70质量份、防锈剂 (Cambrios株式会社制、ClearOhm SFT_D)0. 12质量份，制备导电膜形成用涂料。在50μηι 厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET膜、东洋纺株式会社制、商品名"Α1517"）上以30g/m 2均匀 地涂布该导电膜形成用涂料，利用50°C的热风对流式干燥机干燥30分钟，形成导电膜W1。 导电膜干燥后的膜厚为〇. 1 μ m。
[0101] [感光性树脂组合物的溶液XI的制作]
[0102] 使用搅拌机将表1所示的材料混合15分钟，制作感光性树脂组合物的溶液XI。
[0103] 表 1
[0104]
【权利要求】
1. 一种转印型感光性导电膜，其具备支撑膜、设置在所述支撑膜上的导电膜、设置在 所述导电膜上的感光性树脂层、以及设置在所述感光性树脂层上的实施了压花加工的保护 膜。
2. 根据权利要求1所述的转印型感光性导电膜，其中，所述导电膜与所述感光性树脂 层的总厚度为10 μ m以上。
3. 根据权利要求2所述的转印型感光性导电膜，其中，所述保护膜的所述感光性树 脂层侧的算术平均粗糙度Ra在将所述感光性树脂层的厚度设为T时，为0. 5 μ m以上且 0. 2Τμπι 以下。
4. 根据权利要求1所述的转印型感光性导电膜，其在400nm?700nm的波长区域内的 平均透光率为80%以上。
5. 根据权利要求2所述的转印型感光性导电膜，其在400nm?700nm的波长区域内的 平均透光率为80%以上。
6. 根据权利要求3所述的转印型感光性导电膜，其在400nm?700nm的波长区域内的 平均透光率为80%以上。
7. -种转印型感光性导电膜卷，其具备卷芯和卷绕在所述卷芯上的转印型感光性导电 膜，所述转印型感光性导电膜是权利要求1?6中任一项所述的转印型感光性导电膜。
【文档编号】G03F7/11GK204065659SQ201420444290
【公开日】2014年12月31日 申请日期:2014年8月7日 优先权日:2013年8月7日
【发明者】吉原谦介, 田仲裕之, 中村奏美 申请人:日立化成株式会社