本发明涉及一种感光性树脂组合物。更详细来说，本发明涉及一种适于形成液晶显示装置、有机电致发光(ElectroLuminescense，EL)显示装置、触摸屏(touchpanel)、集成电路元件、固体摄像元件等电子零件的平坦化膜、保护膜及层间绝缘膜等的感光性树脂组合物。另外，本发明涉及一种硬化膜的制造方法、使感光性树脂组合物硬化而成的硬化膜、使用硬化膜的液晶显示装置、有机电致发光显示装置、触摸屏等图像显示装置。
背景技术：
：：在有机电致发光显示装置、液晶显示装置、触摸屏等图像显示装置等中，设有已形成了图案的层间绝缘膜。形成层间绝缘膜时，广泛地使用感光性树脂组合物，其原因在于：用来获得必要图案形状的工序数少，而且可获得充分的平坦性。对于图像显示装置中的层间绝缘膜，正在尝试使用丙烯酸系树脂作为形成膜的成分。关于使用丙烯酸系树脂的层间绝缘膜，例如已知专利文献1中记载的层间绝缘膜。另外，专利文献2中公开了一种含有氨基甲酸酯(carbamate)系热碱产生剂的正型感光性树脂组合物。另外，专利文献3中公开了一种含有脲(urea)系热碱产生剂的感光性树脂组合物。另外，专利文献4中公开了一种含有氨甲酰基肟(carbamoyloxime)的化学增幅型抗蚀剂材料。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2011-221494号公报[专利文献2]国际公开WO2011/136074号手册[专利文献3]日本专利特开2008-31324号公报[专利文献4]日本专利特开2008-286924号公报技术实现要素：[发明所欲解决的问题]近年来，为了以高生产性来生产高精细的显示器用面板基板，通常使用大面积的玻璃基板来进行生产。对于其中所用的感光性树脂组合物，要求进一步提高感度。进而，在制成图像显示装置时，要求显示不均进一步变良好。本发明的目的在于解决所述问题，并且其目的在于提供一种具有高感度、且可使显示不均变良好的感光性树脂组合物。另外，本发明的目的在于提供一种使用感光性树脂组合物的 硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置、有机电致发光显示装置及触摸屏。[解决问题的技术手段]发明人等进行了研究，结果发现，通过使感光性树脂组合物中含有后述的通式(I)所表示的化合物，可解决所述问题。即，本发明提供以下内容。<1>一种感光性树脂组合物，含有：包含以下聚合物的聚合物成分、产生pKa为3以下的酸的光酸产生剂、下述通式(I)所表示的化合物及溶剂，其中所述聚合物含有具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元；[化1]式(I)中，R1表示氢原子或n价有机基，R2～R5分别独立地表示氢原子或烷基，n表示1以上的整数。<2>一种感光性树脂组合物，含有：包含以下聚合物的聚合物成分、醌二叠氮化合物、下述通式(I)所表示的化合物及溶剂，其中所述聚合物含有具有酸基的结构单元；[化2]式(I)中，R1表示氢原子或n价有机基，R2～R5分别独立地表示氢原子或烷基，n表示1以上的整数。<3>根据<1>或<2>所记载的感光性树脂组合物，其中通式(I)中，R1为芳香族环基。<4>根据<1>至<3>中任一项所记载的感光性树脂组合物，其中通式(I)中，R2～R5为氢原子。<5>根据<1>至<4>中任一项所记载的感光性树脂组合物，其中聚合物成分包含以下聚合物，所述聚合物含有具有交联性基的结构单元。<6>根据<1>所记载的感光性树脂组合物，其中聚合物成分为满足下述(1-1)及(1-2)的至少一个的聚合物成分；(1-1)含有(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元、及(a1-2)具有交联性基的结构单元的聚合物，(1-2)含有(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元的聚合物、及含有(a1-2)具有交联性基的结构单元的聚合物。<7>根据<6>所记载的感光性树脂组合物，其中结构单元(a1-1)为下述式(A2′)所表示的结构单元；[化3]式(A2′)中，R21及R22分别独立地表示氢原子、烷基或芳基，R21及R22的至少一个为烷基或芳基，R23表示烷基或芳基，R21或R22与R23亦可连结而形成环状醚，R24表示氢原子或甲基，X表示单键或亚芳基。<8>根据<5>至<7>中任一项所记载的感光性树脂组合物，其中交联性基为选自环氧基、氧杂环丁基及-NH-CH2-OR所表示的基团中的一种以上；其中，R为氢原子或碳数1～20的烷基。<9>根据<1>所记载的感光性树脂组合物，其中感光性树脂组合物为化学增幅型正型感光性树脂组合物。<10>根据<1>所记载的感光性树脂组合物，其中光酸产生剂为肟磺酸酯化合物和/或鎓盐化合物。<11>根据<1>所记载的感光性树脂组合物，其中光酸产生剂为肟磺酸酯化合物。<12>一种硬化膜的制造方法，包括以下工序：将根据<1>至<11>中任一项所记载的感光性树脂组合物涂布到基板上；从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂；利用光化射线对除去了溶剂的感光性树脂组合物进行曝光；利用显影液对经曝光的感光性树脂组合物进行显影；以及使经显影的感光性树脂组合物进行热硬化。<13>根据<12>所记载的硬化膜的制造方法，其中在显影的工序后、热硬化的工序前，包括对经显影的感光性树脂组合物进行曝光的工序。<14>一种硬化膜，其是使根据<1>至<11>中任一项所记载的感光性树脂组合物硬化而成。<15>根据<14>所记载的硬化膜，其为层间绝缘膜。<16>一种液晶显示装置，具有根据<14>或<15>所记载的硬化膜。<17>一种有机电致发光显示装置，具有根据<14>或<15>所记载的硬化膜。<18>一种触摸屏，具有根据<14>或<15>所记载的硬化膜。[发明的效果]本发明可提供一种具有高感度、且可使显示不均变良好的感光性树脂组合物。另外，本发明可提供一种使用感光性树脂组合物的硬化膜的制造方法、硬化膜、液晶显示装置、有机电致发光显示装置及触摸屏。附图说明图1表示液晶显示装置的一例的构成概念图。图2表示有机EL显示装置的一例的构成概念图。图3为表示静电电容型输入装置的构成例的截面图。图4为表示前面板的一例的说明图。图5为表示第一透明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。[符号的说明]1：TFT2：配线3：绝缘膜4：平坦化膜5：第一电极6：玻璃基板7：接触孔8：绝缘膜10：液晶显示装置12：背光单元14、15：玻璃基板16：TFT17：硬化膜18：接触孔19：ITO透明电极20：液晶22：彩色滤光片30：静电电容型输入装置31：前面板32：掩模层33：第一透明电极图案33a：垫部分33b：连接部分34：第二透明电极图案35：绝缘层36：导电性要素37：透明保护层38：开口部具体实施方式以下，对本发明的内容进行详细说明。以下记载的构成要件的说明有时是根据本发明的具代表性的实施方式来进行，但本发明不限定于这些实施方式。此外，本发明说明书中，所谓“～”是以包含其前后所记载的数值作为下限值及上限值的含意而使用。本说明书的基团(原子团)的表述中，未记载经取代及未经取代的表述包含不具有取代基的基团，并且也包含具有取代基的基团。例如所谓“烷基”，不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代的烷基)，而且也包含具有取代基的烷基(经取代的烷基)。本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基。本说明书中，固体成分为25℃下的固体成分。本发明的感光性树脂组合物为以下组合物：含有聚合物成分、产生pKa为3以下的酸的光酸产生剂、后述通式(I)所表示的化合物及溶剂的组合物，其中所述聚合物成分含有具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元(第1实施方式)；或含有聚合物成分、醌二叠氮化合物、后述通式(I)所表示的化合物及溶剂的组合物，其中所述聚合物成分含有具有酸基的结构单元(第2实施方式)。推测本发明的效果的表现机制的一例如下，但只要可获得相同的效果，则并无特别限定。即，通式(I)所表示的化合物为具有羧基的化合物，且在通常的状态下具有酸性的性状。因此，在加热前的状态、特别是曝光阶段中，可使组合物成为酸性状态，通过曝光而良好地产生羧基或酚性羟基，达成优异的感度。而且，通式(I)所表示的化合物通过加热发生脱碳酸或脱水环化而失去羧基，由此在此之前经中和而非活性化的胺部位变为活性，从而成为碱性。即，在曝光后的用来进行硬化的加热中，若将通式(I)所表示的化合物加热，则进行下式的反应而生成碱。然后，可利用由通式(I)所表示的化合物产生的碱将硬化膜中游离的酸等中和。因此，可抑制由酸的影响所致的电极部等的金属变色，可使制成图像显示装置等时的显示不均变良好。[化4]本发明的感光性树脂组合物可优选地用作化学增幅型正型感光性树脂组合物。以下对本发明加以详细说明。[本发明的第1实施方式]本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物含有：(A1)含有具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元的聚合物成分、(B1)产生pKa为3以下的酸的光酸产生剂、(C)下述通式(I)所表示的化合物以及(D)溶剂。[化5]式(I)中，R1表示氢原子或n价有机基，R2～R5分别独立地表示氢原子或烷基，n表示1以上的整数。<(A1)聚合物成分>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物含有包含以下聚合物的聚合物成分，所述聚合物含有具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元(a1-1)。本发明中的“酸基经酸分解性基保护而成的基团”是指将酸作为催化剂(或起始剂)而引起脱保护反应，产生酸基、再生的酸及经分解的结构的基团。酸基及酸分解性基可使用众所周知的基团，并无特别限定。通过(A1)聚合物成分含有所述结构单元(a1-1)，可制成高感度的感光性树脂组合物。关于本发明中的“酸基经酸分解性基保护而成的基团”，酸基及酸分解性基可使用众所周知的基团，并无特别限定。具体的酸基可优选地举出羧基及酚性羟基。另外，具体的酸分解性基可举出：相对较容易利用酸而分解的基团(例如后述酯结构、四氢吡喃酯基或四氢呋喃酯基等缩醛系官能基)、或相对较难利用酸而分解的基团(例如叔丁酯基等三级烷基、叔丁基碳酸酯基等三级烷基碳酸酯基)等。本发明中，(A1)聚合物成分优选的是含有交联性基，更优选的是含有含结构单元(a1-2)的聚合物，所述结构单元(a1-2)具有交联性基。根据该实施方式，可获得表面硬度优异的硬化膜。进而，可使图像显示装置等的显示不均变得更良好。交联性基只要为一个大气压下的加热处理时的交联反应的开始温度为100℃以上的基团，则并无特别限定。交联反应的开始温度可使用众所周知的方法来分析，例如可通过利用差示扫描量热法(Differentialscanningcalorimetry，DSC)测定的方法来进行分析。优选的具有交联性基的结构单元的实施方式可举出：含有选自由环氧基、氧杂环丁基、-NH-CH2-O-R(R为氢原子或碳数1～20的烷基)所表示的基团及乙烯性不饱和基所组成的组群中的至少一个的结构单元。优选的是选自由环氧基、氧杂环丁基及-NH-CH2-O-R(R为氢原子或碳数1～20的烷基)所表示的基团中的至少一种。其中，本发明的感光性树脂组合物优选的是(A1)聚合物成分含有具有环氧基及氧杂环丁基中的至少一个的结构单元。所述结构单元(a1-2)可含有于含有所述结构单元(a1-1)的聚合物中，也可含有于与含有所述结构单元(a1-1)的聚合物不同的聚合物中。即，本发明中，(A1)聚合物成分优选的是满足下述(1-1)及(1-2)的至少一个。(1-1)含有(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元、及(a1-2)具有交联性基的结构单元的聚合物。(1-2)含有(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元的聚合物、及含有(a1-2)具有交联性基的结构单元的聚合物。以下，将(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元也称为结构单元(a1-1)。另外，将(a1-2)具有交联性基的结构单元也称为结构单元(a1-2)。(A1)聚合物成分只要无特别说明，则是指除了所述聚合物以外包含视需要而添加的其他聚合物。所述(1-1)的实施方式为含有至少一种聚合物，且聚合物含有结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)的实施方式。该聚合物也可更含有其他重复单元。另外，结构单元(a1-1)或结构单元(a1-2)可分别含有两种以上。另外，也可含有后述的其他结构单元(a1-3)。所述(1-2)的实施方式为含有至少两种聚合物，且聚合物的至少一种含有结构单元(a1-1)、聚合物的至少另一种含有结构单元(a1-2)的实施方式。(1-2)的实施方式中，含有结构单元(a1-1)的聚合物也可更含有结构单元(a1-2)或其他结构单元。同样地，含有结构单元(a1-2)的聚合物也可含有结构单元(a1-1)或其他结构单元。此种情况下，成为满足(1-1)与(1-2)两者的实施方式。所述(1-2)的实施方式的情况下，含有结构单元(a1-1)的聚合物与含有结构单元(a1-2)的聚合物的质量比例优选95∶5～5∶95，更优选80∶20～20∶80，进而优选70∶30～30∶70。(A1)聚合物成分优选加成聚合型的聚合物，更优选的是含有来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元的聚合物。此外，也可含有来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元以外的结构单元、例如来源于苯乙烯的结构单元或来源于乙烯系化合物的结构单元等。将“来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元”也称为“丙烯酸系结构单元”。<<(a1-1)具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元>>(A1)聚合物成分至少含有具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元(a1-1)。结构单元(a1-1)优选的是具有经酸分解性基保护的保护羧基的结构单元、或具有经酸分解性基保护的保护酚性羟基的结构单元。以下，依序对具有经酸分解性基保护的保护羧基的结构单元(a1-1-1)、及具有经酸分解性基保护的保护酚性羟基的结构单元(a1-1-2)分别进行说明。<<<(a1-1-1)具有经酸分解性基保护的保护羧基的结构单元>>>结构单元(a1-1-1)为具有利用以下要说明的酸分解性基将具有羧基的结构单元的羧基保护的保护羧基的结构单元。具有羧基的结构单元可无特别限制地使用众所周知的结构单元。例如可举出：来源于不饱和单羧酸、不饱和二羧酸、不饱和三羧酸等在分子中具有至少一个羧基的不饱和羧酸等的结构单元(a1-1-1-1)。以下，对结构单元(a1-1-1-1)加以说明。<<<<(a1-1-1-1)来源于分子中具有至少一个羧基的不饱和羧酸等的结构单元>>>>不饱和羧酸可举出以下所举出那样的不饱和羧酸。即，不饱和单羧酸例如可举出：丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸等。另外，不饱和二羧酸例如可举出：马来酸、富马酸、衣康酸、柠康酸、中康酸等。另外，用于获得具有羧基的结构单元的不饱和多元羧酸也可为酸酐。具体可举出马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐等。另外，不饱和多元羧酸也可为多元羧酸的单(2-甲基丙烯酰氧基烷基)酯，例如可举出：琥珀酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、琥珀酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-丙烯酰氧基乙基)酯、邻苯二甲酸单(2-甲基丙烯酰氧基乙基)酯等。进而，不饱和多元羧酸也可为其两末端二羧基聚合物的单(甲基)丙烯酸酯，例如可举出：ω-羧基聚己内酯单丙烯酸酯、ω-羧基聚己内酯单甲基丙烯酸酯等。另外，不饱和羧酸也可使用丙烯酸-2-羧基乙酯、甲基丙烯酸-2-羧基乙酯、马来酸单烷基酯、富马酸单烷基酯、4-羧基苯乙烯等。其中，从显影性的观点来看，为了形成所述结构单元(a1-1-1-1)，优选的是使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基-琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-(甲 基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸或不饱和多元羧酸的酸酐等，更优选的是使用丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸。结构单元(a1-1-1-1)可由单独一种所构成，也可由两种以上所构成。<<<<可用于结构单元(a1-1-1)的酸分解性基>>>>可用于结构单元(a1-1-1)的酸分解性基可使用上文所述的酸分解性基。这些酸分解性基中，优选的是具有以缩醛的形式经保护的结构的基团。例如从感光性树脂组合物的基本物性、特别是感度或图案形状、接触孔(contacthole)的形成性、感光性树脂组合物的保存稳定性的观点来看，优选的是以缩醛的形式保护羧基而成的保护羧基。进而，从感度的观点来看，更优选的是以通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护羧基而成的保护羧基。此外，在为以下述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护羧基而成的保护羧基的情况下，保护羧基总体成为-(C＝O)-O-CR101R102(OR103)的结构。通式(a1-10)[化6]式(a1-10)中，R101及R102分别独立地表示氢原子、烷基或芳基。其中，将R101与R102均为氢原子的情况除外。R103表示烷基或芳基。R101或R102与R103也可连结而形成环状醚。R101～R103所表示的烷基可为直链、分支、环状的任一种。直链或分支的烷基优选碳数1～12，更优选碳数1～6，进而优选碳数1～4。具体可举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、正己基、2，3-二甲基-2-丁基(thexyl)、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。环状的烷基优选碳数3～12，更优选碳数4～8，进而优选碳数4～6。所述环状烷基例如可举出：环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、降冰片基、异冰片基等。烷基也可具有取代基，取代基可例示卤素原子、芳基、烷氧基。在具有卤素原子作为取代基的情况下，R101、R102、R103成为卤代烷基，在具有芳基作为取代基的情况下，R101、R102、R103成为芳烷基。所述卤素原子可例示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，这些卤素原子中，优选氟原子或氯原子。另外，所述芳基优选碳数6～20的芳基，更优选碳数6～12，具体可例示苯基、α-甲基苯基、萘基等，将芳基取代的烷基总体、即芳烷基可例示：苄基、α-甲基苄基、苯乙基、萘基甲基等。所述烷氧基优选碳数1～6的烷氧基，更优选碳数1～4，进而优选甲氧基或乙氧基。另外，在所述烷基为环状烷基的情况下，也可具有碳数1～10的直链或分支的烷基作为取代基。另外，在烷基为直链或分支的烷基的情况下，也可具有碳数3～12的环状烷基作为取代基。这些取代基也可经所述取代基进一步取代。R101～R103所表示的芳基优选碳数6～12的芳基，更优选碳数6～10的芳基。所述芳基也 可具有取代基，所述取代基可优选地例示碳数1～6的烷基。芳基的具体例例如可例示：苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、1-萘基等。R101、R102及R103可相互键合并与这些基团所键合的碳原子一起形成环。R101与R102、R101与R103或R102与R103键合的情况的环结构例如可举出：环丁基、环戊基、环己基、环庚基、四氢呋喃基、金刚烷基及四氢吡喃基等。此外，所述通式(a1-10)中，优选的是R101及R102的任一个为氢原子或甲基。用于形成具有所述通式(a1-10)所表示的保护羧基的结构单元的自由基聚合性单量体可使用市售品，也可使用利用众所周知的方法所合成的物品。例如可利用日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0037～段落编号0040中记载的合成方法等来合成，将其内容并入到本发明说明书中。所述结构单元(a1-1-1)的第一优选实施方式为下述通式(A2′)所表示的结构单元。[化7]式(A2′)中，R21及R22分别独立地表示氢原子、烷基或芳基，R21及R22的至少一个为烷基或芳基，R23表示烷基或芳基，R21或R22与R23也可连结而形成环状醚，R24表示氢原子或甲基，X表示单键或亚芳基。在R21及R22为烷基的情况下，优选碳数1～10的烷基。在R21及R22为芳基的情况下，优选苯基。R21及R22分别优选氢原子或碳数1～4的烷基。R23表示烷基或芳基，优选碳数1～10的烷基，更优选1～6的烷基。X表示单键或亚芳基，优选单键。所述结构单元(a1-1-1)的第二优选实施方式为下述通式(1-12)所表示的结构单元。通式(1-12)[化8]式(1-12)中，R121表示氢原子或碳数1～4的烷基，L1表示羰基或亚苯基，R122～R128分别独立地表示氢原子或碳数1～4的烷基。R121优选氢原子或甲基。L1优选羰基。R122～R128优选氢原子。结构单元(a1-1-1)的优选具体例可例示下述结构单元。此外，下述结构单元中，R表示氢原子或甲基。[化9]<<<(a1-1-2)具有经酸分解性基保护的保护酚性羟基的结构单元>>>结构单元(a1-1-2)为具有利用以下要详细说明的酸分解性基将具有酚性羟基的结构单元保护的保护酚性羟基的结构单元(a1-1-2-1)。<<<<(a1-1-2-1)具有酚性羟基的结构单元>>>>所述具有酚性羟基的结构单元可举出羟基苯乙烯系结构单元或酚醛清漆系树脂中的结构单元，这些结构单元中，从感度的观点来看，优选的是来源于羟基苯乙烯或α-甲基羟基苯乙烯的结构单元。另外，从感度的观点来看，具有酚性羟基的结构单元也优选下述通式(a1-20)所表示的结构单元。通式(a1-20)[化10]通式(a1-20)中，R220表示氢原子或甲基，R221表示单键或二价连结基，R222表示卤素原子或者碳数1～5的直链或分支链状的烷基，a表示1～5的整数，b表示0～4的整数，a+b为5以下。此外，在存在两个以上的R222的情况下，这些R222可互不相同也可相同。所述通式(a1-20)中，R220表示氢原子或甲基，优选甲基。R221表示单键或二价连结基。单键的情况下可提高感度，进而可提高硬化膜的透明性，因此优选。R221的二价连结基可例示亚烷基，R221为亚烷基的具体例可举出：亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚异丙基、亚正丁基、亚异丁基、亚叔丁基、亚戊基、亚异戊基、亚新戊基、亚己基等。其中，R221优选单键、亚甲基、亚乙基。另外，所述二价连结基也可具有取代基，取代基可举出卤素原子、羟基、烷氧基等。另外，a表示1～5的整数，但从本发明的效果的观点或制造容易的方面来看，a优选1或2，a更优选1。关于苯环上的羟基的键合位置，在以与R221键合的碳原子为基准(1位)时，优选的是 键合在4位上。R222为卤素原子或者碳数1～5的直链或分支链状的烷基。具体可举出：氟原子、氯原子、溴原子、甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基等。其中，从制造容易的方面来看，优选氯原子、溴原子、甲基或乙基。b表示0或1～4的整数。<<<<可用于结构单元(a1-1-2)的酸分解性基>>>>可用于所述结构单元(a1-1-2)的所述酸分解性基可与可用于所述结构单元(a1-1-1)的酸分解性基同样地使用众所周知的基团，并无特别限定。酸分解性基中，从感光性树脂组合物的基本物性、特别是感度或图案形状、感光性树脂组合物的保存稳定性、接触孔的形成性的观点而言，优选的是具有经缩醛保护的保护酚性羟基的结构单元。进而，酸分解性基中，从感度的观点来看，更优选的是以所述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护酚性羟基而成的保护酚性羟基。此外，在为以所述通式(a1-10)所表示的缩醛的形式保护酚性羟基而成的保护酚性羟基的情况下，保护酚性羟基总体成为-Ar-O-CR101R102(OR103)的结构。此外，Ar表示亚芳基。酚性羟基的缩醛酯结构的优选例可例示：R101＝R102＝R103＝甲基的组合、R101＝R102＝甲基且R103＝苄基的组合等。用于形成具有以缩醛的形式保护酚性羟基而成的保护酚性羟基的结构单元的自由基聚合性单体量例如可举出日本专利特开2011-215590号公报的段落编号0042中记载的单量体。这些中，从透明性的观点来看，优选甲基丙烯酸-4-羟基苯酯的1-烷氧基烷基保护体、甲基丙烯酸-4-羟基苯酯的四氢吡喃基保护体。酚性羟基的缩醛保护基的具体例可举出1-烷氧基烷基，例如可举出：1-乙氧基乙基、1-甲氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-异丁氧基乙基、1-(2-氯乙氧基)乙基、1-(2-乙基己氧基)乙基、1-正丙氧基乙基、1-环己氧基乙基、1-(2-环己基乙氧基)乙基、1-苄氧基乙基等，这些基团可单独使用或组合使用两种以上。用于形成结构单元(a1-1-2)的自由基聚合性单量体可使用市售品，也可使用利用众所周知的方法所合成的物品。例如可通过使具有酚性羟基的化合物在酸催化剂的存在下与乙烯醚反应而合成。对于所述合成来说，也可预先使具有酚性羟基的单体与其他单体预先共聚合，然后在酸催化剂的存在下与乙烯醚反应。结构单元(a1-1-2)的优选具体例可例示下述结构单元，但本发明不限定于这些结构单元。[化11][化12][化13]<<<结构单元(a1-1)的优选实施方式>>>在含有所述结构单元(a1-1)的聚合物实质上不含结构单元(a1-2)的情况下，在聚合物中，结构单元(a1-1)的含量优选20摩尔％～100摩尔％，更优选30摩尔％～90摩尔％。在含有所述结构单元(a1-1)的聚合物含有结构单元(a1-2)的情况下，在聚合物中，结构单元(a1-1)的含量优选3摩尔％～70摩尔％，更优选10摩尔％～60摩尔％。另外，在结构单元(a1-1)为具有以缩醛的形式保护羧基而成的保护羧基的结构单元的情况下，优选20摩尔％～50摩尔％。结构单元(a1-1-1)与结构单元(a1-1-2)相比，有显影较快的特征。因此，在欲迅速显影的情况下，优选结构单元(a1-1-1)。反之在欲缓慢显影的情况下，优选的是使用结构单元(a1-1-2)。<<(a1-2)具有交联性基的结构单元>>(A1)聚合物成分优选的是含有具有交联性基的结构单元(a1-2)。交联性基只要为通 过加热处理而引起硬化反应的基团，则并无特别限定。可举出上文所述的基团。优选的是选自环氧基、氧杂环丁基及-NH-CH2-O-R(R为氢原子或碳数1～20的烷基)所表示的基团中的至少一种。其中，优选环氧基和/或氧杂环丁基。具有交联性基的结构单元可举出以下结构单元。<<<(a1-2-1)具有环氧基和/或氧杂环丁基的结构单元>>>(A1)聚合物成分优选的是含有具有环氧基和/或氧杂环丁基的结构单元(以下也称为结构单元(a1-2-1))。所述结构单元(a1-2-1)只要在一个结构单元中具有至少一个环氧基或氧杂环丁基即可。并无特别限定，优选的是具有合计为1个～3个的环氧基和/或氧杂环丁基，更优选的是具有1个或2个，进而优选的是具有一个环氧基或氧杂环丁基。用于形成具有环氧基的结构单元的自由基聚合性单量体的具体例例如可举出：丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-3，4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧丁酯、丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、α-乙基丙烯酸-3，4-环氧环己基甲酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚、日本专利第4168443号公报的段落编号0031～段落编号0035中记载的含有脂环式环氧骨架的化合物等，将这些内容并入到本发明说明书中。用于形成具有氧杂环丁基的结构单元的自由基聚合性单量体的具体例例如可举出：日本专利特开2001-330953号公报的段落编号0011～段落编号0016中记载的具有氧杂环丁基的(甲基)丙烯酸酯、或日本专利特开2012-088459公报的段落编号0027中记载的化合物等，将这些内容并入到本发明说明书中。用于形成所述具有环氧基和/或氧杂环丁基的结构单元(a1-2-1)的自由基聚合性单量体的具体例优选的是含有甲基丙烯酸酯结构的单体、含有丙烯酸酯结构的单体。这些单体中，从提高共聚合反应性及硬化膜的各种特性的观点来看，优选甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸3，4-环氧环己基甲酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚、对乙烯基苄基缩水甘油醚、丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯及甲基丙烯酸(3-乙基氧杂环丁烷-3-基)甲酯。这些结构单元可单独使用一种或组合使用两种以上。所述结构单元(a1-2-1)的优选具体例可例示下述结构单元。此外，下述结构单元中，R表示氢原子或甲基。[化14]<<<(a1-2-2)具有乙烯性不饱和基的结构单元>>>所述具有交联性基的结构单元(a1-2)之一可举出具有乙烯性不饱和基的结构单元(a1-2-2)。结构单元(a1-2-2)优选的是在侧链上具有乙烯性不饱和基的结构单元，更优选 的是在末端具有上乙烯性不饱和基、且具有碳数3～16的侧链的结构单元。此外，关于结构单元(a1-2-2)，可举出日本专利特开2011-215580号公报的段落编号0072～段落编号0090的记载及日本专利特开2008-256974的段落编号0013～段落编号0031中记载的化合物等作为优选例，将这些内容并入到本发明说明书中。<<<(a1-2-3)具有-NH-CH2-O-R(R为氢原子或碳数1～20的烷基)所表示的基团的结构单元>>>所述具有交联性基的结构单元(a1-2)之一也优选的是具有-NH-CH2-O-R(R为氢原子或碳数1～20的烷基)所表示的基团的结构单元(a1-2-3)。通过含有结构单元(a1-2-3)，可利用缓慢的加热处理来引起硬化反应，可获得各种特性优异的硬化膜。R优选碳数1～9的烷基，更优选碳数1～4的烷基。另外，烷基可为直链、分支或环状的烷基的任一种，优选直链或分支的烷基。结构单元(a1-2-3)更优选的是具有下述通式(a2-30)所表示的基团的结构单元。通式(a2-30)[化15]通式(a2-30)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示氢原子或碳数1～20的烷基。R2优选碳数1～9的烷基，更优选碳数1～4的烷基。另外，烷基可为直链、分支或环状的烷基的任一种，优选直链或分支的烷基。R2的具体例可举出：甲基、乙基、正丁基、异丁基、环己基及正己基。其中，优选异丁基、正丁基、甲基。<<<(a1-2)具有交联性基的结构单元的优选实施方式>>>在含有所述结构单元(a1-2)的聚合物实质上不含结构单元(a1-1)的情况下，在聚合物中，结构单元(a1-2)的含量优选5摩尔％～90摩尔％，更优选20摩尔％～80摩尔％。在含有所述结构单元(a1-2)的聚合物含有所述结构单元(a1-1)的情况下，在聚合物中，从耐化学品性的观点来看，结构单元(a1-2)的含量优选3摩尔％～70摩尔％，更优选10摩尔％～60摩尔％。本发明中，进而无论为哪一实施方式，在(A1)聚合物成分的所有结构单元中，结构单元(a1-2)的含量均优选3摩尔％～70摩尔％，更优选10摩尔％～60摩尔％。通过设定为所述数值的范围内，可形成各种特性优异的硬化膜。<<(a1-3)其他结构单元>>(A1)聚合物成分也可除了结构单元(a1-1)和/或结构单元(a1-2)以外含有这些结构单元以外的其他结构单元(a1-3)。结构单元(a1-3)可由含有选自结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)中的至少一种结构单元的聚合物所含有。另外，也可由实质上不含结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)的聚合物所含有。形成其他结构单元(a1-3)的单体并无特别限制，例如可举出：苯乙烯类、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸环状烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、双环不饱和化合物类、马来酰亚胺化合物类、不饱和芳香族化合物、共轭二烯系化合物、不饱和单羧酸、不饱和二羧酸、不饱和二羧酸酐、其他不饱和化合物。另外，也可像后述那样含有具有酸基的结构单元。形成其他结构单元(a1-3)的单体可单独使用或组合使用两种以上。结构单元(a1-3)具体可举出来源于以下化合物的结构单元：苯乙烯、甲基苯乙烯、羟基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、氯苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、4-羟基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酰基吗啉、N-环己基马来酰亚胺、丙烯腈、乙二醇单乙酰乙酸酯单(甲基)丙烯酸酯等。除此以外，可举出日本专利特开2004-264623号公报的段落编号0021～段落编号0024中记载的化合物。从电特性的观点来看，其他结构单元(a1-3)优选苯乙烯类或具有脂肪族环式骨架的结构单元。具体可举出：苯乙烯、甲基苯乙烯、羟基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸苄酯等。从密接性的观点来看，其他结构单元(a1-3)优选(甲基)丙烯酸烷基酯。具体可举出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯等，更优选(甲基)丙烯酸甲酯。其他结构单元(a1-3)优选的是含有具有酸基的结构单元。通过具有酸基，容易溶解于碱性的显影液中。酸基通常是使用可形成酸基的单体以具有酸基的结构单元的形式而组入到聚合物中。通过在聚合物中含有这种具有酸基的结构单元，有容易溶解于碱性的显影液中的倾向。酸基可例示：来源于羧酸基的基团、来源于磺酰胺基的基团、来源于膦酸基的基团、来源于磺酸基的基团、来源于酚性羟基的基团、磺酰胺基、磺酰亚胺基等，优选的是来源于羧酸基的基团和/或来源于酚性羟基的基团。具有酸基的结构单元更优选的是来源于苯乙烯的结构单元或来源于乙烯系化合物的结构单元、来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元。例如可使用日本专利特开2012-88459号公报的段落编号0021～段落编号0023及段落编号0029～段落编号0044记载的化合物，将其内容并入到本发明说明书中。其中，优选的是来源于对羟基苯乙烯、(甲基)丙烯酸、马来酸、马来酸酐的结构单元。关于含有酸基的结构单元的导入方法，可与(a1-1)结构单元和/或(a1-2)结构单元导入到相同的聚合物中，也能以与(a1-1)结构单元及(a1-2)结构单元不同的聚合物的结构单元的形式而导入。含有具有酸基的结构单元的聚合物优选的是在侧链上具有羧基的树脂。例如可举出：日本专利特开昭59-44615号、日本专利特公昭54-34327号、日本专利特公昭58-12577号、日本专利特公昭54-25957号、日本专利特开昭59-53836号、日本专利特开昭59-71048号的各公报中记载那样的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物等，以及在侧链上具有羧基的酸性纤维素衍生物、使酸酐 加成在具有羟基的聚合物上而成的聚合物等，进而也可举出在侧链上具有(甲基)丙烯酰基的高分子聚合物作为优选的聚合物。例如可举出：(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯/(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、日本专利特开平7-140654号公报中记载的(甲基)丙烯酸-2-羟基丙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸-2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯/聚苯乙烯巨单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。除此以外，也可使用日本专利特开平7-207211号公报、日本专利特开平8-259876号公报、日本专利特开平10-300922号公报、日本专利特开平11-140144号公报、日本专利特开平11-174224号公报、日本专利特开2000-56118号公报、日本专利特开2003-233179号公报、日本专利特开2009-52020号公报等中记载的众所周知的高分子化合物，将这些内容并入到本发明说明书中。这些聚合物可仅含有一种，也可含有两种以上。市售品例如也可使用：SMA1000P、SMA2000P、SMA3000P、SMA1440F、SMA17352P、SMA2625P、SMA3840F(以上为克雷威利(CrayValley)公司制造)，亚如风(ARUFON)UC-3000、亚如风(ARUFON)UC-3510、亚如风(ARUFON)UC-3900、亚如风(ARUFON)UC-3910、亚如风(ARUFON)UC-3920、亚如风(ARUFON)UC-3080(以上为东亚合成(股)制造)，庄克丽(Joncryl)690、庄克丽(Joncryl)678、庄克丽(Joncryl)67、庄克丽(Joncryl)586(以上为巴斯夫(BASF)制造)等。本发明中，尤其从感度的观点来看，优选的是含有具有羧基的结构单元或具有酚性羟基的结构单元。例如可使用日本专利特开2012-88459号公报的段落编号0021～段落编号0023及段落编号0029～段落编号0044记载的化合物，将其内容并入到本发明说明书中。具有酸基的结构单元优选的是所有聚合物成分的结构单元的1摩尔％～80摩尔％，更优选1摩尔％～50摩尔％，进而优选5摩尔％～40摩尔％，特别优选5摩尔％～30摩尔％，尤其优选5摩尔％～25摩尔％。以下举出(A1)聚合物成分的优选实施形态，但本发明不限定于这些实施形态。(第1实施形态)在上文所述的(1-1)的实施方式中，含有结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)的聚合物进一步含有一种或两种以上的其他结构单元(a1-3)的实施方式。(第2实施形态)在上文所述的(1-2)的实施方式中，含有结构单元(a1-1)的聚合物进一步含有一种或两种以上的其他结构单元(a1-3)的实施方式。(第3实施形态)在上文所述的(1-2)的实施方式中，含有结构单元(a1-2)的聚合物进一步含有一种或两种以上的其他结构单元(a1-3)的实施方式。(第4实施形态)在所述第1实施形态～第3实施形态的任一个中，至少含有具有酸基的结构单元作为其他结构单元(a1-3)的实施方式。(第5实施形态)在上文所述的(1-1)和/或(1-2)的实施方式中，包含实质上不含结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)且含有其他结构单元(a1-3)的聚合物的实施方式。(第6实施形态)包含所述第1实施形态～第5实施形态的两个以上的组合的形态。在包含实质上不含结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)且含有其他结构单元(a1-3)的聚合物的实施方式中，含有结构单元(a1-1)和/或结构单元(a1-2)的聚合物的合计量、与实质上不含结构单元(a1-1)及结构单元(a1-2)且含有其他结构单元(a1-3)的聚合物的合计量之质量比例优选99∶1～5∶95，更优选97∶3～30∶70，进而优选95∶5～50∶50。本发明的感光性树脂组合物优选的是以感光性树脂组合物的固体成分的70质量％以上的比例而含有聚合物成分，更优选70质量％～99质量％。<<(A1)聚合物成分的分子量>>关于(A1)聚合物成分所含的聚合物的分子量，以聚苯乙烯换算重量平均分子量计而优选1,000～200,000、更优选2,000～50,000的范围。若为所述范围内，则各种特性良好。数量平均分子量与重量平均分子量之比(分散度)优选1.0～5.0，更优选1.5～3.5。(A1)聚合物成分所含的聚合物的重量平均分子量及分散度是以由凝胶渗透色谱(GelPermeationChromatography，GPC)测定所得的聚苯乙烯换算值的形式来定义。本说明书中，聚合物成分的重量平均分子量(Mw)及数量平均分子量(Mn)例如可通过以下方式求出：使用HLC-8120(东曹(Tosoh)(股)制造)，使用TSKgelMultiporeHXL-M(东曹(Tosoh)(股)制造，7.8mmID×30.0cm)作为管柱，且使用四氢呋喃(Tetrahydrofuran，THF)作为洗脱液。<<(A1)聚合物成分的制造方法>>(A1)聚合物成分的制造方法已知各种方法，若举出一例，则可通过以下方式合成：使用自由基聚合引发剂，使至少含有用于形成(a1-1)及(a1-3)所表示的结构单元的自由基聚合性单量体的组合物在有机溶剂中进行聚合。另外，也可通过所谓高分子反应来合成。(A1)聚合物成分优选的是相对于所有结构单元而含有50摩尔％以上的来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元，更优选的是含有80摩尔％以上的来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元。<(B1)光酸产生剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物含有产生pKa为3以下的酸的光酸产生剂。光酸产生剂优选的是产生pKa为2以下的酸。此外，本发明中，pKa基本上是指25℃的水中的pKa。无法在水中进行测定的情况下，是指变更为适于测定的溶剂进行测定所得的值。具体来说，可参考化学便览等中记载的pKa。pKa为3以下的酸优选磺酸或膦酸，更优选磺酸。光酸产生剂优选的是感应波长300nm以上、优选波长300nm～450nm的光化射线而产生酸的化合物，其化学结构并无限制。另外，关于不直接感应波长300nm以上的光化射线的光酸产生剂，只要为通过与增感剂并用而感应波长300nm以上的光化射线、产生酸的化合物，则也可与增感剂组合而优选地使用。光酸产生剂的例子可举出：鎓盐化合物、三氯甲基均三嗪类、硫鎓盐、碘鎓盐、四级铵盐类、重氮甲烷化合物、酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物等。这些中，优选鎓盐化合 物、酰亚胺磺酸酯化合物、肟磺酸酯化合物，特别优选鎓盐化合物、肟磺酸酯化合物。光酸产生剂可单独使用一种或组合使用两种以上。三氯甲基均三嗪类、二芳基碘鎓盐类、三芳基硫鎓盐类、四级铵盐类及重氮甲烷化合物的具体例可例示：日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0083～段落编号0088中记载的化合物、或日本专利特开2011-105645号公报的段落编号0013～段落编号0049中记载的化合物，将这些内容并入到本发明说明书中。酰亚胺磺酸酯化合物的具体例可例示WO2011/087011号公报的段落编号0065～段落编号0075中记载的化合物，将这些内容并入到本发明说明书中。鎓盐化合物例如可举出：二苯基碘鎓盐、三芳基硫鎓盐、硫鎓盐、苯并噻唑鎓盐、四氢噻吩鎓盐等。二苯基碘鎓盐例如可举出：二苯基碘鎓四氟硼酸盐、二苯基碘鎓六氟膦酸盐、二苯基碘鎓六氟砷酸盐、二苯基碘鎓三氟甲磺酸盐、二苯基碘鎓三氟乙酸盐、二苯基碘鎓对甲苯磺酸盐、二苯基碘鎓丁基三(2，6-二氟苯基)硼酸盐、4-甲氧基苯基苯基碘鎓四氟硼酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓四氟硼酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓六氟砷酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟甲磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟乙酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓对甲苯磺酸盐、双(4-叔丁基苯基)碘鎓樟脑磺酸等。三芳基硫鎓盐例如可举出：三苯基硫鎓甲苯磺酸盐、三苯基硫鎓三氟甲磺酸盐、三苯基硫鎓樟脑磺酸、三苯基硫鎓四氟硼酸盐、三苯基硫鎓三氟乙酸盐、三苯基硫鎓对甲苯磺酸盐、三苯基硫鎓丁基三(2，6-二氟苯基)硼酸盐等。硫鎓盐例如可举出：烷基硫鎓盐、苄基硫鎓盐、二苄基硫鎓盐、取代苄基硫鎓盐等。烷基硫鎓盐例如可举出：4-乙酰氧基苯基二甲基硫鎓六氟锑酸盐、4-乙酰氧基苯基二甲基硫鎓六氟砷酸盐、二甲基-4-(苄氧基羰氧基)苯基硫鎓六氟锑酸盐、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基硫鎓六氟锑酸盐、二甲基-4-(苯甲酰氧基)苯基硫鎓六氟砷酸盐、二甲基-3-氯-4-乙酰氧基苯基硫鎓六氟锑酸盐等。苄基硫鎓盐例如可举出：苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟磷酸盐、4-乙酰氧基苯基苄基甲基硫鎓六氟锑酸盐、苄基-4-甲氧基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、苄基-2-甲基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、苄基-3-氯-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟砷酸盐、4-甲氧基苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟磷酸盐等。二苄基硫鎓盐例如可举出：二苄基-4-羟基苯基硫鎓六氟锑酸盐、二苄基-4-羟基苯基硫鎓六氟磷酸盐、4-乙酰氧基苯基二苄基硫鎓六氟锑酸盐、二苄基-4-甲氧基苯基硫鎓六氟锑酸盐、二苄基-3-氯-4-羟基苯基硫鎓六氟砷酸盐、二苄基-3-甲基-4-羟基-5-叔丁基苯基硫鎓六氟锑酸盐、苄基-4-甲氧基苄基-4-羟基苯基硫鎓六氟磷酸盐等。取代苄基硫鎓盐例如可举出：对氯苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、对硝基苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、对氯苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟磷酸盐、对硝基苄基-3-甲基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、3，5-二氯苄基-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐、邻氯苄基-3-氯-4-羟基苯基甲基硫鎓六氟锑酸盐等。苯并噻唑鎓盐例如可举出：3-苄基苯并噻唑鎓六氟锑酸盐、3-苄基苯并噻唑鎓六氟磷酸盐、3-苄基苯并噻唑鎓四氟硼酸盐、3-(对甲氧基苄基)苯并噻唑鎓六氟锑酸盐、3-苄基-2-甲硫基苯并噻唑鎓六氟锑酸盐、3-苄基-5-氯苯并噻唑鎓六氟锑酸盐等。四氢噻吩鎓盐例如可举出：4，7-二-正丁氧基-1-萘基四氢噻吩鎓三氟甲磺酸盐、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氢噻吩鎓三氟甲磺酸盐、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氢噻吩鎓九氟正丁磺酸盐、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氢噻吩鎓-1，1，2，2-四氟-2-(降冰片烷-2-基)乙磺酸盐、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氢噻吩鎓-2-(5-叔丁氧基羰氧基双环[2.2.1]庚烷-2-基)-1，1，2，2-四氟乙磺酸盐、1-(4-正丁氧基萘-1-基)四氢噻吩鎓-2-(6-叔丁氧基羰氧基双环[2.2.1]庚烷-2-基)-1，1，2，2-四氟乙磺酸盐等。肟磺酸酯化合物、即具有肟磺酸酯结构的化合物可优选地例示含有下述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的化合物。通式(B1-1)[化16]通式(B1-1)中，R21表示烷基或芳基。波线表示与其他基团的键。通式(B1-1)中，任意的基团可经取代，R21的烷基可为直链状也可为分支状也可为环状。以下说明容许的取代基。R21的烷基优选碳数1～10的直链、分支的烷基。R21的烷基可经卤素原子、碳数6～11的芳基、碳数1～10的烷氧基或环状的烷基(包括7，7-二甲基-2-氧代降冰片基等桥联式脂环基，优选双环烷基等)取代。R21的芳基优选碳数6～11的芳基，更优选苯基或萘基。R21的芳基可经低级烷基、烷氧基或卤素原子取代。含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的所述化合物也优选下述通式(B1-2)所表示的肟磺酸酯化合物。通式(B1-2)[化17]式(B1-2)中，R42表示可经取代的烷基或芳基，X表示烷基、烷氧基或卤素原子，m4表示0～3的整数，当m4为2或3时，多个X可相同也可不同。R42的优选范围与所述R21的优选范围相同。作为X的烷基优选碳数1～4的直链状或分支状烷基。另外，作为X的烷氧基优选碳数1～4的直链状或分支状烷氧基。另外，作为X的卤素原子优选氯原子或氟原子。m4优选0或1。所述通式(B2)中，特别优选以下化合物：m4为1，X为甲基，X的取代位置为邻位，R42为碳数1～10的直链状烷基、7，7-二甲基-2-氧代降冰片基甲基或对甲苯甲酰基。含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的化合物也优选下述通式(B1-3)所表示 的肟磺酸酯化合物。通式(B1-3)[化18]式(B1-3)中，R43与式(B1-2)中的R42为相同含意，X1表示卤素原子、羟基、碳数1～4的烷基、碳数1～4的烷氧基、氰基或硝基，n4表示0～5的整数。所述通式(B1-3)中的R43优选甲基、乙基、正丙基、正丁基、正辛基、三氟甲基、五氟乙基、全氟正丙基、全氟正丁基、对甲苯基、4-氯苯基或五氟苯基，特别优选正辛基。X1优选碳数1～5的烷氧基，更优选甲氧基。n4优选0～2，特别优选0～1。所述通式(B1-3)所表示的化合物的具体例及优选的肟磺酸酯化合物的具体例可参照日本专利特开2012-163937号公报的段落编号0080～段落编号0082的记载，将其内容并入到本发明说明书中。含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的化合物也优选下述通式(OS-1)所表示的化合物。[化19]所述通式(OS-1)中，R101表示氢原子、烷基、烯基、烷氧基、烷氧基羰基、酰基、氨甲酰基、氨磺酰基、磺基、氰基、芳基或杂芳基。R102表示烷基或芳基。X101表示-O-、-S-、-NH-、-NR105-、-CH2-、-CR106H-或-CR105R107-，R105～R107表示烷基或芳基。R121～R124分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烯基、烷氧基、氨基、烷氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、酰胺基、磺基、氰基或芳基。R121～R124中的两个也可分别相互键合而形成环。R121～R124优选氢原子、卤素原子及烷基，另外，也可优选地举出R121～R124中的至少两个相互键合而形成芳基的实施方式。其中，从感度的观点来看，优选的是R121～R124均为氢原子的实施方式。上文所述的官能基均可进一步具有取代基。所述通式(OS-1)所表示的化合物例如优选的是日本专利特开2012-163937号公报的段 落编号0087～段落编号0089中记载的通式(OS-2)所表示的化合物，将其内容并入到本发明说明书中。可合适地用于本发明的所述通式(OS-1)所表示的化合物的具体例可举出日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0128～段落编号0132中记载的化合物(例示化合物b-1～例示化合物b-34)，但本发明不限定于此。本发明中，含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的化合物优选的是下述通式(OS-3)、下述通式(OS-4)或下述通式(OS-5)所表示的肟磺酸酯化合物。[化20]通式(OS-3)～通式(OS-5)中，R22、R25及R28分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，R23、R26及R29分别独立地表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子，R24、R27及R30分别独立地表示卤素原子、烷基、烷氧基、磺酸基、氨基磺酰基或烷氧基磺酰基，X1～X3分别独立地表示氧原子或硫原子，n1～n3分别独立地表示1或2，m1～m3分别独立地表示0～6的整数。关于所述通式(OS-3)～通式(OS-5)，例如可参照日本专利特开2012-163937号公报的段落编号0098～段落编号0115的记载，将其内容并入到本发明说明书中。另外，含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的化合物例如特别优选的是日本专利特开2012-163937号公报的段落编号0117中记载的通式(OS-6)～通式(OS-11)的任一个所表示的化合物，将其内容并入到本发明说明书中。所述通式(OS-6)～通式(OS-11)的优选范围与日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0110～段落编号0112中记载的(OS-6)～(OS-11)的优选范围相同，将其内容并入到本发明说明书中。所述通式(OS-3)～所述通式(OS-5)所表示的肟磺酸酯化合物的具体例可举出日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0114～段落编号0120中记载的化合物，将其内容并入到本发明说明书中。本发明不限定于这些化合物。含有所述通式(B1-1)所表示的肟磺酸酯结构的化合物也优选下述通式(B1-4)所表示的肟磺酸酯化合物。通式(B1-4)[化21]通式(B1-4)中，R1表示烷基或芳基，R2表示烷基、芳基或杂芳基。R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基、卤素原子。其中，R3与R4、R4与R5或R5与R6也可键合而形成脂环或芳香环。X表示-O-或-S-。R1表示烷基或芳基。烷基优选具有分支结构的烷基或环状结构的烷基。烷基的碳数优选3～10。特别在烷基具有分支结构的情况下，优选碳数3～6的烷基，在具有环状结构的情况下，优选碳数5～7的烷基。烷基例如可举出：丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、戊基、异戊基、新戊基、1，1-二甲基丙基、己基、2-乙基己基、环己基、辛基等，优选异丙基、叔丁基、新戊基、环己基。芳基的碳数优选6～12，更优选6～8，进而优选6～7。所述芳基可举出苯基、萘基等，优选苯基。R1所表示的烷基及芳基也可具有取代基。取代基例如可举出：卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、直链或分支或环状的烷基(例如甲基、乙基、丙基等)、烯基、炔基、芳基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨甲酰基、氰基、羧基、羟基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、杂环氧基、酰氧基、氨基、硝基、肼基、杂环基等。另外，也可经这些基团进一步取代。优选卤素原子、甲基。从透明性的观点来看，R1优选烷基，从兼具保存稳定性与感度的观点来看，R1优选碳数3～6的具有分支结构的烷基、碳数5～7的环状结构的烷基或苯基，更优选碳数3～6的具有分支结构的烷基或碳数5～7的环状结构的烷基。通过采用这种大体积的基团(特别是大体积的烷基)作为R1，可进一步提高透明性。大体积的取代基中，优选异丙基、叔丁基、新戊基、环己基，更优选叔丁基、环己基。R2表示烷基、芳基或杂芳基。R2所表示的烷基优选碳数1～10的直链、分支或环状的烷基。所述烷基例如可举出：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、戊基、新戊基、己基、环己基等，优选甲基。芳基优选碳数6～10的芳基。所述芳基可举出苯基、萘基、对甲苯甲酰基(对甲基苯基)等，优选苯基、对甲苯甲酰基。杂芳基例如可举出吡咯基、吲哚基、咔唑基、呋喃基、噻吩基等。R2所表示的烷基、芳基及杂芳基也可具有取代基。取代基与R1所表示的烷基及芳基可具有的取代基为相同含意。R2优选烷基或芳基，更优选芳基，进而优选苯基。苯基的取代基优选甲基。R3～R6分别表示氢原子、烷基、芳基或卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)。R3～R6所表示的烷基与R2所表示的烷基为相同含意，优选范围也相同。另外，R3～R6所表示的芳基与R1所表示的芳基为相同含意，优选范围也相同。R3～R6中，R3与R4、R4与R5或R5与R6也可键合而形成环，环优选的是形成脂环或芳香环，更优选苯环。R3～R6优选氢原子、烷基、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子)或者R3与R4、R4与R5或R5与R6键合而构成苯环，更优选氢原子、甲基、氟原子、氯原子、溴原子或者R3与R4、R4与R5或R5与R6键合而构成苯环。R3～R6的优选实施方式如下。(实施方式1)至少两个为氢原子。(实施方式2)烷基、芳基或卤素原子的个数为一个以下。(实施方式3)R3与R4、R4与R5或R5与R6键合而构成苯环。(实施方式4)满足所述实施方式1与实施方式2的实施方式、和/或满足所述实施方式1与实施方式3的实施方式。所述通式(B1-4)的具体例可举出如下化合物，但本发明中不特别限定于此。此外，例示化合物中，Ts表示甲苯磺酰基(对甲苯磺酰基)，Me表示甲基，Bu表示正丁基，Ph表示苯基。[化22]酰亚胺磺酸酯系化合物优选萘酰亚胺系化合物，可参照国际公开WO11/087011号手册的记载，将这些内容并入到本发明说明书中。本发明中，尤其更优选下述式所表示的化合物。[化23]式中，R1及R2分别表示下述通式(A)所表示的基团或氢原子。R3表示可经卤素原子、烷硫基及脂环式烃基的任一个以上取代的碳数1～18的脂肪族烃基，可经卤素原子、烷硫基、烷基及酰基的任一个以上取代的碳数6～20的芳基，可经卤素原子和/或烷硫基取代的碳数7～20的芳基烷基，10-樟脑基或下述通式(B)所表示的基团。通式(A)[化24]通式(A)中，X1表示氧原子或硫原子，Y1表示单键或碳数1～4的亚烷基，R4表示碳数1～12的烃基，R5表示碳数1～4的亚烷基，R6表示氢原子、可分支的碳数1～4的烷基、碳数3～10的脂环式烃基、杂环基或羟基。n表示0～5的整数，在n为2～5的情况下，存在多个的R5可相同也可不同。通式(B)[化25]通式(B)中，Y2表示单键或碳数1～4的亚烷基，R7表示碳数2～6的亚烷基、碳数2～6的卤化亚烷基、碳数6～20的亚芳基或碳数6～20的卤化亚芳基，R8表示单键、碳数2～6的亚烷基、碳数2～6的卤化亚烷基、碳数6～20的亚芳基或碳数6～20的卤化亚芳基，R9表示可分支的碳数1～18的烷基、可分支的碳数1～18的卤化烷基、碳数6～20的芳基、碳数6～20的卤化芳基、碳数7～20的芳基烷基或碳数7～20的卤化芳基烷基。a及b分别独立地表示0或1，a及b的至少一个为1。以下示出本发明中可优选地使用的酰亚胺磺酸酯系化合物的例子，但本发明当然不限定于这些例子。[化26]本发明的感光性树脂组合物中，相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，光酸产生剂的含量优选0.1质量份～20质量份。下限例如更优选0.2质量份以上，进而优选0.5质量份以上。上限例如更优选10质量份以下，进而优选5质量份以下。<(C)化合物>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物含有下述通式(I)所表示的化合物。以下，将通式(I)所表示的化合物也称为(C)化合物。[化27]式(I)中，R1表示氢原子或n价有机基，R2～R5分别独立地表示氢原子或烷基，n表示1以上的整数。通式(I)中，R1表示氢原子或n价有机基。有机基可举出：脂肪族基、芳香族环基、及将脂肪族基或芳香族环基与后述连结基组合而成的基团等。连结基例如可举出：-COO-、-OCO-、-CO-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-或这些基团多个连结而成的连结基等。优选-COO-、-OCO-。将脂肪族基或芳香族环基与连结基组合而成的基团的具体例可举出烷氧基羰基、酰氧基等。R1优选芳香族环基。通过将R1设为芳香族环基，可在更低的温度下更容易地产生沸点高的碱。通过提高所产生的碱的沸点，可不易因后烘烤时的加热等而挥发或分解，可更有效地改善图像显示装置等的显示不均。R1为一价脂肪族基时的例子可举出烷基、烯基等。烷基的碳数优选1～30，更优选1～20，进而优选1～10。烷基可为直链、分支、环状的任一种。烷基可具有取代基，也可未经取代。烷基的具体例可举出：甲基、乙基、叔丁基、十二烷基、环戊基、环己基、环庚基、金刚烷基等。烯基的碳数优选2～30，更优选2～20，进而优选2～10。烯基可为直链、分支、环状的任一种。烯基可具有取代基，也可未经取代。烯基可举出乙烯基、(甲基)烯丙基等。R1为二价脂肪族基时的例子可举出从所述一价脂肪族基中去掉一个以上的氢原子而成 的基团。芳香族环基可为单环，也可为多环。芳香族环基也可为含有杂原子的杂芳香族环基。芳香族环基可具有取代基，也可未经取代。芳香族环基的具体例可举出：苯环、萘环、并环戊二烯(pentalene)环、茚(indene)环、薁(azulene)环、并环庚二烯环、茚(indecene)环、苝环、并五苯环、苊环、菲环、蒽环、并四苯环、屈(chrysene)环、三亚苯(triphenylene)环、芴环、联苯环、吡咯环、呋喃环、噻吩环、咪唑环、噁唑环、噻唑环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、哒嗪环、吲哚嗪环、吲哚环、苯并呋喃环、苯并噻吩环、异苯并呋喃环、喹嗪环、喹啉环、酞嗪环、萘啶环、喹噁啉环、喹唑啉环、异喹啉环、咔唑环、啡啶环、吖啶环、啡啉环、噻蒽(thianthrene)环、苯并吡喃(chromene)环、呫吨环、吩噁噻(phenoxathiin)环、吩噻嗪环及吩嗪环，最优选苯环。芳香族环基中，多个芳香环也可经由单键或后述连结基而连结。连结基例如可举出：-COO-、-OCO-、-CO-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-、亚烷基(优选碳数1～10的直链或分支亚烷基)、亚环烷基(优选碳数3～10的亚环烷基)或这些基团多个连结而成的连结基等。优选亚烷基、-O-及包含这些基团的组合的基团，更优选亚烷基与-O-的组合。亚烷基、亚环烷基可未经取代，也可具有取代基。取代基可举出后述取代基。多个芳香环经由单键或连结基连结而成的芳香族环基的具体例可举出：联苯、二苯基甲烷、二苯基丙烷、二苯基异丙烷、三苯基甲烷、四苯基甲烷、二苯氧基甲烷、二苯氧基乙烷等。烷氧基羰基的碳数优选1～30，更优选1～20，进而优选1～10。烷氧基羰基可为直链、分支的任一种。烷氧基羰基可具有取代基，也可未经取代。酰氧基的碳数优选1～30，更优选1～20，进而优选1～10。酰氧基可为直链、分支的任一种。酰氧基可具有取代基，也可未经取代。R1所表示的有机基可具有的取代基的例子例如可举出：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子等卤素原子；甲氧基、乙氧基及叔丁氧基等烷氧基；苯氧基及对甲苯氧基等芳氧基；甲氧基羰基、叔丁氧基羰基及苯氧基羰基等烷氧基羰基；乙酰氧基、丙酰氧基及苯甲酰氧基等酰氧基；乙酰基、苯甲酰基、异丁酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基及甲氧草酰基(methoxalyl)等酰基；甲基巯基(methylsulfanyl)及叔丁基巯基等烷基巯基；苯基巯基及对甲苯基巯基等芳基巯基；甲基、乙基、叔丁基及十二烷基等烷基；环戊基、环己基、环庚基、金刚烷基等环烷基；苯基、对甲苯基、二甲苯基、枯烯基、萘基、蒽基及菲基等芳基；羟基；羧基；甲酰基；磺基；氰基；烷基氨基羰基；芳基氨基羰基；磺酰胺基；硅烷基；氨基；单烷基氨基；二烷基氨基；芳基氨基；二芳基氨基硫氧基(diarylaminothioxy)；氨甲酰基或这些基团的组合。R2～R5分别独立地表示氢原子或烷基，优选氢原子。R2～R5为氢原子所表示的化合物容易通过更低温度下的加热来产生碱。烷基的碳数优选1～30，更优选1～20，进而优选1～10，进一步优选1～5，特别优选甲基。烷基可为直链、分支的任一种，优选直链。烷基可具有取代基，也可未经取代，优选未经取代。n表示1以上的整数，优选1～5，更优选1～4，进而优选1或2。在R1表示有机基的情况下，n的上限为有机基可取的取代基的最大数。在R1表示氢原子的情况下，n为1。通式(I)所表示的化合物的分子量优选100～1000。下限更优选130以上。上限更优选500以下。此外，分子量的值为根据结构式所求出的理论值。通式(I)所表示的化合物优选的是若加热至120℃～250℃则产生碱的化合物，更优选的是在120℃～200℃下产生碱的化合物。关于碱产生温度，例如可利用示差扫描热量测定，将化合物在耐压胶囊中以5℃/分钟加热到250℃，读取温度最低的放热波峰的波峰温度，测定波峰温度作为碱产生温度。由通式(I)所表示的化合物产生的碱优选环状胺。由通式(I)所表示的化合物产生的碱的沸点优选80℃以上，更优选100℃以上，进而优选140℃以上。另外，所产生的碱的分子量优选80～500。上限更优选400以下。此外，分子量的值为根据结构式所求出的理论值。通式(I)所表示的化合物的具体例可例示以下的化合物。本发明当然不限定于这些化合物。[化28]本发明的感光性树脂组合物中，相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，(C)化合物的含量优选0.01质量份～20质量份。下限例如更优选0.05质量份以上，进而优选0.1质量份以上，进一步优选0.5质量份以上。上限例如更优选10质量份以下，进而优选5质量份以下。通过设定为这种范围，有更有效地发挥本发明的效果的倾向。本发明的感光性树脂组合物中，相对于上文所述的(A1)聚合物成分100质量份，(C)化合物的含量优选0.01质量份～20质量份。下限例如更优选0.05质量份以上，进而优选0.1质量份以上，进一步优选0.5质量份以上。上限例如更优选10质量份以下，进而优选5质量份以下。通过设定为这种范围，有更有效地发挥本发明的效果的倾向。<(D)溶剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物含有溶剂。本发明的感光性树脂组合物优选的是以将本发明的必需成分、进而后述的任意成分溶解于溶剂中而成的溶液的形式而制备。溶剂优选的是将必需成分及任意成分溶解且不与各成分反应。本发明中，溶剂可使用众所周知的溶剂。例如可例示：乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、乙二醇单烷基醚乙酸酯类、丙二醇单烷基醚类、丙二醇二烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、二乙二醇二烷基醚类(例如二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲基乙基醚等)、二乙二醇单烷基醚乙酸酯类、二丙二醇单烷基醚类、二丙二醇二烷基醚类、二丙二醇单烷基醚乙酸酯类、酯类、酮类、酰胺类、内酯类等。另外，也可举出日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0174～段落编号0178中记载的溶剂、日本专利特开2012-194290公报的段落编号0167～段落编号0168中记载的溶剂，将这些内容并入到本说明书中。另外，这些溶剂中，可进一步视需要而添加苄基乙基醚、二己醚、乙二醇单苯醚乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、苯甲醚、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、碳酸亚乙酯、碳酸亚丙酯等溶剂。这些溶剂可单独使用一种或混合使用两种以上。溶剂可为单独一种，也可使用两种以上。在使用两种以上的情况下，例如进而优选的是将丙二醇单烷基醚乙酸酯类与二烷基醚类、二乙酸酯类与二乙二醇二烷基醚类、或酯类与丁二醇烷基醚乙酸酯类并用。溶剂优选的是沸点为130℃以上且小于160℃的溶剂、沸点为160℃以上的溶剂或这些溶剂的混合物。沸点为130℃以上且小于160℃的溶剂可例示：丙二醇单甲醚乙酸酯(沸点146℃)、丙二醇单乙醚乙酸酯(沸点158℃)、丙二醇甲基正丁基醚(沸点155℃)、丙二醇甲基正丙基醚(沸点131℃)。沸点为160℃以上的溶剂可例示：3-乙氧基丙酸乙酯(沸点170℃)、二乙二醇甲基乙基醚(沸点176℃)、丙二醇单甲醚丙酸酯(沸点160℃)、二丙二醇甲醚乙酸酯(沸点213℃)、3-甲氧基丁基醚乙酸酯(沸点171℃)、二乙二醇二乙醚(沸点189℃)、二乙二醇二甲醚(沸点162℃)、丙二醇二乙酸酯(沸点190℃)、二乙二醇单乙醚乙酸酯(沸点220℃)、二丙二醇二甲醚(沸点175℃)、1，3-丁二醇二乙酸酯(沸点232℃)。相对于感光性树脂组合物中的总成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的溶剂的含量优选40质量份～95质量份。下限更优选45质量份以上，进而优选50质量份以上。上限更优选90质量份以下，进而优选80质量份以下。溶剂可仅使用一种，也可使用两种以上。在使用两种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。<密接改良剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物也可含有密接改良剂。密接改良剂可举出烷氧基硅烷化合物等。相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，密接改良剂的含量优选0.001质量份～15质量份，更优选0.005质量份～10质量份。密接改良剂可仅使用一种，也可使用两种以上。在使用两种以上的情况下，优选的是合 计量成为所述范围。密接改良剂优选的是下述通式(SC1)所表示的化合物。通式(SC1)[化29]通式(SC1)中，R1及R2分别独立地表示烷基或芳基，n表示0～2的整数，L1表示单键或二价连结基，A1表示官能基。R1优选碳数1～20的烷基或碳数6～18的芳基。烷基的碳数优选1～10，更优选1～5，进而优选1～3。芳基的碳数优选6～12，更优选6。R2优选碳数1～3的烷基或苯基，更优选碳数1～3的烷基，进而优选甲基。n表示0～2的整数，优选0或1。在L1表示二价连结基的情况下，优选-(CH2)n1-或包含-(CH2)n1-与-O-的组合的基团。这里，n1优选1～10，更优选1～6，进而优选1～3。A1优选的是选自乙烯基、环氧基、苯乙烯基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰氧基、氨基、脲基(ureido)、巯基(mercapto)、硫醚基及异氰酸酯基中的至少一种官能基，更优选环氧基、甲基丙烯酰氧基或丙烯酰氧基。密接改良剂例如可举出：乙烯基硅烷、环氧硅烷、苯乙烯基硅烷、甲基丙烯酰氧基硅烷、丙烯酰氧基硅烷、氨基硅烷、脲基硅烷、氯丙基硅烷、巯基硅烷、聚硫醚硅烷、异氰酸酯硅烷等。密接改良剂的具体例例如可举出：3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-缩水甘油氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巯基丙基三烷氧基硅烷、β-(3，4-环氧环己基)乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、双(三乙氧基硅烷基丙基)四硫醚等。密接改良剂的重量平均分子量优选50～500，更优选100～300。密接改良剂也可使用以下聚合物，该聚合物含有具有下述通式(SC2)所表示的部分结构的结构单元与具有至少一种选自由乙烯基、环氧基、苯乙烯基、(甲基)丙烯酰氧基、氨基、脲基、巯基、硫醚基及异氰酸酯基所组成的组群中的基团(X)的结构单元。该聚合物分别含有多个各结构单元，通常优选的是分别含有5个以上。通式(SC2)[化30]通式(SC2)中，R1及R2分别独立地表示碳数1～4的烷基，n表示0～2的整数。所述通式(SC2)中，R1及R2分别独立地表示碳数1～4的烷基，优选碳数1～3的烷基，更优选甲基或乙基。具体的烷基可举出：甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基等。R1及R2优选的是表示相同的基团。n表示0～2的整数，优选0或1的整数，更优选0。具有通式(SC2)所表示的部分结构的结构单元优选的是由下述通式(I)所表示。通式(I)[化31]通式(I)中，R1及R2分别独立地表示碳数1～4的烷基，n表示0～2的整数。R3表示氢原子或甲基。L1表示单键或连结部的原子数为1～6的连结基。通式(I)中的R1及R2与通式(SC2)中的R1及R2为相同含意，优选范围也相同。通式(I)中的n与通式(SC2)中的n为相同含意，优选范围也相同。R3表示氢原子或甲基，优选氢原子。L1表示单键或连结部的原子数为1～6的连结基，优选的是连结部的原子数为2～6的二价连结基，更优选的是连结部的原子数为3～6的二价连结基。这里，所谓连结部的原子数，是指将通式(I)中的构成主链的碳原子与硅原子连结的链的原子数，在因分支或环状而具有多条链的情况下，是指构成最短的链的原子数。具体来说，在像下述式(A)所示那样L1为亚丙基的情况下，将主链与硅原子连结的链为3个碳原子，因此连结部的原子数成为3。另外，在L1为下述式(B)所示那样的亚环己基的情况下，将主链与硅原子连结的链有3个的情况与5个的情况，但由于表示最短的链，因此连结部的原子数成为3。在像下述式(C)所示那样在L1中的主链中具有羰基的情况下，连结部的原子数也成为3。[化32]L1所表示的连结部的原子数为1～6的连结基的具体例可举出：碳数1～6的亚烷基(例如亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基、亚戊基、亚己基、亚环己基)、碳数6～10的亚芳基(例如亚苯基、亚萘基)等。其中，优选碳数1～6的亚烷基。基团(X)与通式(SC1)中的A1为相同含意，优选的是选自由环氧基、巯基及(甲基)丙烯酰基所表示的基团所组成的组群中，更优选环氧基及巯基。基团(X)也可各不相同，优选的是基团(X)相同。具有至少一种基团(X)的结构单元优选的是由下述通式(II)所表示。通式(II)[化33]通式(II)中，R4分别独立地表示氢原子或甲基。L2表示单键或连结部的原子数为1～6的连结基。R5表示环氧基、巯基、(甲基)丙烯酰基、乙烯基或氨基。R4表示氢原子或甲基，优选氢原子。R5与通式(SC1)中的A1为相同含意，优选环氧基、巯基、(甲基)丙烯酰基，更优选环氧基及巯基。L2与通式(I)中的L1为相同含意，优选范围也相同。密接改良剂优选的是含有通式(I)所表示的结构单元及通式(II)所表示的结构单元，且优选的是通式(I)所表示的结构单元及通式(II)所表示的结构单元占聚合物的所有结构单元的60摩尔％以上，更优选的是占80摩尔％以上。含有通式(SC2)所表示的部分结构的结构单元(优选通式(I)所表示的结构单元)与具有至少一种基团(X)的结构单元(优选通式(II)所表示的结构单元)的含有比率(摩尔比)优选15～85∶85～15，更优选25～75∶75～25。以下示出例示化合物，但本发明当然不限定于这些化合物。Me表示甲基，Et表示乙基。[化34]聚合物型的密接改良剂也可使用市售品，例如可使用：X-12-981S、X-12-984S、X-12-1154、X-12-1048、X-12-972F(均为信越硅酮公司制造)。<增感剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物也可含有增感剂。增感剂吸收光化射线而成 为电子激发状态。成为电子激发状态的增感剂与光酸产生剂接触，产生电子移动、能量移动、放热等作用。借此光酸产生剂发生化学变化而分解，生成酸。因此，通过含有增感剂，可促进光酸产生剂的分解。优选的增感剂的例子可举出属于以下的化合物类、且在350nm～450nm的波长范围内具有吸收波长的化合物。多核芳香族类(例如芘、苝、三亚苯、蒽、9，10-二丁氧基蒽、9，10-二乙氧基蒽、3，7-二甲氧基蒽、9，10-二丙氧基蒽)、呫吨类(例如荧光素(fluorescein)、曙红(eosin)、赤藓红(erythrosine)、若丹明B(rhodamineB)、玫瑰红(rosebengal))、呫吨酮类(例如呫吨酮、噻吨酮、二甲基噻吨酮、二乙基噻吨酮)、花青类(例如硫杂羰花青、氧杂羰花青)、部花青类(例如部花青、羰花青)、玫瑰花青(rhodacyanine)类、氧杂菁类、噻嗪类(例如硫堇、亚甲基蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(例如吖啶橙、氯黄素、吖啶黄(acriflavine))、吖啶酮类(例如吖啶酮、10-丁基-2-氯吖啶酮)、蒽醌类(例如蒽醌)、方酸化合物类(例如方酸化合物)、苯乙烯基类、碱性苯乙烯基类(例如2-[2-[4-(二甲基氨基)苯基]乙烯基]苯并噁唑)、香豆素类(例如7-二乙基氨基-4-甲基香豆素、7-羟基-4-甲基香豆素、2，3，6，7-四氢-9-甲基-1H，5H，11H[1]苯并吡喃并[6，7，8-ij]喹嗪-11-酮)。这些增感剂中，优选多核芳香族类、吖啶酮类、苯乙烯基类、碱性苯乙烯基类、香豆素类，更优选多核芳香族类。多核芳香族类中，最优选蒽衍生物。在本发明的感光性树脂组合物含有增感剂的情况下，相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份，增感剂的含量优选0.001质量份～100质量份。下限例如更优选0.1质量份以上，进而优选0.5质量份以上。下限例如更优选50质量份以下，进而优选20质量份以下。增感剂也可并用两种以上。在并用两种以上的增感剂的情况下，优选的是合计量成为所述范围。<交联剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物也可含有交联剂。通过含有交联剂，可获得更强硬的硬化膜。特别在所述(A)聚合物成分不包含聚合物(所述聚合物含有具有交联性基的结构单元)的情况、或含量少的情况下，更优选的是含有交联剂。交联剂只要通过热而引起交联反应，则并无限制。例如可举出：分子内具有两个以上的环氧基或氧杂环丁基的化合物、封闭异氰酸酯化合物、含烷氧基甲基的交联剂、具有乙烯性不饱和双键的化合物等。<<分子内具有两个以上的环氧基或氧杂环丁基的化合物>>分子内具有两个以上的环氧基的化合物可举出：双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。这些化合物也作为市售品而获取。例如可举出：JER152、JER157S70、JER157S65、JER806、JER828、JER1007(三菱化学控股(MitsubishiChemicalHoldings)(股)制造)等，日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0189中记载的市售品等。除此以外，也可举出：代那考尔(Denacol)EX-611、代那考尔(Denacol)EX-612、代那考尔(Denacol)EX-614、代那考尔(Denacol)EX-614B、代那考尔(Denacol)EX-622、代那考尔(Denacol)EX-512、代那考尔(Denacol)EX-521、代那考尔(Denacol)EX-411、代那考尔(Denacol)EX-421、代那考尔(Denacol)EX-313、代那考尔(Denacol)EX-314、代那考尔(Denacol)EX-321、代那考尔(Denacol)EX-211、代那考尔(Denacol)EX-212、代那考尔(Denacol)EX-810、代 那考尔(Denacol)EX-811、代那考尔(Denacol)EX-850、代那考尔(Denacol)EX-851、代那考尔(Denacol)EX-821、代那考尔(Denacol)EX-830、代那考尔(Denacol)EX-832、代那考尔(Denacol)EX-841、代那考尔(Denacol)EX-911、代那考尔(Denacol)EX-941、代那考尔(Denacol)EX-920、代那考尔(Denacol)EX-931、代那考尔(Denacol)EX-212L、代那考尔(Denacol)EX-214L、代那考尔(Denacol)EX-216L、代那考尔(Denacol)EX-321L、代那考尔(Denacol)EX-850L、代那考尔(Denacol)DLC-201、代那考尔(Denacol)DLC-203、代那考尔(Denacol)DLC-204、代那考尔(Denacol)DLC-205、代那考尔(Denacol)DLC-206、代那考尔(Denacol)DLC-301、代那考尔(Denacol)DLC-402(以上为长濑化成(NagaseChemtex)制造)，YH-300、YH-301、YH-302、YH-315、YH-324、YH-325(以上为新日铁化学制造)等。这些化合物可单独使用一种或组合使用两种以上。这些化合物中，更优选双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂及脂肪族环氧树脂，特别优选双酚A型环氧树脂。分子内具有两个以上的氧杂环丁基的化合物可使用：亚龙氧杂环丁烷(AronOxetane)OXT-121、亚龙氧杂环丁烷(AronOxetane)OXT-221、亚龙氧杂环丁烷(AronOxetane)OX-SQ、亚龙氧杂环丁烷(AronOxetane)PNOX(以上为东亚合成(股)制造)。含有氧杂环丁基的化合物可单独使用，也可与含有环氧基的化合物混合而使用。<<封闭异氰酸酯化合物>>本发明的感光性树脂组合物中，也可优选地采用封闭异氰酸酯系化合物作为交联剂。从硬化性的观点来看，封闭异氰酸酯化合物优选的是在一分子内具有两个以上的封闭异氰酸酯基的化合物。此外，本发明中所谓封闭异氰酸酯基，是指可通过热而生成异氰酸酯基的基团，例如可优选地例示使封闭剂与异氰酸酯基反应而保护异氰酸酯基的基团。另外，封闭异氰酸酯基为可通过90℃～250℃下的加热而生成异氰酸酯基的基团。对于封闭异氰酸酯化合物来说，其骨架并无特别限定，只要在一分子中具有两个异氰酸酯，则可为任意的化合物。例如可举出脂肪族、脂环族或芳香族的聚异氰酸酯。具体例例如可举出：2，4-甲苯二异氰酸酯、2，6-甲苯二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、1，6-六亚甲基二异氰酸酯、1，3-三亚甲基二异氰酸酯、1，4-四亚甲基二异氰酸酯、2，2，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、2，4，4-三甲基六亚甲基二异氰酸酯、1，9-九亚甲基二异氰酸酯、1，10-十亚甲基二异氰酸酯、1，4-环己烷二异氰酸酯、2，2′-二乙醚二异氰酸酯、二苯基甲烷-4，4′-二异氰酸酯、邻二甲苯二异氰酸酯、间二甲苯二异氰酸酯、对二甲苯二异氰酸酯、亚甲基双(环己基异氰酸酯)、环己烷-1，3-二亚甲基二异氰酸酯、环己烷-1，4-二亚甲基二异氰酸酯、1，5-萘二异氰酸酯、对苯二异氰酸酯、3，3′-亚甲基二甲苯-4，4′-二异氰酸酯、4，4′-二苯醚二异氰酸酯、四氯苯二异氰酸酯、降冰片烷二异氰酸酯、氢化1，3-二甲苯二异氰酸酯、氢化1，4-二甲苯二异氰酸酯等异氰酸酯化合物及由这些化合物所衍生的预聚物型的骨架的化合物。这些化合物中，特别优选甲苯二异氰酸酯(TDI)或二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)。封闭异氰酸酯化合物的母结构可举出：缩二脲型、异氰脲酸酯型、加合物型、二官能预聚物型等。形成封闭异氰酸酯化合物的封闭结构的封闭剂可举出：肟化合物、内酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亚甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、 酰亚胺系化合物等。这些化合物中，特别优选的是选自肟化合物、内酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亚甲基化合物、吡唑化合物中的封闭剂。肟化合物可举出肟及酮肟，具体可例示：乙酰肟、甲醛肟(formaldoxime)、环己烷肟、甲基乙基酮肟、环己酮肟、二苯甲酮肟等。内酰胺化合物可例示ε-己内酰胺、γ-丁内酰胺等。酚化合物可例示：苯酚、萘酚、甲酚、二甲苯酚、经卤素取代的苯酚等。醇化合物可例示：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、环己醇、乙二醇单烷基醚、丙二醇单烷基醚、乳酸烷基酯等。胺化合物可举出一级胺及二级胺，可为芳香族胺、脂肪族胺、脂环族胺的任一种，可例示苯胺、二苯基胺、亚乙基亚胺、聚亚乙基亚胺等。活性亚甲基化合物可例示：丙二酸二乙酯、丙二酸二甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸甲酯等。吡唑化合物可例示吡唑、甲基吡唑、二甲基吡唑等。硫醇化合物可例示烷基硫醇、芳基硫醇等。封闭异氰酸酯化合物可作为市售品而获取，例如可优选地使用：克罗奈特(Coronate)AP坚固(stable)M、克罗奈特(Coronate)2503、克罗奈特(Coronate)2515、克罗奈特(Coronate)2507、克罗奈特(Coronate)2513、克罗奈特(Coronate)2555、米利奥奈特(Millionate)MS-50(以上为日本聚氨酯工业(股)制造)，塔克奈特(Takenate)B-830、塔克奈特(Takenate)B-815N、塔克奈特(Takenate)B-820NSU、塔克奈特(Takenate)B-842N、塔克奈特(Takenate)B-846N、塔克奈特(Takenate)B-870N、塔克奈特(Takenate)B-874N、塔克奈特(Takenate)B-882N(以上为三井化学(股)制造)，杜拉奈特(Duranate)17B-60PX、杜拉奈特(Duranate)17B-60P、杜拉奈特(Duranate)TPA-B80X、杜拉奈特(Duranate)TPA-B80E、杜拉奈特(Duranate)MF-B60X、杜拉奈特(Duranate)MF-B60B、杜拉奈特(Duranate)MF-K60X、杜拉奈特(Duranate)MF-K60B、杜拉奈特(Duranate)MFA-100、杜拉奈特(Duranate)E402-B80B、杜拉奈特(Duranate)SBN-70D、杜拉奈特(Duranate)SBB-70P、杜拉奈特(Duranate)K6000(以上为旭化成化学(股)制造)，德斯莫杜尔(Desmodule)BL1100、德斯莫杜尔(Desmodule)BL1265MPA/X、德斯莫杜尔(Desmodule)BL3575/1、德斯莫杜尔(Desmodule)BL3272MPA、德斯莫杜尔(Desmodule)BL3370MPA、德斯莫杜尔(Desmodule)BL3475BA/SN、德斯莫杜尔(Desmodule)BL5375MPA、德斯莫杜尔(Desmodule)VPLS2078/2、德斯莫杜尔(Desmodule)BL4265SN、德斯莫杜尔(Desmodule)PL340、德斯莫杜尔(Desmodule)PL350、苏米杜尔(Sumidule)BL3175(以上为住化拜耳氨基甲酸酯(股)制造)等。<<其他交联剂>>其他交联剂也可优选地使用日本专利特开2012-8223号公报的段落编号0107～段落编号0108中记载的含烷氧基甲基的交联剂、具有乙烯性不饱和双键的化合物等，将这些内容并入到本发明说明书中。含烷氧基甲基的交联剂优选烷氧基甲基化甘脲。在本发明的感光性树脂组合物含有交联剂的情况下，相对于所述(A)聚合物成分的合计100质量份，交联剂的含量优选0.01质量份～50质量份。下限例如更优选0.1质量份以上，进而优选0.5质量份以上。上限例如更优选30质量份以下，进而优选20质量份以下。若为该范围，则可获得机械强度及耐溶剂性优异的硬化膜。交联剂可仅使用一种，也可使用两种以 上。在使用两种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。<碱性化合物>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物也可含有碱性化合物。碱性化合物可从化学增幅型正型抗蚀剂中所使用的碱性化合物中任意地选择使用。例如可举出：脂肪族胺、芳香族胺、杂环式胺、氢氧化四级铵、羧酸的四级铵盐等。这些化合物的具体例可举出日本专利特开2011-221494号公报的段落编号0204～段落编号0207中记载的化合物，将这些内容并入到本发明说明书中。具体来说，脂肪族胺例如可举出：三甲胺、二乙胺、三乙胺、二正丙胺、三正丙胺、二正戊胺、三正戊胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二环己胺、二环己基甲基胺等。芳香族胺例如可举出：苯胺、苄胺、N，N-二甲基苯胺、二苯胺等。杂环式胺例如可举出：吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲基氨基吡啶、咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯并咪唑、2，4，5-三苯基咪唑、烟碱、烟碱酸、烟碱酰胺、喹啉、8-羟基喹啉、吡嗪、吡唑、哒嗪、嘌呤、吡咯啶、哌啶、哌嗪、吗啉、4-甲基吗啉、N-环己基-N′-[2-(4-吗啉基)乙基]硫脲、1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯、1，8-二氮杂双环[5.3.0]-7-十一烯等。氢氧化四级铵例如可举出：氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化苄基三甲基铵、氢氧化四正丁基铵、氢氧化四正己基铵等。羧酸的四级铵盐例如可举出：乙酸四甲基铵、苯甲酸四甲基铵、乙酸四正丁基铵、苯甲酸四正丁基铵等。在本发明的感光性树脂组合物含有碱性化合物的情况下，相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份，碱性化合物的含量优选0.001质量份～3质量份，更优选0.005质量份～1质量份。碱性化合物可单独使用一种，也可并用两种以上。在使用两种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。<表面活性剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物也可含有表面活性剂。表面活性剂可使用阴离子系、阳离子系、非离子系或两性的任一种，优选的表面活性剂为非离子表面活性剂。表面活性剂例如可使用日本专利特开2012-88459号公报的段落编号0201～段落编号0205中记载的表面活性剂、或日本专利特开2011-215580号公报的段落编号0185～段落编号0188中记载的表面活性剂，将这些记载并入到本发明说明书中。非离子系表面活性剂的例子可举出：聚氧亚乙基高级烷基醚类、聚氧亚乙基高级烷基苯基醚类、聚氧乙二醇的高级脂肪酸二酯类、硅酮系、氟系表面活性剂。另外，也能以如下商品名而举出：KP-341、X-22-822(信越化学工业(股)制造)，珀利弗洛(Polyflow)No.99C(共荣社化学(股)制造)，艾福拓(Eftop)(三菱材料化成公司制造)、美佳法(Megafac)(迪爱生(DIC)(股)制造)，F-554(迪爱生(DIC)(股)制造)，弗拉德诺贝克(FluoradNovec)FC-4430(住友3M(股)制造)，沙福隆(Surflon)S-242(AGC清美化学(AGCSeimiChemical)公司制造)，珀利佛斯(PolyFox)PF-6320(欧诺瓦(OMNOVA)公司制造)，SH-8400(东丽-道康宁硅酮(Toray-DowcorningSilicone))、福吉特(Ftergent)FTX-218G(尼奥斯(Neos)公司制造)等。另外，表面活性剂可举出以下共聚物作为优选例：含有下述通式(I-1-1)所表示的结构 单元A及结构单元B、且以四氢呋喃(THF)作为溶剂的情况下的通过凝胶渗透色谱所测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)为1,000～10,000的共聚物。重量平均分子量(Mw)更优选1,500～5,000。通式(I-1-1)[化35]式(I-1-1)中，R401及R403分别独立地表示氢原子或甲基，R402表示碳数1以上且4以下的直链亚烷基，R404表示氢原子或碳数1以上且4以下的烷基，L表示碳数3以上且6以下的亚烷基，p及q为表示聚合比的质量百分率，p表示10质量％以上且80质量％以下的数值，q表示20质量％以上且90质量％以下的数值，r表示1以上且18以下的整数，s表示1以上且10以下的整数。所述L优选下述通式(I-1-2)所表示的分支亚烷基。通式(I-1-2)中的R405表示碳数1以上且4以下的烷基，从相容性及对被涂布面的润湿性的方面来看，优选碳数1以上且3以下的烷基，更优选碳数2或3的烷基。p与q的合计优选100。通式(I-1-2)[化36]表面活性剂可单独使用一种或混合使用两种以上。在本发明的感光性树脂组合物含有表面活性剂的情况下，相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，表面活性剂的含量优选10质量份以下，更优选0.001质量份～10质量份，进而优选0.01质量份～3质量份。<抗氧化剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物也可含有抗氧化剂。关于抗氧化剂，可含有众所周知的抗氧化剂。通过添加抗氧化剂，可防止硬化膜的着色。进而，可减少由分解所致的膜厚的薄化，另外有耐热透明性优异的优点。抗氧化剂例如可举出：磷系抗氧化剂、酰胺类、酰肼类、受阻胺系抗氧化剂、硫系抗氧化剂、酚系抗氧化剂、抗坏血酸类、硫酸锌、糖类、亚硝酸盐、亚硫酸盐、硫代硫酸盐、羟基胺衍生物等。这些化合物中，从硬化膜的着色、膜厚的薄化的观点来看，优选酚系抗氧化剂、受阻胺系抗氧化剂、磷系抗氧化剂、酰胺系抗氧化剂、酰肼系抗氧化剂、硫系抗氧化剂，最优选酚系抗氧化剂。这些抗氧化剂可单独使用一种，也可混合两种以上。具体例可举出：日本专利特开2005-29515号公报的段落编号0026～段落编号0031中记载的化合物、日本专利特开2011-227106号公报的段落编号0106～段落编号0116中记载的化合物，将这些内容并入到本发明说明书中。优选的市售品可举出：艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-20、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-80、艾迪科斯塔波(Adekastab)LA-52、艾迪科斯塔波(Adekastab)LA-81、艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-412S、艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-36、易璐诺斯(Irganox)1035、易璐诺斯(Irganox)1098、地奴彬(Tinuvin)144。在本发明的感光性树脂组合物含有抗氧化剂的情况下，相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，抗氧化剂的含量优选0.1质量份～10质量份，更优选0.2质量份～5质量份，特别优选0.5质量份～4质量份。通过设定为该范围，可获得所形成的膜的充分的透明性，且图案形成时的感度也变良好。<酸增殖剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物为了提高感度，可使用酸增殖剂。酸增殖剂为可通过酸催化反应而进一步产生酸、使反应体系内的酸浓度上升的化合物，且为在不存在酸的状态下稳定地存在的化合物。酸增殖剂的具体例可举出日本专利特开2011-221494的段落编号0226～段落编号0228中记载的酸增殖剂，将其内容并入到本发明说明书中。<显影促进剂>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物可含有显影促进剂。显影促进剂可参照日本专利特开2012-042837号公报的段落编号0171～段落编号0172中记载的显影促进剂，将其内容并入到本发明说明书中。显影促进剂可单独使用一种，也可并用两种以上。在本发明的感光性树脂组合物含有显影促进剂的情况下，从感度及残膜率的观点来看，相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，显影促进剂的添加量优选0质量份～30质量份，更优选0.1质量份～20质量份，最优选0.5质量份～10质量份。<其他成分>本发明的第1实施方式的感光性树脂组合物视需要可分别独立地添加一种或两种以上的热自由基产生剂、热酸产生剂、紫外线吸收剂、增稠剂、有机或无机的防沉淀剂等众所周知的添加剂。这些化合物例如可使用日本专利特开2012-88459号公报的段落编号0201～段落编号0224记载的化合物，将这些内容并入到本发明说明书中。另外，也可使用日本专利特开2012-8223号公报的段落编号0120～段落编号0121中记载的热自由基产生剂、WO2011/136074A1中记载的含氮化合物及热酸产生剂，将这些内容并入到本发明说明书中。另外，也可设定为实质上不含上文所述的通式(I)所表示的化合物以外的其他热碱产生剂的实施方式。[本发明的第2实施方式]接着，对本发明的感光性树脂组合物的第2实施方式进行说明。本发明的第2实施方式的感光性树脂组合物含有：(A2)包含以下聚合物的聚合物成分、(B2)醌二叠氮化合物、(C)上文所述的通式(I)所表示的化合物以及(D)溶剂，其中所 述聚合物含有具有酸基的结构单元。<(A2)聚合物成分>(A2)聚合物成分包含聚合物，所述聚合物含有具有酸基的结构单元(a2-1)。通过含有具有酸基的结构单元(a2-1)，而容易溶解于碱性的显影液中。酸基通常是使用可形成酸基的单体，以具有酸基的结构单元的形式而组入到聚合物中。酸基可例示：来源于羧酸基的基团、来源于磺酰胺基的基团、来源于膦酸基的基团、来源于磺酸基的基团、来源于酚性羟基的基团、磺酰胺基、磺酰亚胺基等，优选的是来源于羧酸基的基团和/或来源于酚性羟基的基团。具有酸基的结构单元优选的是具有羧基和/或酚性羟基的结构单元。具有酸基的结构单元也优选的是来源于苯乙烯的结构单元或来源于乙烯系化合物的结构单元、来源于(甲基)丙烯酸和/或其酯的结构单元。例如可使用日本专利特开2012-88459号公报的段落编号0021～段落编号0023及段落编号0029～段落编号0044记载的化合物，将其内容并入到本发明说明书中。其中，优选的是来源于选自对羟基苯乙烯、(甲基)丙烯酸、马来酸及马来酸酐中的至少一种的结构单元。本发明中，(A2)聚合物成分优选的是包含聚合物，所述聚合物含有具有交联性基的结构单元(a2-2)。根据该实施方式，容易形成表面硬度优异的硬化膜。具有交联性基的结构单元的具体例可举出上文所述的(A2)聚合物成分的结构单元(a1-2)中说明的结构单元，优选范围也相同。所述结构单元(a2-2)可含有于含有所述结构单元(a2-1)的聚合物中，也可含有于与含有所述结构单元(a2-1)的聚合物不同的聚合物中。即，本发明中，(A2)聚合物成分优选的是满足下述(2-1)及(2-2)的至少一个。(2-1)含有(a2-1)具有酸基的结构单元及(a2-2)具有交联性基的结构单元的聚合物、(2-2)含有(a2-1)具有酸基的结构单元的聚合物及含有(a2-2)具有交联性基的结构单元的聚合物。<<(a2-3)其他结构单元>>(A2)聚合物成分也可含有除所述结构单元(a2-1)及所述结构单元(a2-2)以外的结构单元(a2-3)。形成结构单元(a2-3)的单体只要为所述结构单元(a2-1)及结构单元(a2-2)以外的不饱和化合物，则并无特别限制。例如可举出：苯乙烯类、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸环状烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、双环不饱和化合物类、马来酰亚胺化合物类、不饱和芳香族化合物、共轭二烯系化合物、其他不饱和化合物。形成结构单元(a2-3)的单体可单独使用或组合使用两种以上。(A2)聚合物成分的所有结构单元中，优选的是含有3摩尔％～70摩尔％的结构单元(a2-1)，更优选的是含有10摩尔％～60摩尔％的结构单元(a2-1)，进而优选的是含有15摩尔％～50摩尔％的结构单元(a2-1)。(A2)聚合物成分的所有结构单元中，优选的是含有3摩尔％～70摩尔％的结构单元(a2-2)，更优选的是含有10摩尔％～60摩尔％的结构单元(a2-2)，进而优选的是含有15摩尔％～40摩尔％的结构单元(a2-2)。(A2)聚合物成分的所有结构单元中，优选的是含有1摩尔％～80摩尔％的结构单元(a2-3)，更优选的是含有5摩尔％～50摩尔％的结构单元(a2-3)，进而优选的是含有8摩尔％～30摩尔％的结构单元(a2-3)。本发明的第2形态的感光性树脂组合物优选的是以感光性树脂组合物的总固体成分的70质量％以上的比例而含有(A2)聚合物成分。<(B2)醌二叠氮化合物>本发明的第2形态的感光性树脂组合物含有醌二叠氮化合物。醌二叠氮化合物可优选地使用通过光化射线的照射而产生羧酸的1，2-醌二叠氮化合物。1，2-醌二叠氮化合物可优选地使用酚性化合物或醇性化合物(以下称为“母核”)与1，2-萘醌二叠氮磺酰卤的缩合物等。这些化合物的具体例例如可参照日本专利特开2012-088459公报的段落编号0075～段落编号0078的记载，将其内容并入到本发明说明书中。在酚性化合物或醇性化合物(母核)与1，2-萘醌二叠氮磺酰卤的缩合反应中，可使用相对于酚性化合物或醇性化合物中的OH基数而相当于优选30摩尔％～85摩尔％、更优选50摩尔％～70摩尔％的1，2-萘醌二叠氮磺酰卤。缩合反应可通过众所周知的方法来实施。1，2-醌二叠氮化合物也可合适地使用将所述例示的母核的酯键变更为酰胺键而成的1，2-萘醌二叠氮磺酸酰胺类、例如2，3，4-三氨基二苯甲酮-1，2-萘醌二叠氮-4-磺酰胺等。另外也可使用4，4′-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚(1.0摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(3.0摩尔)的缩合物、1，1，1-三(对羟基苯基)乙烷(1.0摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯(2.0摩尔)的缩合物、2，3，4，4′-四羟基二苯甲酮(1.0摩尔)与1，2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯(2.44摩尔)的缩合物等。这些醌二叠氮化合物可单独使用或组合使用两种以上。相对于感光性树脂组合物中的总固体成分100质量份，本发明的感光性树脂组合物中的醌二叠氮化合物的含量优选1质量份～50质量份。下限例如更优选2质量份以上，进而优选10质量份以上。上限例如更优选40质量份以下，进而优选30质量份以下。通过将醌二叠氮化合物的含量设定为所述范围，经光化射线照射的部分与未经照射的部分在成为显影液的碱性水溶液中的溶解度差变大，图案化性能变良好，另外所得的硬化膜的耐溶剂性变良好。<(C)化合物>本发明的第2实施方式的感光性树脂组合物含有(C)化合物。(C)化合物可举出上文所述的第2实施方式的感光性树脂组合物中说明的(C)化合物，优选范围也相同。相对于感光性树脂组合物的总固体成分100质量份，(C)化合物的含量优选0.01质量份～20质量份。下限例如更优选0.05质量份以上，进而优选0.1质量份以上，进一步优选0.3质量份以上。上限例如更优选10质量份以下，进而优选5质量份以下。通过设定为这种范围，有更有效地发挥本发明的效果的倾向。另外，相对于上文所述的(A1)聚合物成分100质量份，(C)化合物的含量优选0.01质量份～20质量份。下限例如更优选0.05质量份以上，进而优选0.1质量份以上，进一步优选0.3质量份以上。上限例如更优选10质量份以下，进而优选5质量份以下。通过设定为这种范围，有更有效地发挥本发明的效果的倾向。<(D)溶剂>本发明的第2实施方式的感光性树脂组合物含有溶剂。溶剂可举出上文所述的第1实施 方式的感光性树脂组合物中说明的溶剂，优选范围也相同。相对于感光性树脂组合物中的所有成分100质量份，溶剂的含量优选40质量份～95质量份。下限更优选45质量份以上，进而优选50质量份以上。上限更优选90质量份以下，进而优选85质量份以下。溶剂可仅使用一种，也可使用两种以上。在使用两种以上的情况下，优选的是其合计量成为所述范围。<其他成分>本发明的第2实施方式的感光性树脂组合物除了所述成分以外，可在不损及本发明的效果的范围内视需要而添加交联剂、碱性化合物、表面活性剂、抗氧化剂、显影促进剂、塑化剂、热自由基产生剂、热酸产生剂、紫外线吸收剂、增稠剂及有机或无机的防沉淀剂等众所周知的添加剂。这些成分与上文所述的第1实施方式相同，优选范围也相同。这些分别可仅使用一种，也可使用两种以上。<感光性树脂组合物的制备方法>关于本发明的感光性树脂组合物，可将各成分以既定的比例且利用任意的方法混合，并进行搅拌溶解而制备。例如也可将各成分制成分别预先溶解于溶剂中的溶液后，将这些溶液以既定的比例混合而制备本发明的感光性树脂组合物。像以上那样所制备的组合物溶液例如也可使用孔径0.2μm的过滤器等进行过滤后使用。<硬化膜的制造方法>本发明的硬化膜的制造方法优选的是包括以下的(1)～(5)的工序。(1)将本发明的感光性树脂组合物涂布到基板上的工序(涂布工序)(2)从所涂布的感光性树脂组合物中除去溶剂的工序(溶剂除去工序)(3)利用光化射线对除去了溶剂的感光性树脂组合物进行曝光的工序(曝光工序)(4)利用显影液对经曝光的感光性树脂组合物进行显影的工序(曝光工序)(5)对经显影的感光性树脂组合物进行热硬化的工序(烘烤工序)以下依次说明各工序。(1)工序中，优选的是将本发明的感光性树脂组合物涂布到基板上而制成含有溶剂的湿润膜。(1)工序中，也可在基板上涂布感光性树脂组合物之前，对基板进行碱清洗或等离子体清洗等清洗。另外，对于清洗后的基板，也可利用六甲基二硅氮烷等对基板表面进行处理。利用六甲基二硅氮烷对基板表面进行处理的方法并无特别限定，例如可举出预先将基板暴露在六甲基二硅氮烷蒸气中的方法等。基板可举出无机基板、树脂基板、树脂复合材料基板等。无机基板例如可举出：玻璃基板、石英基板、硅基板、氮化硅基板及在这种基板上蒸镀钼、钛、铝、铜等而成的复合基板。树脂基板的树脂可举出：聚对苯二甲酸丁二酯、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚芳酯、烯丙基二甘醇碳酸酯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚苯并唑、聚苯硫醚、聚环烯烃、降冰片烯树脂、聚氯三氟乙烯等氟树脂、液晶聚合物、丙烯酸系树脂、环氧树脂、硅酮树脂、离子聚合物树脂、氰酸酯树脂、交联富马酸二酯、环状聚烯烃、芳香族醚、马来酰亚胺-烯烃、纤维素、表硫醚化合物等合成树脂。这些基板很少以所述形态而直接使用，也可根据最终制品的形态而形成例如薄膜晶体管(Thin-FilmTransistor，TFT)元件那样的多层层叠结构。对基板涂布感光性树脂组合物的涂布方法并无特别限定，例如可使用：狭缝涂布法、喷雾法、辊涂法、旋转涂布法、流延涂布法、狭缝及旋转法等方法。狭缝涂布法的情况下，优选的是将基板与狭缝模(slitdie)的相对移动速度设定为50mm/sec～120mm/sec。涂布感光性树脂组合物时的湿润膜厚并无特别限定，能以与用途相对应的膜厚而涂布。例如优选0.5μm～10μm。在基板上涂布本发明的感光性树脂组合物之前，也可应用日本专利特开2009-145395号公报中记载那样的所谓预湿(pre-wet)法。(2)工序中，从涂布感光性树脂组合物而形成的所述湿润膜中，通过减压(真空)和/或加热等而将溶剂除去，在基板上形成干燥膜。溶剂除去工序的加热条件优选的是在70℃～130℃下加热30秒钟～300秒钟左右。在温度及时间为所述范围的情况下，有图案的密接性更良好、且可进一步减少残渣的倾向。(3)工序中，对设有干燥膜的基板照射既定图案的光化射线。该工序中，在曝光部中生成羧基或酚性羟基，从而曝光部在显影液中的溶解性提高。即，在含有如下聚合物成分、以及光酸产生剂的实施方式中，通过光化射线的照射，光酸产生剂分解而产生酸，所述聚合物成分含有具有酸基经酸分解性基保护而成的基团的结构单元。而且，通过所产生的酸的催化作用，将涂膜成分中所含的酸分解性基水解，生成羧基或酚性羟基。另外，在含有醌二叠氮化合物的实施方式中，通过光化射线的照射，由醌二叠氮化合物生成羧基。光化射线的光源可使用低压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、发光二极管(LightEmittingDiode，LED)光源、准分子激光产生装置等，可优选地使用i射线(365nm)、h射线(405nm)、g射线(436nm)等具有300nm以上且450nm以下的波长的光化射线。另外，视需要也可通过长波长截止滤波器、短波长截止滤波器、带通滤波器那样的分光滤波器来调整照射光。曝光量优选1mJ/cm2～500mJ/cm2。曝光装置可使用：镜面投影对准曝光机(mirrorprojectionaligner)、步进机(stepper)、扫描仪(scanner)、近接式(proximity)、接触式(contact)、微透镜阵列(microlensarray)、透镜扫描仪(1ensscanner)、激光曝光等各种方式的曝光机。另外，也可进行使用所谓超解析技术的曝光。超解析技术可举出：进行多次曝光的多重曝光、或使用相移掩模的方法、轮带照明法等。通过使用这些超解析技术，可形成高精细的图案，因而优选。(4)工序中，使用显影液对具有游离的羧基或酚性羟基的共聚物进行显影。通过将容易溶解于显影液中的具有羧基和/或酚性羟基的曝光部区域除去，而形成正型图像。显影工序中使用的显影液中，优选的是含有碱性化合物的水溶液。碱性化合物例如可使用：氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾等碱金属氢氧化物类；碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯等碱金属碳酸盐类；重碳酸钠、重碳酸钾等碱金属重碳酸盐类；氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、氢氧化二乙基二甲基铵等氢氧化四烷基铵类：胆碱等氢氧化(羟基烷基)三烷基铵类；硅酸钠、偏硅酸钠等硅酸盐类；乙胺、丙胺、二乙胺、三乙胺等烷基胺类；二甲基乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类；1，8-二氮杂双环-[5.4.0]-7-十一烯、1，5-二氮杂双环-[4.3.0]-5-壬烯等脂环式胺类这些化合物中，优选氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化四甲基铵、氢氧化四乙基铵、氢氧化四丙基铵、氢氧化四丁基铵、胆碱(氢氧化-2-羟基乙基三甲基铵)。另外，也可将在所述碱类的水溶液中添加有适当量的甲醇或乙醇等水溶性有机溶剂或表面活性剂的水溶液用作显影液。显影液的pH值优选10.0～14.0。显影时间优选30秒钟～500秒钟，另外，显影的方法可为覆液法(浸置法)、喷淋法、浸渍法等的任一种。显影后，也可进行淋洗工序。在淋洗工序中，通过利用纯水等来清洗显影后的基板，可进行附着的显影液除去、显影残渣除去。淋洗方法可使用众所周知的方法。例如可举出喷淋淋洗或浸渍淋洗等。(5)工序中，通过对所得的正型图像进行加热，将酸分解性基热分解而生成羧基或酚性羟基，并使其与交联性基、交联剂等交联，由此可形成硬化膜。进而推测，由通式(I)所表示的化合物产生碱，可将硬化膜中游离的酸等中和。因此，可抑制金属等的变色。关于该加热，优选的是使用加热板或烘箱等加热装置，在既定的温度、例如180℃～250℃下进行既定时间的加热处理，例如若为加热板则进行5分钟～90分钟的加热处理，若为烘箱则进行30分钟～120分钟的加热处理。通过像这样进行交联反应，可形成耐热性、硬度等更优异的保护膜或层间绝缘膜。另外，进行加热处理时，通过在氮气环境下进行处理，可进一步提高透明性。也可在后烘烤前，在相对较低的温度下烘烤后进行后烘烤(追加中烘烤工序)。在进行中烘烤的情况下，优选的是在90℃～150℃下加热1分钟～60分钟后，在200℃以上的高温下后烘烤。另外，也可将中烘烤、后烘烤分为三阶段以上的多阶段来进行加热。通过设定这种中烘烤、后烘烤，可调整图案的锥角。这些加热可使用加热板、烘箱、红外线加热器等众所周知的加热方法。此外，通过在后烘烤之前、利用光化射线对形成了图案的基板进行全面再曝光(后曝光)后进行后烘烤，可由存在于未曝光部分中的光酸产生剂产生酸，使其作为促进交联工序的催化剂而发挥功能，从而可促进膜的硬化反应。包括后曝光工序的情况的优选曝光量优选100mJ/cm2～3,000mJ/cm2，特别优选100mJ/cm2～500mJ/cm2。由本发明的感光性树脂组合物所得的硬化膜也可用作干式蚀刻的抗蚀剂。在将通过后烘烤工序进行热硬化所得的硬化膜用作干式蚀刻的抗蚀剂的情况下，关于蚀刻处理，可进行灰化、等离子体蚀刻、臭氧蚀刻等干式蚀刻处理。<硬化膜>本发明的硬化膜为使上文所述的本发明的感光性树脂组合物硬化所得的硬化膜。另外，本发明的硬化膜优选的是通过上文所述的本发明的硬化膜的形成方法所得的硬化膜。本发明的硬化膜可合适地用作层间绝缘膜。特别可优选地用作金属配线的绝缘基板。本发明的感光性树脂组合物即便在高温下经烘烤的情况下，也可获得具有高透明性的层间绝缘膜。使用本发明的感光性树脂组合物而成的层间绝缘膜具有高透明性，在液晶显示装置、有机电致发光显示装置、触摸屏等的用途中有用。<液晶显示装置>本发明的液晶显示装置具有本发明的硬化膜。本发明的液晶显示装置除了具有使用本发明的感光性树脂组合物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可举出采取各种结构的众所周知的液晶显示装置。例如本发明的液晶显示装置所具备的薄膜晶体管(Thin-FilmTransistor，TFT)的具体例可举出：非晶硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的硬化膜由于电特性优异，因此可组合到这些TFT中而优选地使用。另外，本发明的液晶显示装置可采取的液晶驱动方式可举出：扭转向列(TwistedNematic，TN)方式、垂直取向(VerticalAlignment，VA)方式、面内切换(In-Plane-Switching，IPS)方式、边缘场切换(FringeFieldSwitching，FFS)方式、光学补偿弯曲(OpticalCompensatedBend，OCB)方式等。面板构成中，在彩色滤光片阵列(ColorFilteronArray，COA)方式的液晶显示装置中也可使用本发明的硬化膜，例如可用作日本专利特开2005-284291的有机绝缘膜(115)、或日本专利特开2005-346054的有机绝缘膜(212)。另外，本发明的液晶显示装置可取的液晶取向膜的具体取向方式可举出摩擦取向法、光取向法等。另外，也可通过日本专利特开2003-149647号公报或日本专利特开2011-257734号公报中记载的聚合物稳定取向(PolymerSustainedAlignment，PSA)技术来进行聚合物取向支持。另外，本发明的感光性树脂组合物及本发明的硬化膜不限定于所述用途，可用于各种用途中。例如除了平坦化膜或层间绝缘膜以外，可合适地用于彩色滤光片的保护膜、或用来将液晶显示装置中的液晶层保持于一定厚度的间隔件(spacer)、或固体摄像元件中设置在彩色滤光片上的微透镜等。图1为表示有源矩阵方式的液晶显示装置10的一例的概念性截面图。该液晶显示装置10为在背面上具有背光单元12的液晶面板，且液晶面板中配置着TFT16的元件，该TFT16的元件与在贴附有偏光膜的两片玻璃基板14、玻璃基板15之间配置的所有像素相对应。对于形成在玻璃基板上的各元件，通过硬化膜17中形成的接触孔18来进行形成像素电极的氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)透明电极19的配线。在ITO透明电极19上，设有液晶20的层及配置有黑色矩阵的红绿蓝(RedGreenBlue，RGB)彩色滤光片22。背光的光源并无特别限定，可使用众所周知的光源。例如可举出：白色发光二极管(LightEmittingDiode，LED)、蓝色/红色/绿色等的多色LED、荧光灯(冷阴极管)、有机电致发光(有机EL)等。另外，液晶显示装置可设定为三维(ThreeDimension，3D)(立体视)型，也可设定为触摸屏型。进而也可设定为柔性型，可用作日本专利特开2011-145686号公报中记载的第2层间绝缘膜(48)、或日本专利特开2009-258758号公报中记载的层间绝缘膜(520)。进而，在静态驱动方式的液晶显示装置中，也可通过应用本发明而显示设计性高的图案。作为其例子，可作为日本专利特开2001-125086号公报中记载那样的聚合物网络型液晶的绝缘膜而应用本发明。<有机电致发光显示装置>本发明的有机电致发光(有机EL)显示装置具有本发明的硬化膜。本发明的有机EL显示装置除了具有使用本发明的感光性树脂组合物所形成的平坦化膜或层间绝缘膜以外，并无特别限制，可举出采取各种结构的众所周知的各种有机EL显示装置。例如，本发明的有机EL显示装置所具备的TFT(Thin-FilmTransistor)的具体例可举出 非晶硅-TFT、低温多晶硅-TFT、氧化物半导体TFT等。本发明的硬化膜由于电特性优异，因此可组合到这些TFT中而优选地使用。图2为有机EL显示装置的一例的构成概念图。表示底部发光(bottomemission)型有机EL显示装置中的基板的示意性截面图，具有平坦化膜4。在玻璃基板6上形成底部栅极型的TFT1，以覆盖TFT1的状态而形成包含Si3N4的绝缘膜3。在绝缘膜3中形成接触孔后，在绝缘膜3上形成经由该接触孔而连接于TFT1的配线2(高度1.0μm)，所述接触孔在这里省略图示。配线2是用来将TFT1间连接、或将后续工序中形成的有机EL元件与TFT1连接的配线。进而，为了使因形成配线2所致的凹凸平坦化，以填埋由配线2所致的凹凸的状态在绝缘膜3上形成平坦化膜4。在平坦化膜4上，形成底部发光型的有机EL元件。即，在平坦化膜4上经由接触孔7连接于配线2而形成包含ITO的第一电极5。另外，第一电极5相当于有机EL元件的阳极。形成覆盖第一电极5的边缘的形状的绝缘膜8，通过设置绝缘膜8，可防止第一电极5与此后的工序中形成的第二电极之间的短路。进而，图2中虽未图示，但隔着所需的图案来依次蒸镀设置空穴传输层、有机发光层、电子传输层，然后在基板上方的整个面上形成包含Al的第二电极，使用密封用玻璃板及紫外线硬化型环氧树脂贴合，由此进行密封，获得对各有机EL元件连接用来驱动该有机EL元件的TFT1而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。本发明的感光性树脂组合物由于感度良好，显影时的图案密接性优异，因此可作为微机电系统(MicroElectroMechanicalSystems，MEMS)元件的结构构件，将使用本发明的感光性树脂组合物所形成的抗蚀剂图案作为隔离壁，或作为机械驱动零件的一部分组入而使用。MEMS元件例如可举出：表面声波(SurfaceAcousticWave，SAW)滤波器、体声波(BulkAcousticWave，BAW)滤波器、陀螺传感器(gyrosensor)、显示器用微快门(microshutter)、影像传感器(imagesensor)、电子纸、喷墨头(ink-jethead)、生物芯片(bio-chip)、密封剂等零件。更具体的例子是例示在日本专利特表2007-522531、日本专利特开2008-250200、日本专利特开2009-263544等中。本发明的感光性树脂组合物由于平坦性或透明性优异，因此可用于形成例如日本专利特开2011-107476号公报的图2中记载的岸堤层(16)及平坦化膜(57)、日本专利特开2010-9793号公报的图4(a)中记载的隔离壁(12)及平坦化膜(102)、日本专利特开2010-27591号公报的图10中记载的岸堤层(221)及第3层间绝缘膜(216b)、日本专利特开2009-128577号公报的图4(a)中记载的第2层间绝缘膜(125)及第3层间绝缘膜(126)、日本专利特开2010-182638号公报的图3中记载的平坦化膜(12)及像素分离绝缘膜(14)等。除此以外，也可合适地用于将液晶显示装置中的液晶层保持于一定厚度的间隔件或传真机(facsimile)、电子复印机、固体摄像元件等芯片上(on-chip)彩色滤光片的成像光学系统或光纤连接器的微透镜。<触摸屏>本发明的触摸屏具备具有本发明的硬化膜的静电电容型输入装置。另外，静电电容型输入装置具有本发明的硬化膜。即，本发明的触摸屏具有本发明的硬化膜。静电电容型输入装置具有前面板，且于前面板的非接触侧至少具有下述(1)～(5)的 要素，优选的是(4)绝缘层为使用本发明的感光性树脂组合物的硬化膜。(1)掩模层(2)多个垫部分经由连接部分在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案(3)与第一透明电极图案电绝缘、且包含在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的多个垫部分的多个第二透明电极图案(4)将第一透明电极图案与第二透明电极图案加以电绝缘的绝缘层(5)电连接于第一透明电极图案及第二透明电极图案的至少一个、且与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素本发明的静电电容型输入装置优选的是进而以覆盖所述(1)～(5)的所有要素或一部分的方式设置透明保护层，更优选的是透明保护层为本发明的硬化膜。首先，对静电电容型输入装置的构成进行说明。图3为表示静电电容型输入装置的构成例的截面图。图3中，静电电容型输入装置30是由前面板31、掩模层32、第一透明电极图案33、第二透明电极图案34、绝缘层35、导电性要素36及透明保护层37所构成。前面板31是由玻璃基板等透光性基板所构成，可使用康宁(Corning)公司的大猩猩(Gorilla)玻璃所代表的强化玻璃等。另外，图3中，将前面板31的设有各要素的一侧称为非接触面。静电电容型输入装置30中，使手指等与前面板31的接触面(非接触面的相反面)接触等而进行输入。以下，有时将前面板称为“基材”。另外，在前面板31的非接触面上设有掩模层32。掩模层32为形成在触摸屏前面板的非接触侧的显示区域周围的边缘状图案，是为了不看到牵引配线等而形成。静电电容型输入装置中，像图4所示那样，以覆盖前面板31的一部分区域(图4中为输入面以外的区域)的方式设有掩模层32。进而，在前面板31中，可像图4所示那样在一部分中设置开口部38。在开口部38中，可设置按压的机械开关。像图5所示那样，在前面板31的接触面上，形成有以下构件：多个垫部分经由连接部分在第一方向上延伸而形成的多个第一透明电极图案33；与第一透明电极图案33电绝缘、且包含在与第一方向交叉的方向上延伸而形成的多个垫部分的多个第二透明电极图案34；以及将第一透明电极图案33与第二透明电极图案34加以电绝缘的绝缘层35。第一透明电极图案33、第二透明电极图案34及后述导电性要素36例如可利用氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)或氧化铟锌(IndiumZincOxide，IZO)等透光性的导电性金属氧化膜来制作。这种金属膜可举出：ITO膜；Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等的金属膜；SiO2等的金属氧化膜等。此时，各要素的膜厚可设定为10nm～200nm。另外，由于通过煅烧将非晶的ITO膜制成多晶的ITO膜，因此可降低电阻。另外，第一透明电极图案33、第二透明电极图案34及后述导电性要素36也可使用感光性转印材料来制造，所述感光性转印材料具有使用导电性纤维的感光性树脂组合物。除此以外，在通过ITO等来形成第一导电性图案等的情况下，可参考日本专利第4506785号公报的段落0014～段落0016等，将其内容并入到本说明书中。另外，第一透明电极图案33及第二透明电极图案34的至少一个可横跨前面板31的非接触面及掩模层32的与前面板31为相反侧的面两个区域而设置。图3中，示出横跨前面板31的非接触面及掩模层32的与前面板31为相反侧的面两个区域而设有第二透明电极图案的图。使用图5对第一透明电极图案33及第二透明电极图案34进行说明。图5为表示第一透 明电极图案及第二透明电极图案的一例的说明图。像图5所示那样，垫部分33a经由连接部分33b在第一方向上延伸而形成第一透明电极图案33。另外，第二透明电极图案34是利用绝缘层35而与第一透明电极图案33电绝缘，且由在与第一方向交叉的方向(图5中的第二方向)上延伸而形成的多个垫部分所构成。这里，在形成第一透明电极图案33的情况下，可一体地制作垫部分33a与连接部分33b，也可仅制作连接部分33b，并一体地制作(图案化)垫部分33a与第二透明电极图案34。在一体地制作(图案化)垫部分33a与第二透明电极图案34的情况下，像图5所示那样以将连接部分33b的一部分与垫部分33a的一部分连结、且利用绝缘层35将第一透明电极图案33与第二透明电极图案34加以电绝缘的方式形成各层。图3中，在掩模层32的与前面板31为相反侧的面侧设有导电性要素36。导电性要素36为与第一透明电极图案33及第二透明电极图案34的至少一个电连接、且与第一透明电极图案33及第二透明电极图案34不同的要素。图3中，示出将导电性要素36连接于第二透明电极图案34的图。另外，图3中，以将各构成要素全部覆盖的方式设有透明保护层37。透明保护层37也能以仅将各构成要素的一部分覆盖的方式构成。绝缘层35与透明保护层37可为相同材料，也可为不同材料。具备静电电容型输入装置及将静电电容型输入装置作为构成要素的触摸屏可应用：《最新触摸屏技术》(2009年7月6日发行，技术时代(TechnoTimes)(股))、三谷雄二监制的《触摸屏的技术与开发》(CMC出版(2004，12))、《平板显示器国际2009论坛(FPDInternational2009Forum)T-11演讲教科书》、《赛普拉斯半导体公司(CypressSemiconductorCorporation)应用笔记AN2292》等中公开的构成。<触摸屏的制造方法>本发明的触摸屏优选的是绝缘层的全部或一部分是由本发明的感光性树脂组合物的硬化膜所构成。另外，本发明的触摸屏优选的是至少具有透明基板、ITO电极及绝缘层。透明基板可优选地举出玻璃基板、石英基板、透明树脂基板等。本发明的触摸屏例如可像以下那样制造。即，可经过以下工序来制造本发明的触摸屏：以与ITO电极接触的方式，通过喷墨涂布方式等各种方法来涂布本发明的感光性树脂组合物的工序1；在涂布在所述ITO电极上的感光性树脂组合物上载置具有既定形状的开口图案的掩模，进行活性能量线照射而进行曝光的工序2；对曝光后的感光性树脂组合物进行显影的工序3；以及对显影后的感光性树脂组合物进行加热的工序4。工序1中，在以与ITO电极接触的方式涂布感光性树脂组合物时，只要所涂布的本发明的感光性树脂组合物的至少一部分与ITO电极接触即可。工序2可与上文所述的曝光工序同样地进行，优选实施方式也相同。工序3可与上文所述的显影工序同样地进行，优选实施方式也相同。工序4可与上文所述的后烘烤工序同样地进行，优选实施方式也相同。另外，作为本发明的触摸屏中的ITO电极图案的一例，可优选地举出上文所述的图5所示的图案。[实施例]以下举出实施例对本发明进行更具体说明。以下的实施例中所示的材料、使用量、比例、 处理内容、处理顺序等只要不偏离本发明的主旨，则可适当变更。因此，本发明的范围不限定于以下所示的具体例。此外，只要无特别说明，则“份”、“％”为质量基准。以下的合成例中，以下的符号分别表示以下的化合物。MATHF：甲基丙烯酸-2-四氢呋喃酯(合成品)MAEVE：甲基丙烯酸-1-乙氧基乙酯(和光纯药工业公司制造)MATHP：甲基丙烯酸四氢-2H-吡喃-2-基酯(新中村化学工业(股)制造)StOEVE：4-(1-乙氧基乙基氧基)苯乙烯(合成品)OXE-30：甲基丙烯酸-3-乙基-3-氧杂环丁基甲酯(大阪有机化学工业公司制造)GMA：甲基丙烯酸缩水甘油酯(和光纯药工业公司制造)NBMA：正丁氧基甲基丙烯酰胺(东京化成制造)MAA：甲基丙烯酸(和光纯药工业公司制造)AA：丙烯酸(和光纯药工业(股)制造)HEMA：甲基丙烯酸羟乙酯(和光纯药公司制造)St：苯乙烯(和光纯药工业公司制造)DCPM：甲基丙烯酸二环戊酯MMA：甲基丙烯酸甲酯(和光纯药工业公司制造)V-601：二甲基-2，2′-偶氮双(2-甲基丙酸酯)(和光纯药工业公司制造)V-65：2，2′-偶氮双(2，4-二甲基戊腈)(和光纯药工业公司制造)HS-EDM：二乙二醇乙基甲基醚(东邦化学工业(股)制造，海索布(Hisolve)EDM)PGMEA：甲氧基丙基乙酸酯(昭和电工公司制造)<MATHF的合成>预先将甲基丙烯酸(86g、1mol)冷却到15℃，添加樟脑磺酸(4.6g、0.02mol)。在该溶液中滴加2-二氢呋喃(71g、1mol、1.0当量)。搅拌1小时后，添加饱和碳酸氢钠(500mL)，利用乙酸乙酯(500mL)进行提取，利用硫酸镁进行干燥后，将不溶物过滤后在40℃以下进行减压浓缩，将残渣的黄色油状物减压蒸馏，以无色油状物的形式获得125g的沸点(bp.)54℃～56℃/3.5mmHg馏分的甲基丙烯酸四氢-2H-呋喃-2-基酯(MATHF)(产率80％)。<StOEVE的合成>(使用羟基苯乙烯及乙基乙烯醚作为原料，利用与所述相同的方法)合成StOEVE。<聚合物A1-1的合成例>将HS-EDM(82份)在氮气流下、90℃下加热搅拌。用2小时滴加MATHF(43份(相当于所有单量体成分中的40.5mol％))、OXE-30(48份(相当于所有单量体成分中的37.5mol％))、MAA(6份(相当于所有单量体成分中的9.5mol％))、HEMA(11份(相当于所有单量体成分中的12.5mol％))、自由基聚合引发剂V-601(商品名，和光纯药工业(股)制造，4.3份)及PGMEA(82份)的混合溶液，进而在90℃下反应2小时，由此获得聚合物A1-1的PGMEA溶液(固体成分浓度：40％)。所得的聚合物A1-1的由凝胶渗透色谱(GPC)所测定的重量平均分子量为15,000。<聚合物A1-2～聚合物A1-12的合成例>将所使用的各单体及其使用量变更为下述表中记载的单体及其使用量，除此以外，与聚合物A1-1的合成同样地进行操作，分别合成各共聚物。在所述表中，表中未特别附加单位的数值是以mol％为单位。聚合引发剂的数值为将单量体成分设为100mol％时的mol％。固体成分浓度是以单体质量/(单体质量+溶剂质量)×100(单位质量％)来表示。在使用V-601作为聚合引发剂的情况下，反应温度是设定为90℃，在使用V-65作为聚合引发剂的情况下，将70℃设为反应温度。<聚合物A2-1的合成例>使用12.05g(35mol％)的甲基丙烯酸、4.17g(10mol％)的苯乙烯、13.22g(15mol％)的甲基丙烯酸二环戊酯、22.74g(40mol％)的甲基丙烯酸缩水甘油酯作为单体成分，且使用2.57g的偶氮双异丁腈(AIBN)作为自由基聚合引发剂，使这些成分在115g的PGMEA中在70℃下进行4小时聚合反应，由此获得A2-1的PGMEA溶液(固体成分浓度：30质量％)。所得的A2-1的由GPC所测定的苯乙烯换算重量平均分子量为15,000。<聚合物A2-2的合成例>使用12.05g(35mol％)的甲基丙烯酸、4.17g(10mol％)的苯乙烯、13.22g(15mol％)的甲基丙烯酸二环戊酯、29.48g(40mol％)的甲基丙烯酸-3-乙基-3氧杂环丁基酯作为单体成分，且使用2.57g的偶氮双异丁腈(AIBN)作为自由基聚合引发剂，使这些成分在135g的PGMEA中在70℃下进行4小时聚合反应，由此获得A2-2的PGMEA溶液(固体成分浓度：30质量％)。所得的A2-2的由GPC所测定的苯乙烯换算重量平均分子量为13,000。<感光性树脂组合物的制备>将下述表所示的各成分混合而制成均匀溶液后，利用孔径0.2μm的聚四氟乙烯制过滤器进行过滤，制备各种实施例及比较例的感光性树脂组合物。表示实施例及比较例中所用的各化合物的简称的详细情况如下。<聚合物成分>A1-1～A1-12、A2-1、A2-2：按照所述合成例所合成的聚合物<光酸产生剂>B1-1：下述所示的结构的化合物(合成例将于下文中描述)B1-2：下述所示的结构的化合物(商品名：PAG-103，巴斯夫(BASF)公司制造)B1-3：下述所示的结构的化合物(商品名：PA1-101，绿化学公司制造)B1-4：下述所示的结构的化合物(商品名：TPS-1000，绿化学公司制造)B1-5：下述所示的结构的化合物(合成例将于下文中描述)此外，以下的式中，Ts表示甲苯磺酰基(对甲苯磺酰基)。[化37]<萘醌二叠氮>B2-1：下述所示的结构的化合物(TAS-200，东洋合成工业(股)制造)[化38]<(C)化合物>C-1：N-苯基亚氨基二乙酸(和光纯药公司制造)C-4：1，2-双(2-氨基苯氧基)乙烷-N，N，N′，N′-四乙酸(东京化成公司制造)C-5：N-甲基亚氨基二乙酸(东京化成公司制造)C-9：N-苄基亚氨基二乙酸(东京化成公司制造)(比较例的化合物)R-1：N-甲基甘氨酸(东京化成公司制造)R-2：N-苯基甘氨酸(东京化成公司制造)R-3：N，N-二甲基甘氨酸(东京化成公司制造)R-4：N，N-二(2-羟基乙基)甘氨酸(东京化成公司制造)[化39]<溶剂>HS-EDM：二乙二醇甲基乙基醚(东邦化学公司制造)<增感剂>E-1：9，10-二丁氧基蒽(川崎化成公司制造)<交联剂>F-1：JER157S65(环氧交联剂，日本环氧树脂公司制造)F-2：JER175S70(环氧交联剂，日本环氧树脂公司制造)F-3：JER1007K(环氧交联剂，日本环氧树脂公司制造)<密接改良剂>G-1：γ-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷(KBM-403，信越化学公司制造)<碱性化合物>H-1：DBN：1，5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯(东京化成公司制造)H-2：TPI：三苯基咪唑(和光纯药工业公司制造)<表面活性剂>I-1：下述结构式所表示的含全氟烷基的非离子表面活性剂(F-554，迪爱生(DIC)制造)[化40]<B1-1的合成>在2-萘酚(10g)、氯苯(30mL)的悬浮溶液中添加氯化铝(10.6g)、2-氯丙酰氯(10.1g)，将混合液加热到40℃并反应2小时。在冰浴冷却下，在反应液中滴加4N的HCl水溶液(60mL)，添加乙酸乙酯(50mL)进行分液。在有机层中添加碳酸钾(19.2g)，在40℃下反应1小时后，添加2N的HCl水溶液(60mL)进行分液，将有机层浓缩后，利用二异丙醚(10mL)将结晶再制浆，进行过滤、干燥而获得酮化合物(6.5g)。在所得的酮化合物(3.0g)与甲醇(30mL)的悬浮溶液中添加乙酸(7.3g)、50质量 ％羟基胺水溶液(8.0g)，加热回流。放置冷却后，添加水(50mL)，将析出的结晶过滤，进行冷甲醇清洗后，加以干燥而获得肟化合物(2.4g)。使所得的肟化合物(1.8g)溶解于丙酮(20mL)中，在冰浴冷却下添加三乙胺(1.5g)、对甲苯磺酰氯(2.4g)，升温到室温并反应1小时。在反应液中添加水(50mL)，将析出的结晶过滤后，利用甲醇(20mL)再制浆，进行过滤、干燥而获得B1-1的化合物(上文所述的结构)(2.3g)。此外，B-1的1H-核磁共振(NuclearMagneticResonance，NMR)光谱(300MHz，CDCl3)为δ＝8.3(d，1H)，8.0(d，2H)，7.9(d，1H)，7.8(d，1H)，7.6(dd，1H)，7.4(dd，1H)，7.3(d，2H)，7.1(d，1H)，5.6(q，1H)，2.4(s，3H)，1.7(d，3H)。<B1-5的合成>在氮气环境下在三口烧瓶中添加9.29g的4-溴萘二甲酸酐、34g的二甲基亚砜及4.14g的1，4-二氮杂双环[2.2.2]辛烷，在30℃以下滴加5.14g的辛硫醇，在40℃下搅拌5小时。在反应液中加入70mL甲醇进行冰浴冷却，搅拌30分钟后，滤取所析出的结晶进行干燥，获得8.65g的中间体B-1A。继而，在氮气环境下在三口烧瓶中添加8.21g的B-1A、27.5g的二甲基甲酰胺及2.00g的盐酸羟基胺，在30℃以下滴加2.40g的48重量％氢氧化钠水溶液，在室温下搅拌2小时。在反应液中添加30mL的蒸馏水并进行冰浴冷却，搅拌30分钟后，添加1.00g浓盐酸进一步搅拌1小时。滤取所析出的结晶并加以干燥，获得8.35g的中间体B-1B。在三口烧瓶中添加3.57g的B-1B、25g的二氯甲烷及1.03g的吡啶进行搅拌后，在15℃～20℃下滴加2.96g的三氟甲磺酸酐，在25℃下搅拌3小时。在反应液中添加20mL的蒸馏水及20g的二氯甲烷进行搅拌，分液后以30mL的0.25重量％氢氧化钠水溶液将二氯甲烷层进行2次水洗，以30mL的5重量％盐酸水溶液进行1次水洗，以40mL的蒸馏水进行3次水洗。将有机层浓缩后，添加25g正庚烷进行搅拌，滤取所析出的结晶并加以干燥，获得3.83g的B1-5。<感光性树脂组合物的评价><感度的评价>将玻璃基板(伊格尔(EAGLE)XG，0.7mm厚(康宁(Corning)公司制造))在六甲基二硅氮烷蒸气下暴露30秒钟后，旋涂涂布各感光性树脂组合物。然后，在90℃下利用加热板进行120秒钟预烘烤而使溶剂挥发，形成膜厚3.0μm的感光性树脂组合物层。然后，使用佳能(Canon)(股)制造的MPA5500CF(高压水银灯)，隔着既定的掩模对所得的感光性树脂组合物层进行曝光。接着，利用碱性显影液(0.4％的氢氧化四甲基铵水溶液)在23℃下将曝光后的感光性树脂组合物层显影60秒钟后，利用超纯水淋洗20秒钟。将通过这些操作解析5μm的孔时的最佳i射线曝光量(Eopt)作为感度。以下的基准中优选A～C，更优选A或B。A：小于20mJ/cm2B：20mJ/cm2以上、小于40mJ/cm2C：40mJ/cm2以上、小于80mJ/cm2D：80mJ/cm2以上、小于160mJ/cm2E：160mJ/cm2以上<耐热透明性的评价>将玻璃基板(伊格尔(EAGLE)XG，0.7mm厚(康宁(Corning)公司制造))在六甲基二硅氮烷蒸气下暴露30秒钟后，旋涂涂布各感光性树脂组合物。然后，在90℃下利用加热板进行120秒钟预烘烤而使溶剂挥发，形成膜厚3.0μm的感光性树脂组合物层。接着，使用超高压水银灯以累计照射量成为300mJ/cm2(能量强度：20mW/cm2，i射线)的方式进行曝光，利用烘箱将该基板在230℃下加热30分钟后，进而利用烘箱在230℃下加热2小时。使用分光光度计(U-3000，日立制作所(股)制造)以400nm的波长来测定该硬化膜的透过率。单位是以％来表示。以下的基准中优选A～C，更优选A或B。A：95％以上B：90％以上且小于95％C：85％以上且小于90％D：80％以上且小于85％E：小于80％<显示不均(面板可靠性)的评价)>利用以下方法来制作使用薄膜晶体管(TFT)的液晶显示装置(参照图2)。在日本专利第3321003号公报的图1中记载的有源矩阵型液晶显示装置中，像以下那样形成硬化膜17作为层间绝缘膜，而获得液晶显示装置。即，作为提高日本专利第3321003号公报的0058段落的基板与层间绝缘膜17的润湿性的前处理，将基板在六甲基二硅氮烷蒸气下暴露30秒钟，然后旋涂涂布各感光性树脂组合物后，在90℃下利用加热板进行2分钟预烘烤而使溶剂挥发，形成膜厚2μm的感光性树脂组合物层。接着，对所得的感光性树脂组合物层从掩模上使用高压水银灯以25mJ/cm2(照度为20mW/cm2)照射i射线(365nm)后，利用碱性水溶液进行显影而形成图案，在230℃下进行60分钟的加热处理。涂布实施例的感光性树脂组合物时的涂布性良好，在曝光、显影、煅烧后所得的硬化膜中未确认到皱褶或裂缝的产生。将所得的液晶显示装置在强制条件(温度85℃/相对湿度80％RH，LH-113恒温恒湿器，爱斯佩克(Espec)公司制造)下放置24小时，取出液晶显示装置。对该液晶显示装置施加驱动电压，目测观察使灰度(grey)的测试信号输入时的灰度显示，按照下述评价基准来评价是否发生显示不均。以下的基准中优选A～C，更优选A或B。A：完全未见不均(非常良好)B：在玻璃基板的边缘部分稍许可见不均，但显示部中无问题(良好)C：显示部中略微可见不均但为实用水平(普通)D：显示部中有不均(稍差)E：显示部中有强烈不均(非常差)<综合评价>根据各评价试验的结果像以下那样进行综合评价。综合评价优选6以上，更优选7以上。综合评价＝10-(各评价试验的B的个数×1)-(各评价试验的C的个数×2)-(各评价试验的D的个数×3)-(各评价试验的E的个数×4)像由所述结果所表明那样，本发明的感光性树脂组合物具有高感度，且在显示不均变良好的方面具有优异效果。进而，耐热透明性优异。相对于此，比较例的感光性树脂组合物的感度、显示不均的至少一个差。<有机EL显示装置的制作>(实施例101)利用以下方法来制作使用薄膜晶体管(TFT)的有机EL显示装置(参照图2)。在玻璃基板6上形成底部栅极型的TFT1，以覆盖该TFT1的状态形成包含Si3N4的绝缘膜3。然后，在该绝缘膜3中形成接触孔后，在绝缘膜3上形成经由该接触孔而连接于TFT1的配线2(高度1.0μm)，所述接触孔在这里省略图示。该配线2是用来将TFT1间连接、或将后续工序中形成的有机EL元件与TFT1连接的配线。进而，为了使因形成配线2所致的凹凸平坦化，以填埋由配线2所致的凹凸的状态在绝缘膜3上形成平坦化膜4。关于对绝缘膜3上的平坦化膜4的形成，在基板上旋转涂布实施例1的感光性树脂组合物，利用加热板进行预烘烤(90℃/120秒钟)后，从掩模上使用高压水银灯以45mJ/cm2(能量强度为20mW/cm2)照射i射线(365nm)后，利用碱性水溶液(0.4％的TMAH水溶液)进行显影而形成图案，使用超高压水银灯以累计照射量成为300mJ/cm2(能量强度：20mW/cm2，i射线)的方式进行全面曝光，在230℃下进行30分钟的加热处理。涂布感光性树脂组合物时的涂布性良好，在曝光、显影、煅烧后所得的硬化膜中未确认到皱褶或裂缝的产生。进而，配线2的平均阶差为500nm，所制作的平坦化膜4的膜厚为2,000nm。然后，在所得的平坦化膜4上形成底部发光型的有机EL元件。首先，在平坦化膜4上，经由接触孔7连接于配线2而形成包含ITO的第一电极5。然后涂布抗蚀剂，进行预烘烤，隔着所需图案的掩模进行曝光，并进行显影。将该抗蚀剂图案作为掩模，通过使用ITO蚀刻剂的湿式蚀刻进行图案加工。其后，使用抗蚀剂剥离液(剥离剂(Remover)100，AZ电子材料(AZElectronicMaterials)公司制造)在50℃下剥离所述抗蚀剂图案。像这样而获得的第一电极5相当于有机EL元件的阳极。接着，形成覆盖第一电极5的边缘的形状的绝缘膜8。对于绝缘膜8，使用实施例16的感光性树脂组合物，利用与所述相同的方法来形成绝缘膜8。通过设置该绝缘膜8，可防止第一电极5与此后的工序中形成的第二电极之间的短路。进而，在真空蒸镀装置内隔着所需图案掩模依次蒸镀设置空穴传输层、有机发光层、电子传输层。然后，在基板上方的整个面上形成包含Al的第二电极。将所得的所述基板从蒸镀机中取出，使用密封用玻璃板与紫外线硬化型环氧树脂进行贴合，由此密封。像以上那样，可获得对各有机EL元件连接用来驱动该有机EL元件的TFT1而成的有源矩阵型的有机EL显示装置。通过驱动电路来施加电压，结果显示出良好的显示特性，得知其为可靠性高的有机EL显示装置。(实施例102～实施例123)在实施例101中，将实施例1的感光性树脂组合物换成实施例2～实施例23的感光性树脂组合物，除此以外，按照实施例101来制作有机EL显示装置。对所得的有机EL显示装置施加驱动电压，结果显示出良好的显示特性，得知其为可靠性高的有机EL显示装置。<触摸屏的制作>(实施例301)通过以下所述的方法来制作触摸屏。<第一透明电极图案的形成><<透明电极层的形成>>将预先形成了掩模层的强化处理玻璃(300mm×400mm×0.7mm)的前面板导入到真空腔室内，使用SnO2含有率为10质量％的ITO靶(铟∶锡＝95∶5(摩尔比))，通过直流(DirectCurrent，DC)磁控溅镀(条件：基材的温度250℃、氩气压0.13Pa、氧气压0.01Pa)形成厚度40nm的ITO薄膜，获得形成了透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为80Ω/□。然后，将市售的蚀刻抗蚀剂涂布在ITO上并加以干燥，形成蚀刻抗蚀剂层。将曝光掩模(具有透明电极图案的石英曝光掩模)面与蚀刻抗蚀剂层之间的距离设定为100μm，以曝光量50mJ/cm2(i射线)进行图案曝光后，利用显影液进行显影，进而在130℃下进行30分钟的后烘烤处理，获得形成了透明电极层及蚀刻用感光性树脂层图案的前面板。将形成了透明电极层及蚀刻用感光性树脂层图案的前面板浸渍在加入了ITO蚀刻剂(盐酸、氯化钾水溶液。液温30℃)的蚀刻槽中，进行100秒钟处理，将未由蚀刻抗蚀剂层覆盖的露出区域的透明电极层溶解除去，获得附有蚀刻抗蚀剂层图案的带有透明电极层图案的前面板。然后，将附有蚀刻抗蚀剂层图案的带有透明电极层图案的前面板浸渍在专用的抗蚀剂剥离液中，将蚀刻用光感光性树脂层除去，获得形成了掩模层及第一透明电极图案的前面板。<<绝缘层的形成>>在形成了掩模层及第一透明电极图案的前面板上，涂布实施例1的感光性树脂组合物并加以干燥(膜厚1μm、90℃下120秒钟)，获得感光性树脂组合物层。将曝光掩模(具有绝缘层用图案的石英曝光掩模)面与感光性树脂组合物层之间的距离设定为30μm，以感度评价中求出的最佳曝光量来进行图案曝光。然后，利用2.38质量％的氢氧化四甲基铵水溶液在23℃下利用覆液法进行15秒钟显影，进而利用超纯水进行10秒钟淋洗。接着，在220℃下进行45分钟的后烘烤处理，获得形成了掩模层、第一透明电极图案、绝缘层图案的前面板。<第二透明电极图案的形成><<透明电极层的形成>>与所述第一透明电极图案的形成同样地进行操作，对形成了直至绝缘层图案的前面板进行DC磁控溅镀处理(条件：基材的温度50℃、氩气压0.13Pa、氧气压0.01Pa)，形成厚度80nm的ITO薄膜，获得形成了透明电极层的前面板。ITO薄膜的表面电阻为110Ω/□。与第一透明电极图案的形成同样地进行操作，使用市售的蚀刻抗蚀剂，获得形成了第一透明电极图案、使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层图案、透明电极层、及蚀刻抗蚀剂图案的前面板(后烘烤处理；130℃下30分钟)。进而，与第一透明电极图案的形成同样地进行操作，进行蚀刻并将蚀刻抗蚀剂层除去，借此获得形成了掩模层、第一透明电极图案、使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层图案、及第二透明电极图案的前面板。<与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的形成>与所述第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行操作，对形成了第一透 明电极图案、使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层图案、第二透明电极图案的前面板进行DC磁控溅镀处理，获得形成了厚度200nm的铝(Al)薄膜的前面板。与所述第一透明电极图案及第二透明电极图案的形成同样地进行操作，使用市售的蚀刻抗蚀剂，获得形成了第一透明电极图案、使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层图案、第二透明电极图案、及蚀刻抗蚀剂图案的前面板(后烘烤处理；130℃下30分钟)。进而，与第一透明电极图案的形成同样地进行操作，进行蚀刻(30℃下50秒钟)并将蚀刻抗蚀剂层除去(45℃下200秒钟)，借此获得形成了掩模层、第一透明电极图案、使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层图案、第二透明电极图案、以及与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板。<透明保护层的形成>与绝缘层的形成同样地进行操作，在形成了直至与所述第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素的前面板上，涂布实施例1的感光性树脂组合物并加以干燥(膜厚1μm、90℃下120秒钟)，获得感光性树脂组合物膜。进而，进行曝光、显影、后曝光(1,000mJ/cm2)、后烘烤处理，获得以覆盖掩模层、第一透明电极图案、使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层图案、第二透明电极图案、以及与第一透明电极图案及第二透明电极图案不同的导电性要素全部的方式积层有使用实施例1的感光性树脂组合物所形成的绝缘层(透明保护层)的前面板。<触摸屏的制作>在利用日本专利特开2009-47936号公报中记载的方法所制造的液晶显示元件上贴合上文中制造的前面板，利用众所周知的方法制作具备静电电容型输入装置作为构成要素的触摸屏。<前面板及触摸屏的评价>第一透明电极图案、第二透明电极图案、及与这些透明电极图案不同的导电性要素各自的导电性不成问题，另一方面，第一透明电极图案与第二透明电极图案之间具有绝缘性，可获得作为触摸屏而良好的显示特性。进而，不易看到第一透明电极图案及第二透明电极图案，可获得显示特性优异的触摸屏。当前第1页1 2 3 当前第1页1 2 3