技术总结
一种感光性树脂组合物，其特征在于，其含有：(A)碱溶性高分子：40～80质量％、(B)光聚合引发剂：0.1～20质量％、以及(C)具有烯属双键的化合物：5～50质量％，在基板表面上形成由该感光性树脂组合物形成的厚度25μm的感光性树脂层，在将曝光时的焦点的位置从基板表面沿该基板的厚度方向向基板内侧移动200μm的条件下进行曝光和显影而得到的抗蚀图案的抗蚀层下摆宽度为0.01μm～3.5μm，而且，前述感光性树脂组合物用于直接成像曝光。
技术研发人员：内藤一也;松田隆之
受保护的技术使用者：旭化成株式会社
文档号码：201580025748
技术研发日：2015.05.21
技术公布日：2017.02.22