1.一种图案形成方法，其包括：
步骤a，将感光化射线性或感放射线性树脂组合物涂布于基板上而形成抗蚀剂膜；
步骤b，通过在所述抗蚀剂膜上涂布上层膜形成用组合物后，在100℃以上进行加热而在所述抗蚀剂膜上形成上层膜；
步骤c，对形成有所述上层膜的所述抗蚀剂膜进行曝光；以及
步骤d，使用包含有机溶剂的显影液，对经所述曝光的所述抗蚀剂膜进行显影而形成图案。
2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中所述步骤b为在120℃以上进行加热的步骤。
3.根据权利要求1或2所述的图案形成方法，其中所述上层膜形成用组合物含有碱性化合物以及碱产生剂的至少任一个。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法，其中所述步骤d为使用包含乙酸丁酯的显影液进行显影的步骤。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法，其中所述步骤d为使用包含2-庚酮的显影液进行显影的步骤。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的图案形成方法，其中所述步骤d为使用包含丙酸丁酯的显影液进行显影的步骤。
7.一种抗蚀剂图案，其是利用根据权利要求1至6中任一项所述的图案形成方法而形成。
8.一种电子元件的制造方法，其包含根据权利要求1至6中任一项所述的图案形成方法。