一种配向膜印刷版的制作方法

文档序号:12189598阅读:318来源:国知局
一种配向膜印刷版的制作方法与工艺

本实用新型涉及液晶显示器显示的制作技术领域,尤其涉及一种配向膜印刷版。



背景技术:

在On Cell产品制造过程中,需要利用配向膜印刷版将取向材料如聚酰亚胺(Polyimide,PI)印刷到玻璃基板上,在玻璃基板上形成配向膜,从而可以使液晶分子按一定规律排列在玻璃基板上。

目前,行业内将PI液印刷到玻璃基板的工序为:参照图1,网纹辊11逆时针旋转,印刷辊12顺时针旋转,并同时带动其上的配向膜印刷版13顺时针旋转,基板14在印刷平台15上向左运动。首先将PI液通过喷嘴16滴在网纹辊11上;然后,用刮刀17将网纹辊11上的PI液整平;之后,网纹辊11逆时针转动把PI液再转印到配向膜印刷版13上,配向膜印刷版13上的圆形凸部将PI液挤压出并带走;最后,将配向膜印刷版13上PI液均匀转印到基板14上,提供液晶配向膜。

请参考图2、图3A以及图3B,图2是现有技术的配向膜印刷版的平面示意图,图3A是图2中局部区域放大示意图;图3B为沿图3A中的A1A2方向的剖面图。如图2、图3A以及图3B所示,其中,配向膜印刷版13包括中央区131和边缘区132,中央区131和边缘区132中等间隔分布有大小和密度相同的圆形凸部134,在相邻圆形凸部134间形成凹槽135,需要说明的是图3A和图3B中虽仅为中央区131局部的放大示意图,但由于边缘区132与中央区131中的凸部134大小和密度相同,因此,边缘区132中的凸部分布情况与上述分布情况相同。从宏观上肉眼看不到图2中显示的凸部134和凹槽135,只有在显微镜的帮助才可以看到凸部134和凹槽135。

但是,在现有PI液印刷到玻璃基板的工序中,由于配向膜印刷版13的中圆型凸部134在挤压带走网纹辊11凹槽内PI液时,边缘区132挤压带走的PI液通常比中央区131挤压带走的PI液的要少,这样会造成配向膜印刷版13将PI液转印到基板14上时,边缘区132PI液不足甚至没有,从而产生PI不沾现象,PI不沾会使基板物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)镀膜不良率升高,例如在基板PVD镀膜膜面会有雾状泛白现象,甚至导致框胶粘附性减弱,使基板PVD镀膜有破片风险。



技术实现要素:

本实用新型提供一种配向膜印刷版,以实现PI不沾现象得到改善,使基板PVD镀膜不良率下降。

第一方面,本实用新型实施例提供了一种配向膜印刷版,该配向膜印刷版包括中央区和边缘区,在中央区等间隔分布多个第一凸部,在边缘区等间隔分布多个第二凸部,中央区中的第一凸部的分布密度大于边缘区中的第二凸部的分布密度,第一凸部的高度小于第二凸部的高度。

优选地,第一凸部的分布密度为16万个每平方英寸。

优选地,第二凸部的分布密度为9万个每平方英寸。

优选地,第一凸部的高度15-20微米。

优选地,第二凸部的高度与第一凸部的高度比值为1.2-1.5。

优选地,第一凸部顶面面积大于第二凸部顶面面积。

优选地,第一凸部为圆台状。

优选地,第二凸部为圆台状。

本实用新型实施例的配向膜印刷版包括中央区和边缘区,在中央区等间隔分布多个第一凸部,在边缘区等间隔分布多个第二凸部,中央区中的第一凸部的分布密度大于边缘区中的第二凸部的分布密度,第一凸部的高度小于第二凸部的高度。本实用新型提供的技术方案解决了在On Cell制作工艺中因PI不沾使基板PVD镀膜不良率升高的问题,达到能够对PI不沾现象得到改善,使基板PVD镀膜不良率下降。

附图说明

图1是配向膜印刷版将PI液印刷到玻璃基板上的过程示意图;

图2是现有技术的配向膜印刷版的平面示意图;

图3A是图2中局部区域放大示意图;

图3B为沿图3A中的A1A2方向的剖面图;

图4是本实用新型实施例中的配向膜印刷版的平面示意图;

图5A是图4中中央区局部区域放大示意图;

图5B为沿图5A中的B1B2方向的剖面图;

图6A是图4中边缘区局部区域放大示意图;

图6B为沿图6A中的C1C2方向的剖面图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型,而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。

图4是本实用新型实施例中的配向膜印刷版的平面示意图,图5A是图4中中央区局部区域放大示意图;图5B为沿图5A中的B1B2方向的剖面图;图6A是图4中边缘区局部区域放大示意图;图6B为沿图6A中的C1C2方向的剖面图。参见图4、图5A、图5B、图6A和图6B,该配向膜印刷版20,包括中央区21和边缘区22,在中央区21等间隔分布多个第一凸部212,在边缘区22等间隔分布多个第二凸部222,中央区21中的第一凸部212的分布密度大于边缘区22中的第二凸部222的分布密度,第一凸部212的高度h小于第二凸部222的高度H。

具体地,配向膜印刷版20可选用树脂材料制得,配向膜印刷版20的中央区21上等间距均匀分布多个第一凸部212,相邻第一凸部212之间形成第一凹槽213;配向膜印刷版20的边缘区22等间距均匀分布多个第二凸部222,相邻第二凸部222之间形成第二凹槽223,配向膜印刷版20通过第一凸部212和第二凸部222挤压网纹辊,将带走的PI液储存于第一凹槽213和第二凹部223内。

其中,可选地,第一凸部212顶面面积和第二凸部222顶面面积相同(任意圆的面积),参见图5A图6A。

可选地在中央区21上,每英寸距离范围内具有300-600个第一凸部212,即分布密度为9-36万个每平方英寸;在边缘区22上,每英寸距离范围内具有300-600个第二凸部222,且中央区21中的第一凸部212的分布密度大于边缘区22中的第二凸部222的分布密度,这样设计使得任一第二凹槽223的容积大于第一凹槽213的容积;优选地,第一凸部的分布密度为16万个每平方英寸,第二凸部的分布密度为9万个每平方英寸。第一凸部212的高度h小于第二凸部222的高度H。其中,可选地,第一凸部212的高度h为15-20微米,第二凸部222的高度H与第一凸部212的高度h比值为1.2-1.5。优选地,第一凸部212的高度h为15微米,第二凸部222的高度H为25微米。这样设计使得配向膜印刷版20的第二凸部222挤压网纹辊时,能带走的更多的PI液。

通过减小边缘区22的第二凸部222的分布密度以及增加第二凸部222的高度,使得边缘区22中的所有第二凹槽223中PI液的存储量增加。此时,配向膜印刷版20将PI液转印到基板上形成配向膜,经过大量的实验表明,由PI液形成的配向膜的厚度与配向膜印刷版20的边缘区22中所有第二凹槽223内的PI液存储量成正比,因此,当边缘区22中所有第二凹槽223内的PI液的存储量增加时,在PI基板的边缘区均匀覆盖有PI液,能有效的防止PI不沾现象产生。

表1给出了凸部分布密度、凸部高度以及配向膜的厚度的对应关系。首先将配向膜印刷版分成4个不同区域,然后分别对每个区域中凸部分布密度、凸部高度以及配向膜的厚度的对应关系进行测试,参见表1。

表1、凸部分布密度、凸部高度以及配向膜的厚度的对应关系

从上述测试结果可以得到,配向膜的厚度与凸部分布密度成反比,而与凸部高度成正比。即配向膜的厚度与配向膜印刷版20的边缘区22中所有第二凹槽223内的PI液存储量成正比。

其中,第一凸部212和第二凸部222的形状均为圆台状,也可以为其他的形状,例如圆柱状。

需要说明的是,图5A、图5B、图6A以及图6B中对图4中的中央区21中局部区域211和边缘区22中局部区域221进行放大,以更清楚的显示第一凸部212和第二凸部222。实际上,只有在显微镜的辅助下才可以看到配向膜印刷版20上的第一凸部212和第二凸部222,宏观上肉眼看不到第一凸部212和第二凸部222,配向膜印刷版20宏观上肉眼看到的是粗糙的平面。

本实用新型实施例的配向膜印刷版包括中央区和边缘区,在中央区等间隔分布多个第一凸部,在边缘区等间隔分布多个第二凸部,中央区中的第一凸部的分布密度大于边缘区中的第二凸部的分布密度,第一凸部的高度小于第二凸部的高度。本实施例提供的技术方案解决了在On Cell制作工艺中因PI不沾使基板PVD镀膜不良率升高的问题,达到能够对PI不沾现象得到改善,使基板PVD镀膜不良率下降的效果。

此外,在上述方案的基础上减小第二凸部222顶面面积,使得第一凸部212顶面面积大于第二凸部222顶面面积,与上述方案相比,此方案中第二凹槽223中的PI液的存储量增加,有效的防止PI不沾现象。

注意,上述仅为本实用新型的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解,本实用新型不限于这里所述的特定实施例,对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。因此,虽然通过以上实施例对本实用新型进行了较为详细的说明,但是本实用新型不仅仅限于以上实施例,在不脱离本实用新型构思的情况下,还可以包括更多其他等效实施例,而本实用新型的范围由所附的权利要求范围决定。

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