1.一种应用于液晶显示装置的显示基板，所述显示基板包括衬底基板，依次远离所述衬底基板的导电连接部、绝缘层和电极；所述绝缘层上设置有过孔，所述电极通过所述过孔与所述导电连接部相连；所述过孔位于所述显示基板的显示区域内；其特征在于，所述显示基板还包括，设置在所述电极上对应于所述过孔区域内的填充部；
其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述过孔的深度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述填充部的高度为所述过孔的深度的1.0～1.5倍。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述填充部采用透明材料构成。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述透明材料为正性光刻胶或负性光刻胶。
5.根据权利要求1至4任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括像素电极；其中，所述导电连接部为公共电极引线，所述电极为设置在所述像素电极上方的公共电极。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括底栅型薄膜晶体管；
所述公共电极引线与所述底栅型薄膜晶体管的栅极同层设置；
所述绝缘层包括依次远离所述衬底基板的栅绝缘层和覆盖所述底栅型薄膜晶体管的钝化层。
7.一种应用于液晶显示装置的显示基板的制备方法，所述方法包括在衬底基板上依次形成导电连接部、具有过孔的绝缘层和电极的步骤；其中，所述电极通过位于所述显示基板的显示区域内所述过孔与所述导电连接部相连；其特征在于，所述方法还包括，
在所述电极对应于所述过孔区域内形成填充部；其中，所述填充部的高度大于或等于所述过孔的深度，且小于预设高度；所述预设高度为所述过孔的深度与所述液晶显示装置中的隔垫物的高度之和。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述在所述电极对应于所述过孔区域内形成填充部，包括，
形成覆盖所述电极的负性光刻胶层；
采用第一掩膜板对所述负性光刻胶层进行曝光、显影，形成保留在所述过孔区域内的填充部；其中，所述第一掩膜板的完全透过部分对应于所述过孔区域，所述第一掩膜板的完全不透过部分对应于其他区域。
9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述形成具有过孔的绝缘层的步骤包括，
采用构图工艺形成所述具有过孔的绝缘层，所述构图工艺中采用的光刻胶为正性光刻胶；
所述第一掩膜板与所述构图工艺中采用的掩膜板相同。
10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1至6任一项所述的显示基板。