液晶显示面板及其制造方法与应用的显示装置与流程

本发明涉及液晶显示器技术领域应用了晶体管阵列上的彩色滤光膜工艺设计的液晶显示面板公共电极的改良方式，尤其涉及黑矩阵和垫层的一体成型结构应用于晶体管阵列上的彩色滤光膜工艺设计，特别针对一种液晶显示面板及其制造方法与应用的显示装置。

背景技术：

晶体管阵列液晶显示器(tft-lcd，thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay)由第一基板-彩膜基板(cf，colorfilter)、第二基板-晶体管阵列基板(tft，thinfilmtransistor)、夹于彩膜基板与晶体管阵列基板之间的液晶(lc，liquidcrystal)及封框胶(sealant)组成。

晶体管阵列液晶显示器分面内切换(ips，inplaneswitch)和垂直配向(va，verticalalignment)两种显示模式：面内切换模式是液晶水平配向，工作时液晶分子在和平行状态下旋转方式显示成像；垂直配向模式是液晶垂直配向，不加电压时液晶分子垂直于面板的两块基板，加电时液晶分子倒下和基板成一定角度。

现在，在晶体管阵列上的彩色滤光膜(coa，coloronarray)技术因具有高穿透低成本的优势，成为各家厂商开发技术主流。延续晶体管阵列上的彩色滤光膜设计，在节省工艺成本上，也有厂商开发黑矩阵(bm，blackmatrix)和垫层(ps，photospacer)一体成型的材料。不过此型材料光学浓度值低，局部地方需借助色阻堆叠的效果来帮助遮光。

但所述一体成型结构应用在具有晶体管阵列上的彩色滤光膜技术的垂直配向模式液晶显示面板产品时，仍存在一些待克服的问题。一般垂直配向模式液晶盒的公共电极信号需要借助转接垫(transferpad)将信号由第二基板导至第一基板的公共电极。但在所述一体成型结构应用上，需要将公共电极做在所述一体成型结构之前，因此转接垫处有框胶固化不完全的风险，并造成第一基板与第二基板的公共电极无法藉由氧化铟锡导通。

技术实现要素：

本发明要解决的技术问题是：提供一种液晶显示面板及其制造方法与应用的显示装置，以克服第一基板与第二基板的公共电极无法藉由氧化铟锡导通以及转接垫处框胶固化不完全的缺陷。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种液晶显示面板，包括第一基板和第二基板，其中，第一基板内侧设置有公共电极，黑矩阵和垫层使用同一种材料，以同一道工艺，一体成型在所述公共电极上，其为一体成型结构；第二基板内侧设有转接垫，与转接垫对应的位于所述第一基板的一体成型结构存在镂空结构。

在本发明的一实施例中，与转接垫对应的所述一体成型结构，其透光面积与遮光面积比介于0.5～1.5之间。

在本发明的一实施例中，在第二基板内侧的边框区部分设有金属结构当电极接点，与在其上方的转接垫连接。

在本发明的一实施例中，所述金属结构存在镂空结构，所述金属结构的布局形状与所述一体成型结构在边框区部分的布局形状为互补关系，所述金属结构上设有蓝色阻，红色阻，或者堆叠蓝色阻和红色阻。

本发明更提供一种液晶显示装置，除包括背光模块外，还包括先前所述的任意一项技术方案的液晶显示面板。

为解决上述技术问题，本发明采用的另一种技术方案为一种液晶显示面板的制造方法，包括如下步骤：

提供第一基板及第二基板；

形成液晶层于所述第一基板及所述第二基板之间；

第一基板内侧铺设公共电极；

黑矩阵和垫层使用同一种材料，以同一道工艺，一体成型在所述第一基板上；其中，所述一体成型结构位于公共电极之下。

在本发明的一实施例中，所述与转接垫对应的一体成型结构为镂空结构，进一步的，所述与转接垫对应的一体成型结构，其透光面积与遮光面积比介于0.5～1.5之间。

在本发明的一实施例中，所述液晶显示面板的制造方法还包括以下步骤：

在所述第二基板内侧的边框区部分设置金属结构当电极接点与所述转接垫连接；

在所述金属结构上设置蓝色阻，红色阻，或者堆叠蓝色阻和红色阻；

在本发明的一实施例中，所述金属结构存在镂空结构，所述金属结构的布局形状与所述一体成型结构在边框区部分的布局形状为互补关系。

黑矩阵和垫层使用同一种材料可简化彩膜工艺流程，但其应用于垂直配向液晶显示面板在液晶面板段工艺的公共电极接点处，则需做结构上的改变，在第二基板的金属上设置蓝色阻、红色阻，或者堆叠蓝色阻和红色阻，以弥补所述一体成型结构镂空部分所致的漏光可能，提高光学浓度值。

本发明在工艺流程上，不额外增加液晶面板工艺上成本，且能有效预防模组后边缘漏光的风险。

附图说明

图1本发明的液晶显示面板结构示意图。

图2本发明的液晶显示面板边框区结构示意图。

图3a第二基板电极接点金属片的镂空结构形状的示意图。

图3b第一基板所述一体成型结构在边框区部分镂空形状的示意图。

图3c第二基板与第一基板结合的的示意图。

图4本发明含背光模块的液晶显示面板效果示意图。

图5第一基板所述一体成型结构在边框区部分镂空形状的六个实施例示意图。

图6a第一基板所述一体成型结构的工艺流程图。

图6b第二基板转接垫的工艺流程图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

附图和说明被认为在本质上是示出性的，而不是限制性的。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。另外，为了理解和便于描述，附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本发明不限于此。

在附图中，为了清晰起见，夸大了层、膜、面板、区域等的厚度。在附图中，为了理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。将理解的是，当例如层、膜、区域或基底的组件被称作“在”另一组件“上”时，所述组件可以直接在所述另一组件上，或者也可以存在中间组件。

另外，在说明书中，除非明确地描述为相反的，否则词语“包括”将被理解为意指包括所述组件，但是不排除任何其它组件。此外，在说明书中，“在......上”意指位于目标组件上方或者下方，而不意指必须位于基于重力方向的顶部上。

为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对本发明提出的一种液晶显示面板及其制造方法与应用的显示装置，其具体实施方式、结构、特征以及功效，详细说明如后。

在本发明的一实施例中，所述色阻包括主体部和延长部，位于显示区的色阻用于呈现多种颜色，位于边框区的色阻以弥补所述一体成型结构镂空部分所致的漏光可能，提高光学浓度值。

在本发明的一实施例中，所述位于第一基板的黑矩阵和垫层使用同一种材料，以同一道工艺，一体成型在第一基板；其中，所述一体成型结构位于公共电极之下。

如图1所示，其为本发明的液晶显示面板示意图，如图2所示，其为本发明的液晶显示面板边框区的具体结构示意图。请同时参考图1和图2，一种液晶显示面板，包括：第一基板101和第二基板107，第一基板101内侧设置有公共电极102，所述一体成型结构103，其为黑矩阵和垫层使用同一种材料，以同一道工艺，一体成型在公共电极102上，第二基板107内侧设有公共电极102，其在边框区部分作为转接垫，与转接垫对应的所述一体成型结构103在边框区部分做开口设计，存在镂空结构，其透光面积与遮光面积比介于0.5～1.5之间。

在一实施例中，本发明的液晶显示面板可为一曲面型显示面板。

在第二基板107内侧的边框区部分设有金属结构106当电极接点与转接垫连接，金属结构106做开口设计，存在镂空结构，金属结构106的布局形状与所述一体成型结构103在边框区部分的布局形状为互补关系，透光面积与遮光面积比介于0.5～1.5之间。金属结构上设有蓝色阻、红色阻，或者堆叠蓝色阻和红色阻。设置色阻105是为了避免因位于第一基板所述一体成型结构103在边框区部分做开口设计所致的漏光可能，在第二基板转接垫处借助色阻105堆叠，来弥补漏光范围，提高光学浓度值。导电金球109位于第二基板色阻的上面，并处于第一基板所述一体成型结构镂空部分的下面。此外，紫外线108选择在晶体管阵列基板107侧照射，固化框胶104。

如图3a所示，其为第二基板金属结构镂空部分形状的一实施例。

如图3b所示，其为第一基板所述一体成型结构在边框区部分镂空形状的一实施例。

如图3c所示，其为图3a的第二基板与图3b的第一基板结合的示意图，请同时参考图3a、图3b和图3c，在本发明的一实施例中，所述第一基板的一体成型结构在边框区部分与第二基板的金属部分互补结合，弥补了所述一体成型结构在边框区部分做开口设计所致的漏光可能，提高光学浓度值。

如图4所示，其为本发明含背光模块的液晶显示面板效果示意图，液晶显示面板四周的边框区部分采用本发明的一体成型结构，因所述金属结构的布局形状与所述一体成型结构在边框区部分的布局形状为互补关系，一方面在工艺上节省工序，降低成本，另一方面也弥补了所述一体成型结构在边框区部分的镂空部分所致的漏光可能。

图5为本发明一实施例的所述一体成型结构在边框区部分镂空形状的六个示意图，所述一体成型结构除了中心环形结构外，更包括以下实施例：

在本发明的一实施例中，所述一体成型结构为网状结构。

在本发明的一实施例中，所述一体成型结构为扇形结构。

在本发明的一实施例中，所述一体成型结构为交错棋盘结构。

在本发明的一实施例中，所述一体成型结构为交错锯齿结构。

在本发明的一实施例中，所述一体成型结构为圆形网状结构。

在本发明的一实施例中，所述一体成型结构的镂空结构为规则状的透光形状，其透光面积与遮光面积比均介于0.5～1.5之间，镂空部分的设计造型可根据设计人员的需求而定，不加以限制。

本发明是将所述一体成型结构应用于rgb或wrgb矩阵的工艺设计，特别针对垂直配向模式的液晶显示面板。由于黑矩阵和垫层使用同一种材料和同一道工艺，因此将彩膜基板的公共电极工艺由黑矩阵工艺后调整至黑矩阵工艺前。在外部电路公共电极接点处因彩膜基板的公共电极工艺调整，相应的，需将所述一体成型结构边框区上对应的转接垫处做结构调整，将所述一体成型结构在边框区部分的形状设计成局部透光的规则形状。相对应第二基板的金属布局形状与所述一体成型结构在边框区部分的布局形状为互补关系。同时避免漏光可能，在第二基板转接垫处借助色阻堆叠来弥补漏光范围。

本发明更提供一种液晶显示装置，除包括背光模块外，还包括图1至图3中任意一项所述实施方案的液晶显示面板。

因此，本发明一种液晶显示面板的制造方法，包括如图6a所示的第一基板的工艺流程步骤：

步骤s101：铺设公共电极，在第一基板的内侧铺设一层氧化铟锡作为公共电极；

步骤s102：铺设黑矩阵和垫层，黑矩阵和垫层使用同一种材料，以同一道工艺，一体成型在第一基板。

优选的，所述一体成型结构在边框区部分为镂空结构，其透光面积与遮光面积比介于0.5～1.5之间并位于公共电极之下。

还包括如图6b所示的第二基板的工艺流程步骤：

步骤s201：设置金属结构与转接垫连接，在第二基板内侧设置金属结构当电极接点与转接垫连接；

步骤s202：金属结构上设置色阻，在金属结构上设置蓝色阻，红色阻，或者堆叠蓝色阻和红色阻；

优选的，所述金属结构存在镂空结构，金属结构的布局形状与所述一体成型结构在边框区部分的布局形状为互补关系，金属结构的透光面积与遮光面积比介于0.5～1.5之间。

以上所述实施例仅是为充分说明本发明而所举的较佳的实施例，本发明的保护范围不限于此。本技术领域的技术人员在本发明基础上所作的等同替代或变换，均在本发明的保护范围之内。本发明的保护范围以权利要求书为准。