测试阵列基板对合精度的方法及阵列基板与流程

本发明涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种测试阵列基板对合精度的方法及阵列基板。

背景技术：

tft-lcd(薄膜晶体管液晶显示器)的阵列基板的制造过程中，需要制作很多不同的膜层。不同膜层之间的对合精度是工艺管控的关键参数，因此需要在制作过程中对于膜层的位置、不同膜层的对合精度进行测试，测试结果的准确与否对于膜层的制作质量至关重要。

现有技术中对于膜层位置、不同膜层的对合精度的测试仍然存在一些不足，需要提供更加准确的测试方法。

技术实现要素：

鉴于现有技术中的上述问题，本发明的目的在于提供一种测试阵列基板对合精度的方法及阵列基板，能够准确地测试阵列基板上电极层的位置，进而准确地测试在电极层上的多层膜层与电极层的对合精度。

本发明还提供一种测试阵列基板对合精度的方法，包括：提供衬底基板；在所述衬底基板上形成垫层；在所述垫层上形成电极层，所述垫层与所述电极层颜色不同；测试所述电极层的位置。

所述的测试阵列基板对合精度的方法还包括在所述电极层上形成第二膜层，测试所述第二膜层与所述电极层的对合精度。

其中测试所述第二膜层与所述电极层的对合精度包括：测试在多个方向上所述第二膜层的边界的不同位置处距离所述电极层的边界的最小距离，计算所述距离之间的差值。

其中所述电极层为透明氧化物膜层。

其中所述电极层包括氧化铟锡、氧化锌铝和氧化锌中的任意一种或其组合。

其中在所述玻璃基板上形成垫层包括采用喷墨打印、镀膜或者光刻方式形成所述垫层。

其中所述垫层选自有色有机材料、不透光的金属材料和染料中的任意一种。

其中所述有色垫层的材料包括聚[2-甲氧基-5(2’-乙基己氧基)对苯乙炔]材料。

本发明还提供一种阵列基板，包括衬底基板，设置在所述衬底基板上的垫层，设置在所述垫层上的电极层，所述垫层与所述电极层颜色不同。

其中所述垫层选自有色有机材料、不透光的金属材料和染料中的任意一种。

本发明提供的测试阵列基板对合精度的方法，使得电极层与衬底基板之间的颜色得以区分，能够使得电极层的边界清晰地呈现出来，不会出现误测或漏测。此外，电极层边界的清晰呈现有利于测试在电极层上形成的膜层与电极层的对合精度。

附图说明

图1是示出现有技术中阵列基板的结构示意图。

图2是示出对现有技术的阵列基板上的膜层进行测试的示意图。

图3是示出现有技术中阵列基板之上的膜层的结构示意图。

图4是示出现有技术中测试膜层的结果的示意图。

图5至图7是示出根据本发明实施例的测试阵列基板对合精度的方法的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

在现有的阵列基板的制作过程中，如图1所示，常用的工艺是在衬底基板101上形成电极层102，然后在电极层102上形成栅极层103。在形成栅极层之后，为了保证栅极层103与电极层102的对位正确，需要进行对位标记的测试。

如图2所示，现有设计的对位标记测试方式为：测试设备抓取电极层102和栅极层103的图形边界信号后，测试横向方向上和纵向方向上栅极层103的边界与电极层102的边界之间的距离x1、x2、y1和y2，然后通过测试得到的数据计算得到dx＝(x1-x2)/2,dy＝(y1-y2)/2，从而根据dx和dy的大小得出栅极层103与电极层102的对位情况。

但是现有的测试存在的问题是，衬底基板101通常是玻璃基板，颜色是透明的，而电极层102通常由透明氧化物构成，颜色也接近透明。电极层102与衬底基板101之间的颜色对比度不高。这样，如图3所示，电极层102与衬底基板101之间的边界104，也就是电极层102的边界104在衬底基板101上就不明显。

如图4所示，在测试过程正确的测试结果应该如框105所示那样，测试出电极层102的边界，但是由于电极层102与衬底基板101之间的颜色对比度不高，会出现如图4中框106所示的漏测的情况，以及框107中所示的误测的情况，造成测试结果的不准确。如果无法准确地测试出电极层102的边界，也就是无法准确地测试出电极层102的位置，则无法准确地测试在电极层102上形成的其他膜层与电极层102之间的对位情况，无法得到准确的结果。

电极层102是在衬底基板101上形成的第一层膜层，如果电极层102的边界无法准确地测出，则对后继多个膜层的位置测试会有很大影响。

实施例一

本实施例提供一种测试阵列基板对合精度的方法，能够解决现有技术中存在的问题。

图5至图7是示出根据本发明实施例的测试阵列基板对合精度的方法的示意图。

该方法包括以下步骤。首先提供衬底基板201，该衬底基板201通常为玻璃基板。

接着如图5所示，通过喷墨打印、镀膜或者光刻方式在所述衬底基板201形成垫层207，该垫层207通常选自有色有机材料、不透光的金属材料和染料中的任意一种，优选是聚[2-甲氧基-5(2’-乙基己氧基)对苯乙炔](meh-ppv)材料。

然后如图6所示，在所述垫层207上形成电极层202，所述电极层202的颜色与所述垫层207的颜色不同，所述电极层为透明氧化物膜层，包括氧化铟锡、氧化锌铝和氧化锌中的任意一种或其组合。然后可以测试电极层202的位置。

这里通过设置与电极层202颜色不同的垫层207，在测试电极层202的位置时，能够使得电极层202的边界清晰地呈现出来，不会出现漏测或误测的情况。准确地测试出电极层202的位置为后继准确地测试电极层202上的各膜层的对合精度提供了基础。

如图7所示，可以继续在电极层202上形成第二膜层，这里以在电极层202上形成栅极层203为例，但实施例不限于此。

由于前述步骤形成的垫层207能够将电极层202的边界清晰地呈现出来，此时可以容易地测试在不同方向上例如图7中虚线所指的x方向上，栅极层203的边界的不同位置处距离电极层202的边界的最小距离，如图7中的x1、x2；以及容易地测试y方向上，栅极层203的边界的不同位置处距离电极层202的边界的最小距离y1、y2。再计算这些距离之间的差值得出栅极层203与电极层202是否准确对合的结果。

在本实施例中示出的仅是在电极层202上形成了一层第二膜层的情况，本实施例不限于此，还可以在电极层202上形成多层膜层，只要电极层202的边界能够清晰地得到呈现，在其上形成的多层膜层与电极层的对合精度都能够准确地测试。

根据本实施例测试阵列基板对合精度的方法，通过增加垫层，使得电极层与衬底基板之间的颜色得以区分，能够使得电极层202的边界清晰地呈现出来，不会出现误测或漏测。此外，电极层202边界的清晰呈现有利于测试在电极层202上形成的膜层与电极层的对合精度。

实施例二

本实施提供一种阵列基板，其结构示意图如图7所示，该阵列基板包括衬底基板201；设置在所述衬底基板201上的垫层207选自有色有机材料、不透光的金属材料和染料中的任意一种，优选是聚[2-甲氧基-5(2’-乙基己氧基)对苯乙炔](meh-ppv)材料；设置在所述垫层上的电极层202，所述垫层的颜色与所述电极层的颜色不同。

该阵列基板上由于形成有垫层207，该垫层的颜色与所述电极层的颜色不同，使得电极层的边界能够清晰地呈现出来，有利于对电极层202边界的测试，进而有利于测试在电极层202上的膜层与电极层202的对合精度。

所述阵列基板还包括设置在电极层202上的一层或多层膜层，本实施的阵列基板有利于测试所述一层或多层膜侧与电极层202的对合精度。

上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术的原理。本领域技术人员应当理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求决定。