技术特征：
技术总结
本发明公开了一种曝光显影装置及方法，该装置包括曝光系统、显影系统、视觉对准系统以及位于所述曝光系统、显影系统之间的工件传输系统，所述曝光系统设于系统框架上，包括沿光路依次设置的照明单元、掩模台、投影单元和工件台。本发明同时集成了曝光系统和显影系统，可一次性从曝光到显影，显影结果检验后可直接送出进行刻蚀，大幅减少人力操作和人工成本；通过视觉对准系统可自动完成所有PSS调试，包括确认焦面、调整拼接参数和调整非正交，无需人工干预，采用自适应的检测调整技术，使得机台的抗干扰能力大幅加强，PSS良率大幅提高。
技术研发人员：谢仁飚
受保护的技术使用者：上海微电子装备（集团）股份有限公司
技术研发日：2017.06.30
技术公布日：2019.01.15