光刻胶涂覆方法及涂布机与流程

技术特征：

1.一种光刻胶涂覆方法，其特征在于，所述方法包括：

在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；

在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；

控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，使所述光刻胶向所述目标板面的周边区域扩散。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长之后，所述方法还包括：

控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，使扩散至所述周边区域的光刻胶向所述中央区域扩散，其中，所述第二预设速度旋转小于所述第一预设速度。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，包括：

通过涂布机的溶剂喷涂组件在所述基板的目标板面上喷涂预设溶剂；

所述在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶，包括：

通过所述涂布机的胶体喷涂组件在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在基板的目标板面上喷涂预设溶剂之前，所述方法还包括：

将所述基板固定设置在所述涂布机的旋转组件的承载面上。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，

所述控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，包括：

控制所述旋转组件按照所述第一预设速度旋转所述第一时长，带动所述基板按照所述第一预设速度旋转所述第一时长；

所述控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，包括：

控制所述旋转组件按照所述第二预设速度旋转所述第二时长，带动所述基板按照所述第二预设速度旋转所述第二时长。

6.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述第一预设速度的取值范围为500转每分钟～2500转每分钟，所述第二预设速度的取值范围为100转每分钟～200转每分钟。

7.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述第一时长的取值范围为1秒～2秒，所述第二时长的取值范围为1秒～1.5秒。

8.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，所述第一预设速度的方向与所述第二预设速度的方向相同。

9.一种涂布机，其特征在于，所述涂布机包括：溶剂喷涂组件、胶体喷涂组件和旋转组件，

所述溶剂喷涂组件用于在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；

所述胶体喷涂组件用于向喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；

所述旋转组件用于带动喷涂有光刻胶的所述基板旋转。

10.根据权利要求9所述的涂布机，其特征在于，所述涂布机还包括：涂布机本体，所述溶剂喷涂组件和所述胶体喷涂组件均设置在所述涂布机本体上。