光刻胶涂覆方法及涂布机与流程

技术总结
本发明公开一种光刻胶涂覆方法及涂布机，属于显示技术领域。该方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，在喷涂有预设溶剂的目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制基板按照第一预设速度旋转第一时长，使光刻胶向目标板面的周边区域扩散。本发明有助于解决光刻胶涂覆的难度较大的问题，降低光刻胶涂覆的难度。本发明用于光刻胶涂覆。

技术研发人员：刘文渠;董立文;党宁;张锋;王峰超;吕志军
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2018.01.02
技术公布日：2018.06.22