本实用新型涉及曝光技术领域，特别涉及一种掩膜板检查组件及曝光机。
背景技术：
在显示产品的制造过程中，经常需要采用掩膜板对涂覆在基板上的光刻胶进行曝光。在曝光时，将涂覆有光刻胶的基板设置在掩膜板的下方，采用光源通过掩膜板照射光刻胶，使未被掩膜板遮挡的光刻胶感光。但是，若掩膜板上存在异物，在曝光的过程中异物会对光刻胶进行遮挡，导致位于异物下方的光刻胶无法感光，从而产生曝光缺陷，因此，经常需要对掩膜板进行检查，以确定掩膜板上是否存在异物。
目前，在曝光之前，通常由工作人员采用人工检查的方式对掩膜板进行检查。但是，人工检查的检查效率较低。
技术实现要素：
本实用新型提供一种掩膜板检查组件及曝光机，可以解决掩膜板的检查效率较低的问题。本实用新型的技术方案如下：
第一方面，提供一种掩膜板检查组件，所述掩膜板检查组件包括：
控制件和m对检查件，所述m为正整数；
所述m对检查件设置于掩膜板的待检查板面所在侧，每对检查件包括光发射器和光接收器，所述每对检查件的光发射器与所述每对检查件的光接收器相对设置，且所述每对检查件的光发射器和光接收器分别与所述控制件电连接；
所述控制件用于控制目标检查件的光发射器发射光线，根据目标检查件的光接收器是否接收到所述目标检查件的光发射器发射的光线，来检查所述待检查板面上是否存在异物，所述目标检查件为所述m对检查件中的任一检查件。
可选地，所述掩膜板设置在掩膜基台上，所述掩膜板检查组件还包括：与所述m对检查件一一对应的m对导向件，所述m对导向件设置在所述掩膜基台上，且所述每对导向件相对设置，所述m对检查件中的每对检查件的光发射器和光接收器分别设置在一对导向件上，所述控制件还用于控制所述每对检查件的光发射器和光接收器沿相应的导向件滑动。
可选地，所述导向件为滑轨，每对滑轨的长度方向平行。
可选地，所述待检查板面为所述掩膜板相对的两个板面，
所述掩膜基台具有开口，所述掩膜板通过所述开口嵌入所述掩膜基台，且所述掩膜板的所述两个板面位于所述掩膜基台的两侧，所述m对检查件包括分别设置于所述两个板面所在侧的至少两对检查件。
可选地，所述控制件包括：比较器和计数器，所述比较器与所述计数器电连接，所述计数器用于记录所述掩膜板的曝光次数，所述比较器用于比较所述计数器记录的曝光次数与预设的曝光次数，在所述计数器记录的曝光次数大于或等于所述预设的曝光次数时，向所述目标检查件的光发射器发送指示所述光发射器开启的控制信号；和/或，
所述控制件包括：比较器和计时器，所述比较器与所述计时器电连接，所述计时器用于记录所述掩膜板的曝光时长，所述比较器用于比较所述计时器记录的曝光时长与预设的曝光时长，在所述计时器记录的曝光时长大于或等于所述预设的曝光时长时，向所述目标检查件的光发射器发送指示所述光发射器开启的控制信号。
可选地，所述控制件还包括可编程逻辑控制器，所述可编程逻辑控制器分别与所述比较器和所有的所述光接收器电连接，
所述可编程逻辑控制器用于在所述比较器发送所述控制信号后，且未接收到所述目标检查件的光接收器发送的接收指示信号时，输出指示所述掩膜板的待检查板面上存在异物的异物指示信号。
可选地，所述掩膜板检查组件还包括：报警器，所述报警器与所述可编程逻辑控制器电连接，所述报警器用于根据所述异物指示信号进行报警。
可选地，所述光发射器为激光发射器，所述光接收器为激光接收器。
第二方面，提供一种曝光机，所述曝光机包括第一方面或第一方面的任一可选方式所提供的掩膜板检查组件。
可选地，所述曝光机还包括：曝光组件，所述曝光组件与所述掩膜板检查组件的控制件电连接，
所述控制件还用于当所述掩膜板的待检查板面上存在异物时，向所述曝光组件发送异物指示信号，所述异物指示信号指示所述掩膜板上存在异物；
所述曝光组件用于根据所述异物指示信号停止曝光。
本实用新型提供的技术方案带来的有益效果是：
本实用新型提供的掩膜板检查组件及曝光机，掩膜板检查组件包括控制件和m对检查件，m对检查件设置于掩膜板的待检查板面所在侧，每对检查件包括光发射器和光接收器，每对检查件的光发射器与每对检查件的光接收器相对设置，且每对检查件的光发射器和光接收器分别与控制件电连接；控制件用于控制目标检查件的光发射器发射光线，根据目标检查件的光接收器是否接收到目标检查件的光发射器发射的光线，来检查待检查板面上是否存在异物。由于控制件能够根据光接收器是否接收到光发射器发射的光线来检查掩膜板的待检查板面上是否存在异物，因此有助于解决人工检查的方式检查效率较低的问题，提高掩膜板的检查效率。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本实用新型。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例提供的一种掩膜板检查组件的使用场景图；
图2是图1的剖面图；
图3是本实用新型实施例提供的一种控制件的结构示意图；
图4是本实用新型实施例提供的另一种控制件的结构示意图；
图5是本实用新型实施例提供的一种曝光机的结构示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施例，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在显示基板的制造过程中，可能需要经过黄光制程，黄光制程包括：首先通过对涂覆在基板表面的光刻胶进行曝光和显影，使基板表面遗留一部分光刻胶，该遗留下的光刻胶对光刻胶下方的膜层起保护作用，然后对光刻胶下方的膜层进行刻蚀，之后剥离光刻胶，最终获得永久性图形。黄光制程产线内的洁净度相对较高，但环境中的悬浮物等异物仍不可避免，异物会对掩膜板(英文：Mask)进行污染，而曝光过程对掩膜板的洁净度要求较高，掩膜板一旦被异物污染，异物会对曝光光线进行遮挡造成“曝光缺陷”，进而引起最终形成的显示产品出现外观或电学等不良，对于存在外观或电学等不良的显示产品，往往需要进行返工(英文：Rework)处理，造成人力和物力上的损耗。此外，掩膜板上的异物还可能对掩膜板造成损伤。
目前，在黄光制程产线中，在每次对涂覆在基板上的光刻胶曝光和显影之后，可以通过自动光学检测(英文：AutomaticOpticInspection；简称：AOI)设备(AOI设备又称微观检查机)对基板进行检查，以确定基板是否存在“曝光缺陷”。但是，为了符合产线要求，在对基板进行检查的过程中，产线的曝光过程仍在进行，这样一来，在AOI设备检查某个基板的过程中，产线中已曝光的基板的数量已经达到数十个，若检查出某个基板存在“曝光缺陷”，则在该基板之后曝光的基板也可能存在“曝光缺陷”，因此，产线的“曝光缺陷”很难得到及时处理，带来较大的损失。
本实用新型实施例提供的掩膜板检查组件，可以在曝光过程中快速对掩膜板进行检查，当检查出掩膜板上存在异物时，可以立即停止曝光，减少“曝光缺陷”的基板的产生，有效提高产品良率，并较少返工带来的损失，且可以降低异物对掩膜板的损伤。本实用新型实施例提供的掩膜板检查组件极曝光机的详细描述请参考下述各个实施例。
图1是本实用新型实施例提供的一种掩膜板检查组件的使用场景图，参见图1和图2，图2是图1的剖面图，掩膜板检查组件包括：控制件(图1和图2中均未示出)和m对检查件012，m为正整数；m对检查件012设置于掩膜板02的待检查板面(图1中未标出)所在侧，每对检查件012包括光发射器0121和光接收器0122，每对检查件012的光发射器0121与每对检查件012的光接收器0122相对设置，且每对检查件012的光发射器0121和光接收器0122分别与控制件电连接(图1和图2中均未示出)。
控制件用于控制目标检查件的光发射器0121发射光线，根据目标检查件的光接收器0122是否接收到目标检查件的光发射器0121发射的光线，来检查掩膜板02的待检查板面上是否存在异物，该目标检查件为m对检查件012中的任一检查件。
综上所述，本实用新型实施例提供的掩膜板检查组件，由于控制件能够控制光发射器发射光线，并根据光接收器是否接收到光发射器发射的光线来检查掩膜板的待检查板面上是否存在异物，因此有助于解决人工检查的方式检查效率较低的问题，提高掩膜板的检查效率。
本实用新型实施例提供的掩膜板检查组件的检查原理为：通过光发射器发射光线，当掩膜板的待检查板面上不存在异物时，光发射器发射的光线能够被相应的光接收器接收，当掩膜板的待检查板面上存在异物时，异物会对光线进行遮挡，导致光发射器发射的光线无法被相应的光接收器接收，因此，控制件可以根据光接收器是否接收到相应的光发射器发射的光线，来检查掩膜板的待检查板面上是否存在异物。
可选地，在本实用新型实施例中，光发射器0121和光接收器0122均可以为传感器(英文：Sensor)，且光发射器0121可以为激光发射器，光接收器0122可以为激光接收器，激光发射器发射出的光线为激光，激光具有定向性，采用激光发射器和激光接收器能够很好的对掩膜板02的待检查板面进行检查。
可选地，如图2所示，掩膜板02包括相对的两个板面，该相对的两个板面包括板面A和板面B，掩膜板02的待检查板面为掩膜板02的相对的两个板面中的至少一个板面，示例地，板面A和板面B都为掩膜板02的待检查板面。
进一步地，请继续参考图1和图2，掩膜板02设置在掩膜基台03上，该掩膜板检查组件还包括：与m对检查件一一对应的m对导向件013，每对导向件013包括两个导向件，且每对导向件013的两个导向件分别为导向件0131和导向件0132，m对导向件013设置在掩膜基台03上，且每对导向件013的两个导向件相对设置，m对检查件012中的每对检查件012的光发射器0121和光接收器0122分别设置在一对导向件013上，控制件还用于控制每对检查件012的光发射器0121和光接收器0122沿相应的导向件滑动。示例地，如图1和图2所示，光发射器0121设置在导向件0131上，光接收器0122设置在导向件0132上，控制件控制光发射器0121沿导向件0131滑动，且控制光接收器0122沿导向件0132滑动。可选地，如图1和图2所示，导向件可以为滑轨，每对滑轨的长度方向(图1和图2中均未标出)平行。
可选地，请继续参考图1和图2，在本实用新型实施例中，掩膜基台03具有开口(图1和图2中均未示出)，掩膜板02通过掩膜基台03的开口嵌入掩膜基台03，且掩膜板02的两个板面位于掩膜基台03的两侧，m对检查件012包括分别设置于掩膜板02的两个板面所在侧的至少两对检查件012。如图2所示，掩膜板02的板面A和板面B位于掩膜基台03的两侧，且m对检查件012包括分别设置于掩膜板02的两个板面所在侧的两对检查件012。在本实用新型实施例中，掩膜板02的待检查板面包括板面A和板面B，m可以等于2，两对检查件012中的一对检查件012设置于掩膜板02的板面A所在侧，另一对检查件012设置于掩膜板02的板面B所在侧。
可选地，请参考图3，其示出了本实用新型实施例提供的一种控制件的结构示意图，参见图3，控制件011包括：比较器0111和计数器0112，比较器0111与计数器0112电连接，该计数器0112可以为时序逻辑电路，计数器0112用于记录掩膜板02的曝光次数，比较器0111用于比较计数器0112记录的曝光次数与预设的曝光次数，在计数器0112记录的曝光次数大于或等于预设的曝光次数时，比较器0111向目标检查件的光发射器0121发送指示该光发射器0121开启的控制信号，光发射器0121可以根据该控制信号开启并发射出光线。进一步地，该控制件还包括可编程逻辑控制器(英文：ProgrammableLogicController；简称：PLC)0113，该可编程逻辑控制器0113分别与比较器0111和所有的光接收器(图3中未示出)电连接，可编程逻辑控制器0113用于在比较器0111发送控制信号后，且未接收到目标检查件的光接收器0122发送的接收指示信号时，输出指示掩膜板02的待检查板面上存在异物的异物指示信号。
需要说明的是，在采用掩膜板02曝光的过程中，计数器0112可以记录曝光次数，且在对掩膜板02进行检查时，计数器0112可以将记录的曝光次数清零，因此，计数器0112记录的曝光次数为当前时刻与当前时刻最近一次检查掩膜板02的时刻之间的时间段内的曝光次数，换句话来讲，计数器0112记录的曝光次数等于当前时刻与当前时刻最近一次检查掩膜板02的时刻之间的时间段内已曝光基板的数量，比较器0111可以具有存储功能和比较功能，使得该比较器0111可以存储预设的曝光次数，并比较计数器0112记录的曝光次数与预设的曝光次数。可选地，预设的曝光次数可以是工作人员预先在比较器0111中设置的，且工作人员可以根据生产需要在比较器0111中设置预设的曝光次数，由于每曝光预设的曝光次数对掩膜板检查一次，因此，通过在比较器0111中设置预设的曝光次数可以设置掩膜板的检查频率。
可选地，请参考图4，其示出了本实用新型实施例提供的另一种控制件的结构示意图，参见图4，控制件011包括：比较器0111和计时器0114，比较器0111与计时器0114电连接，该计时器可以为电磁打点计时器、电火花计时器或时序逻辑电路等，计时器0114用于记录掩膜板02的曝光时长，比较器0111用于比较计时器0114记录的曝光时长与预设的曝光时长，在计时器0114记录的曝光时长大于或等于预设的曝光时长时，向目标检查件的光发射器0121发送指示该光发射器0121开启的控制信号。进一步地，该控制件还包括可编程逻辑控制器0113，可编程逻辑控制器0113分别与比较器0111和所有的光接收器(图4中未示出)电连接，可编程逻辑控制器0113用于在比较器0111发送控制信号后，且未接收到目标检查件的光接收器0122发送的接收指示信号时，输出指示掩膜板02的待检查板面上存在异物的异物指示信号。
需要说明的是，在采用掩膜板02曝光的过程中，计时器0114可以记录曝光时长，曝光时长的单位可以为分钟(min)，且在对掩膜板02进行检查时，计时器0114可以将记录的曝光时长清零，因此，计时器0114记录的曝光时长为当前时刻与当前时刻最近一次检查掩膜板02的时刻之间的时间段内的曝光时长。在本实用新型实施例中，该曝光时长可以为当前时刻与当前时刻最近一次检查掩膜板02的时刻之间的时间段，采用掩膜板02进行曝光的时长之和，或者，该曝光时长可以为当前时刻与当前时刻最近一次检查掩膜板02的时刻之间的时间段对应的时长，本实用新型实施例对此不作限定。比较器0111可以具有存储功能和比较功能，使得该比较器0111可以存储预设的曝光时长，并比较计时器0114记录的曝光时长与预设的曝光时长。可选地，预设的曝光时长可以是工作人员预先在比较器0111中设置的，且工作人员可以根据生产需要在比较器0111中设置预设的曝光时长，由于每经过预设的曝光时长对掩膜板检查一次，因此，通过在比较器0111中设置预设的曝光时长可以设置掩膜板的检查频率。
可选地，目标检查件的光接收器0122在接收到目标检查件的光发射器0121发射的光线后，可以向可编程逻辑控制器0113发送接收指示信号，该接收指示信号用于指示光接收器0122接收到光发射器0121发射的光线，比较器0111在向目标检查件的光发射器0121发送控制信号后，可以向可编程逻辑控制器0113发送告知信号，可编程逻辑控制器0113接收到该告知信号后，可以检查是否接收到光接收器0122发送的接收指示信号，当未接收到光接收器0122发送的接收指示信号时，可编程逻辑控制器0113认为掩膜板02的待检查板面上存在异物，该异物对光线进行遮挡导致光接收器0122未接收到光发射器0121发射的光线，从而可编程逻辑控制器0113输出指示掩膜板02的待检查板面上存在异物的异物指示信号。在本实用新型实施例中，接收指示信号、控制信号、告知信号以及异物指示信号均可以为数字信号或电平信号，例如，异物指示信号可以为“1”，指示掩膜板02的待检查板面上存在异物。
进一步地，在本实用新型实施例中，该掩膜板检查组件还包括：报警器(图1至图4中均未示出)，报警器与可编程逻辑控制器0113电连接，可编程逻辑控制器可以向报警器输出异物指示信号，报警器用于根据异物指示信号进行报警。报警器报警之后，工作人员可以采用AOI设备和宏观检查机(英文：Macro Machine；简称：MM)对距离报警时刻最近的曝光时刻曝光的已曝光基板进行检查，并确认该已曝光基板是否存在“曝光缺陷”，如果该已曝光基板存在“曝光缺陷”，则工作人员采用掩膜板MM和掩膜板AOI设备对掩膜板进行检查，确定掩膜板上的异物的形态和类型(异物类型例如玻璃碎片、灰尘等)等，然后使用掩膜板清洗设备(英文：Cleaner)对掩膜板进行清洗之后，继续进行曝光；如果该已曝光基板不存在“曝光缺陷”，工作人员可以消除报警器的报警，并继续进行曝光。需要说明的是，实际应用中，掩膜板检查组件还可以包括显示器，可编程逻辑控制器0113可以向显示器输出异物指示信号，显示器可以根据异物指示信号显示提示信息，本实用新型实施例对此不作限定。
综上所述，本实用新型实施例提供的掩膜板检查组件，由于控制件能够控制光发射器发射光线，并根据光接收器是否接收到光发射器发射的光线来检查掩膜板的待检查板面上是否存在异物，因此有助于解决人工检查的方式检查效率较低的问题，提高掩膜板的检查效率。本实用新型实施例提供的掩膜板检查组件可以在曝光过程中检查掩膜板，检查出异物后停止曝光，减少存在“曝光缺陷”的产品的产生，有效提高产品良率，并较少返工带来的损失。
请参考图5，其示出了本实用新型实施例提供的一种曝光机05的结构示意图，参见图5，该曝光机05包括掩膜板检查组件051，该掩膜板检查组件051可以为上述实施例提供的掩膜板检查组件。
可选地，该曝光机05还包括曝光组件052，曝光组件052与掩膜板检查组件051的控制件电连接，控制件还用于当掩膜板的待检查板面上存在异物时，向曝光组件052发送异物指示信号，异物指示信号指示掩膜板上存在异物；曝光组件052用于根据异物指示信号停止曝光。
可选地，曝光组件052可以在接收到异物指示信号后，完成对当前正在曝光的基板的曝光，之后再根据异物指示信号停止曝光，或者，曝光组件052在接收到异物指示信号后，立即停止曝光，本实用新型实施例对此不作限定。其中，曝光组件052可以包括掩膜板，除此之外，曝光组件052还可以包括光源等，曝光组件052的结构可以参考相关技术，本实用新型实施例在此不再赘述。
需要说明的是，实际应用中，曝光机05还可以包括曝光腔室等其他组件，本实用新型实施例在现有曝光机的基础上增加了掩膜板检查组件051，关于曝光机中除掩膜板检查组件051之外的其他组件的结构均可以参考相关技术，本实用新型实施例在此不再赘述。
综上所述，本实用新型实施例提供的曝光机，由于掩膜板检查组件的控制件能够控制光发射器发射光线，并根据光接收器是否接收到光发射器发射的光线来检查掩膜板的待检查板面上是否存在异物，因此有助于解决人工检查的方式检查效率较低的问题，提高掩膜板的检查效率。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。