过控制曝光的速度来将基板均匀地曝光。虽然图中未描述，但是可以通过额外地或者替换地控制曝光部件190的移动速度来将基板均匀地曝光。
[0094]曝光部件190可以被布置在框架102上。曝光部件190沿第三方向D3与框架102间隔开，第三方向D3与第一和第二方向Dl和D2基本垂直。
[0095]曝光部件190包括产生紫外线的UV光源、和用于偏振紫外线的线栅偏振器。
[0096]根据本示范性实施例，第一到第三级中的每一个包括测量紫外线的强度的第一到第三级，以使得可以实时地应用各级的适当的移动速度。
[0097]图5是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置100的透视图。
[0098]参照图5，曝光装置100包括加载部分100a、工作部分100b、卸载部分10c和曝光部件190。
[0099]加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分10c依序沿第一方向Dl布置。可以将被配置为连续输送多个基板10的输送部件布置在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分10c上。
[0100]例如，输送部件包括第一输送部件140、第二输送部件150、和第三输送部件160。第一输送部件140、第二输送部件150、和第三输送部件160分别布置在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分10c上。如图中所示，基板10被加载到加载部分10a上，接着基板10可以由第三输送部件160沿第一方向Dl输送。因此，基板10被布置在工作部分10b上并穿过曝光部件190下方到图5中第二输送部件150的位置，以使得基板10可以被曝光部件190曝光。此时，第二输送部件150沿第一方向Dl移动到图5中第一输送部件140的位置，并且第一输送部件140可以沿与第一方向Dl相反的方向移动到图5中第三输送部件160的位置。例如，第一输送部件140可以沿与第一方向Dl相反的方向移动，避开曝光部件190下方的曝光区域，以被定位在加载位置处以加载基板。因此，第一到第三输送部件140、
150、和160可以沿第一方向Dl连续输送多个基板10。
[0101]基板10被加载到加载部分10a上。接着，基板10沿第一方向Dl分别被第一、第二或第三输送部件140、150、或160输送到工作部分100b。当基板10被传递到工作部分10b时，基板10被曝光部件190的紫外线曝光。
[0102]第一到第三输送部件140、150和160中的每一个包括握持基板的抓手(gripper)(参见图6的154)。抓手可以固定基板10。例如，抓手可以通过抓取、或通过真空吸附来固定基板10。
[0103]基板10被加载到加载部分10a上(参见图5中的箭头IN)。第一输送部件140接着沿第一方向Dl输送基板10。基板10借助第一输送部件140穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分10c并且从卸载部分10c卸载(参见图5中的箭头OUT)。第一输送部件140可以通过真空吸附来固定基板10。
[0104]基板10被加载到加载部分10a上(参见图5中的箭头IN)。基板10接着借助第二输送部件150穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c，并且从卸载部分10c卸载(参见图5中的箭头OUT)。第二输送部件150可以通过真空吸附来固定基板10。
[0105]第二输送部件150包括测量部件152。测量部件152沿与第一方向Dl基本垂直的第二方向D2延伸。测量部件152可以包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光基板10。
[0106]基板10被加载到加载部分10a上(参见图5中的箭头IN)。接着，基板10借助第三输送部件160穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分10c并从卸载部分10c卸载(参见图5中的箭头OUT)。第三输送部件160可以通过真空吸附来固定基板10。
[0107]在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分10c的表面上可以形成多个气孔AH。可以通过气孔AH来推动空气以在表面上形成正压。因此，可以利用气垫来输送基板10。
[0108]曝光部件190被布置在工作部分10b上。因而，曝光部件190沿第三方向D3与工作部分10b间隔开，第三方向D3与第一和第二方向Dl和D2基本垂直。
[0109]曝光部件190包括产生紫外线的UV光源、和用于偏振紫外线的线栅偏振器。曝光部件190将紫外线照射到工作部分10b上的基板10上。因此，来自曝光部件190的紫外线可以硬化基板10上涂敷的光定向材料以在基板10上形成光定向层。
[0110]UV光源可以是沿第二方向D2延伸的UV灯。另外，UV光源可以是沿第二方向D2排列的多个UV灯，并且每个UV灯可以沿第二方向D2延伸。可以控制UV灯以产生具有不同强度的紫外线。
[0111]曝光部件190可以相对于与第一和第二方向Dl和D2平行的平面、相对于工作部分10b倾斜。因此，光定向层的定向方向可以相对于基板10的边界和与第一和第二方向Dl和D2平行的平面倾斜一预定角度。
[0112]图6是图示图5的第二输送部件的平面图。
[0113]参照图6，第二输送部件150包括测量部件152和抓手154。抓手154握持基板10以便通过第二输送部件150的移动来输送基板10。抓手154可以是抓取基板10的一对钳子。另外，抓手154可以具有产生用于真空吸附的负压的多个真空孔(未示出)。
[0114]通过在基板10上涂敷光定向材料在基板10上形成光定向层。基板10可以是用于制造液晶显示装置的多个显示面板的基板。显示面板可以包括包含液晶分子的液晶层。显示面板可以包括给液晶分子一预倾斜角度的定向层。定向层可以被来自紫外线的辐射硬化。
[0115]在曝光过程之后，可以将基板10分离为多个基板。例如，可以沿第二方向D2将基板10划分为三个部分(参见图2中的虚线)。可以沿方向Dl进一步划分基板。
[0116]测量部件122沿第二方向D2延伸。因而，测量部件122沿第二方向D2与基板10的宽度相对应地形成。
[0117]测量部件122包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件(参见图5的190)产生的紫外线的特性。
[0118]传感器IS包括第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3。第一传感器
151、第二传感器IS2、和第三传感器IS3沿第二方向D2布置。第一传感器ISl、第二传感器
152、和第三传感器IS3与基板10的三个部分中的每一个(参见图5中的虚线)相对应地布置。因此，随着第二输送部件150沿第一方向Dl移动，第一、第二和第三传感器ISl到IS3穿过曝光部件下方。接着，基板10穿过曝光部件190下方。
[0119]第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。紫外线的强度是指在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。
[0120]另外，第一传感器ISl、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量紫外线的偏振方向。因此，可以确定整个曝光区域上的紫外线的偏振方向的均匀度。
[0121]另外，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以利用由第一到第三传感器ISl到IS3测量的紫外线的强度来调整从曝光部件190辐射的UV光的量。例如，沿第二方向D2排列的第一到第三传感器ISl到IS3可以测量UV光的量的分布，以使得UV光的分布沿着第二方向D2可以是均匀的，这可以通过控制来自UV灯的UV光的量来实现。
[0122]因此，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以通过单独地控制UV灯的UV光强度来在基板10的整个表面上将基板10均匀地曝光。
[0123]图7是图示根据本发明构思的示范性实施例的第二输送部件的平面图。
[0124]参照图7，第二输送部件150包括测量部件152和抓手154。抓手154固定基板10以便通过移动第二输送部件150来输送基板10。
[0125]通过在基板10上涂敷光定向材料在基板10上形成光定向层。基板10可以是用于制造液晶显示装置的多个显示面板的基板。在曝光过程之后，可以将基板10分离为多个基板。
[0126]测量部件152沿第二方向D2延伸。因而，测量部件152沿第二方向D2与基板10的宽度相对应地形成。
[0127]测量部件122包括多个传感器IS以及能够沿第二方向D2移动传感器的导轨153。传感器可以测量由曝光部件产生的紫外线的特性。导轨153沿第二方向D2延伸。
[0128]传感器IS包括第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3。第一传感器
ISl、第二传感器IS2、和第三传感器IS3可以沿第二方向D2在导轨153上移动。因此，可以通过与基板10沿第二方向D2划分的多个部分相对应的传感器IS来测量紫外线的特性。
[0129]第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。紫外线的强度是指在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。
[0130]另外，第一传感器ISl、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量紫外线的偏振方向。因此，可以确定整个曝光区域上的紫外线的偏振方向的均匀度。
[0131]另外，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以利用由第一到第三传感器ISl到IS3测量的紫外线的强度来调整来自曝光部件190的UV光的量。例如，沿第二方向D2排列的第一到第三传感器ISl到IS3可以测量UV光的量的分布，以使得UV光的量的分布沿着第二方向D2可以是均匀的，这可以通过控制来自UV灯的UV光的量来实现。
[0132]因此，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以通过单独地控制UV灯的UV光强度来在基板10的整个表面上将基板10均匀地用UV线曝光。