例5在于蒸发15nm的作为材料Ml的DSX? (4至6nm的实际厚度），接着蒸发 5nm的作为材料M2的0F110?(2至4nm的实际物理厚度）。
[0186] 已经与仅OptoolDSX?(19nm程控厚度（7-9nm实际厚度））（对比实例2)进行 了比较。
[0187] 与水的动态接触角和滞后的结果示于表4中：
[0189]表 4
[0190] 可以观察到使用Ml接着M2的2步蒸发，具有更好的性能。后退角在该2步方法 中是更高的，而且使用该2步方法，滞后和滑动角二者都更低。
[0191] 此结果是出人意料的，因为OptoolDSX?通常被本领域技术人员认为具有比 OF110?材料更好的疏水特性。
[0192] 此外，这是特别令人关注的，因为OptoolDSX?是一种昂贵的材料并且本发明的 方法允许限制需要使用的OptoolDSX?的量。
[0193] 实例6至10以及对比实例4至8
[0194] 将两种材料在真空下依次沉积（首先M1，然后M2) (2步）或共蒸发（对比）在镜 片上。
[0195] 将它们各自倾倒进一个Cu坩埚（各自置于一个金属舟上（使用两个舟））中并且 然后使用电流在焦耳效应下热地并且依次蒸发，除了对比实例7和8,其中将这两种组分Ml 和M2倾倒进同一个坩埚中，以及实例8,其中这两种组分在置于同一个舟中的两个不同的 Cu谢埚中。
[0196]
[0197] 备注：19nmDSX?程控的厚度：7至9nm实际物理厚度
[0198] 10nm0F110?程控的厚度：5至7nm实际物理厚度。
[0199] **使用两个不同舟进行沉积（每种组分Ml和M2 -个舟），
[0200] 通过本发明的两步沉积获得的镜片明显比对比实例的镜片更疏油。
【主权项】
1. 用于制造光学物品的方法，该方法包括以下步骤： -提供基底，该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团， -在真空室中在导致将那些材料沉积到该基底的表面上的条件下，依次地将该携 带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少两种被称为Ml和M2的不同的材料，Ml具有高于 M2的重均分子量，优选地按Ml然后M2的顺序，并且其中： -Ml是取代的硅烷，包含： 〇至少一个结合到硅原子上的官能团XI，其中该Si-Xl基团能够与该基底的-OH基团 形成共价键，和/或与M2形成共价键，以及 O至少一个含氟基团， -M2是具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷，包含： 〇至少一个结合到硅原子上的官能团X2,其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团 形成共价键，和/或与Ml形成共价键，以及 O至少一个疏水和/或疏油基团，或至少一个亲水基团， 其中Ml的重均分子量与M2的重均分子量之间的差值是高于或等于600g/mol、优选高 于或等于900g/mol。2. 根据权利要求1所述的方法，其中该基底是一种包含减反射光学层的透明材料。3. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Ml和/或M2的沉积通过蒸发在减压 下进行。4. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中将Ml和M2共价地接枝在该基底的表 面上。5. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Xl和X2独立地选自一个可水解基团 和-OH基团。6. 根据权利要求5所述的方法，其中Xl和X2独立地选自一个卤素原子、-NH-烷基、二 烷氨基、烷氧基、酰氧基、异氰酸酯基、-OH基团以及-NH2基团。7. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该含氟基团产生自二价的氟烷基、氟 代链烯基、以及聚（氟烷基醚）基团中的至少一种的组装。8. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Ml的平均分子量是高于或等于 2000g/mol，并且优选地在从3000至6000g/mol的范围内。9. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中Ml和M2独立地选自具有以下式的化 合物：其中Rf表示一个全氟烷基基团，Z表示一个氟原子或三氟甲基基团，a、b、c、d和e各 自独立地表示〇或等于或大于1的整数，其条件是a+b+c+d+e不小于1，且由下标a、b、c、 d和e所括的重复单元在上式中出现的顺序不限于所示那样；Y表示一个氢原子或含1至4 个碳原子的烷基基团；X表示一个氢、溴或碘原子；R1表示一个羟基基团、NH2基团或可水解 取代基；R2表示一个氢原子或一价烃基；I表示〇、1或2 ;m表示1、2或3 ;并且η"表示等于 或大于1、优选等于或大于2的整数， 以及具有通式（A)或通式（B)和（C)的化合物： F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 〇- (CH2) p-X (CH2) r-Si (X') 3_a (Rl) a (A) F- (CF上-(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，）2_a (Rl) aSiO (F- (CF上-(OC3F6)m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，）^ (Rl) aSiO) ZF- (CF上-(OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2)PX (CH2) r(X'）2_a (Rl)aSi (B) F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 〇- (CH2) p-X (CH2) r- (CH2) t-Si (X') 3_a (Rl) a: (C) 其中q是一个从I至3的整数；m、nJP o独立地是一个从0至200的整数；p是I或2 ; X是〇或一个二价的有机基团；r是一个从2至20的整数；t是一个从1至10的整数；Rl是 一个C1-22直链的或支链的烃基；a是一个从0至2的整数；X'是一个可水解基团、-OH基 团或-NH2基团；并且当a是0或1时，z是一个从0至10的整数。10.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中M2选自对应于式D、E或F的非氟 化的或氟化的硅烷： [H- (OCH2-CH2) a- (OCH2-CH2-CH2) a，- (OCF2-CF2) a"_ (OCF2-CF2-CF2) a"' - (OCHF-CHF)a""- (OCHF-CHF-CHF) a""'] WX- (CH2) b- (CF2) b，-Si (R) 3 (D) 其中 a、a'、a"、a"'、a""、a""' 是从 0 至 2 的整数，a+a' +a"+a"' +a""+a""' 是至少 1， X是0或N或NH，b和b'是从0至10的整数并且b+b'不能小于1，R是一个例如以上已经 定义的可水解基团、或者是OH或NH2，由下标a、a'、a"、a"'、a""、a""'、b和b'所括的重复 单元在上式中出现的顺序不限于所示那样；w = I或2,取决于X的化合价， F- (CF2) c- (CH2) d- (CF2) e- (CH2) f-Si (R) 3 (E)， H- (CH2) g- (CF2) h- (CH2)厂(CF2)「Si (R) 3 (F) 其中c、d、e、f、g、h、i、j各自是一个从0至10的整数，c、d、e和f中的至少一个不为 0, g、h、i和j中的至少一个不为0,并且R是一个例如以上已经定义的可水解基团、或者是 OH 或 NH2 ο11. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中M2的数均分子量是低于或等于 800g/mol〇12. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中在M2之前沉积Ml并且在以小于1、 优选小于〇. 8的[M2层实际物理厚度]/[Ml层实际物理厚度]厚度比形成Ml和M2层的这 样的条件下沉积Ml和M2。13. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该Ml沉积物具有低于50nm、优选低 于40nm并且甚至更好地低于IOnm的实际物理厚度。14. 根据以上权利要求中任一项所述的方法，其中该M1+M2沉积物具有低于200nm的实 际物理厚度。15. -种光学物品，可以通过如权利要求1至14所述的方法获得。16. 如权利要求15所述的光学物品，进一步被定义为具有低于或等于14mJ/m2的表面 能。17. 如权利要求15或16所述的光学物品，进一步被定义为具有一个表面，该表面具有 高于70°的与十六烷的静态接触角。
【专利摘要】本发明针对一种用于制造光学物品的方法，该方法包括以下步骤：提供一个基底，该基底具有两个主面并且在其面的至少一个上携带-OH官能团，依次地将该携带-OH官能团的基底的一个面暴露于至少两种不同的材料，被称为M1和M2，M1具有高于M2的重均分子量，在一个真空室中在导致将那些材料沉积到该基底的表面上的条件下，并且其中：M1是一种取代的硅烷，包含：至少一个结合到硅原子上的官能团X1，其中该Si-X1基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M2形成一个共价键，以及至少一个含氟基团，M2是一种具有低于或等于900g/mol的数均分子量的取代的硅烷，包含：至少一个结合到硅原子上的官能团X2，其中该Si-X2基团能够与该基底的-OH基团形成一个共价键和/或与M1形成一个共价键，以及至少一个疏水和/或疏油基团，或至少一个亲水基团，其中M1的重均分子量与M2的重均分子量之间的差值是高于或等于600g/mol。
【IPC分类】G02B27/00
【公开号】CN104903773
【申请号】CN201380068386
【发明人】G·富尔纳德, A·贾鲁里, D·孔特
【申请人】埃西勒国际通用光学公司
【公开日】2015年9月9日
【申请日】2013年12月26日
【公告号】EP2939061A1, US20150331152, WO2014102298A1