在显影液中的溶解性过高时控制其溶解性，使显影时的溶解速度适度地降低。作为这样的 溶解控制剂，优选的是在抗蚀覆膜的煅烧、辐射线照射、显影等工序中不发生化学变化的溶 解控制剂。
[0269] 作为溶解控制剂，没有特别限定，可列举出例如：菲、蒽、苊等芳香族烃类；苯乙 酮、二苯甲酮、苯基萘基酮等酮类；甲基苯基砜、二苯基砜、二萘基砜等砜类等。这些溶解控 制剂可以单独使用或使用2种以上。
[0270] 溶解控制剂的配混量可以根据使用的式（1)所示的化合物和式（3)所示的化合物 的种类而适当调节，优选为固体成分总质量的〇~49质量％、更优选为0~5质量％、进一 步优选为0~1质量％、特别优选为0质量％。
[0271] (3)敏化剂
[0272] 敏化剂具有吸收被照射的辐射线的能量并将该能量传送给产酸剂（C)从而增加 酸的生成量的作用，是提高抗蚀剂的表观灵敏度的成分。作为这样的敏化剂，没有特别限 定，可列举出例如二苯甲酮类、双乙酰类、芘类、吩噻嗪类、芴类等。这些敏化剂可以单独使 用或使用2种以上。敏化剂的配混量可以根据使用的式（1)所示的化合物和式（3)所示 的化合物的种类而适当调节，优选为固体成分总质量的〇~49质量％、更优选为0~5质 量％、进一步优选为0~1质量％、特别优选为0质量％。
[0273] (4)表面活性剂
[0274] 表面活性剂是具有改良本实施方式的抗蚀剂组合物的涂布性、条纹（striation)、 抗蚀剂的显影性等作用的成分。对这样的表面活性剂没有特别限定，可以为阴离子系、阳离 子系、非离子系或者两性的表面活性剂中的任一种。优选的表面活性剂为非离子系表面活 性剂。非离子系表面活性剂与抗蚀剂组合物的制造中使用的溶剂的亲和性较佳，更具效果。 作为非离子系表面活性剂的例子，没有特别限定，可列举出聚氧乙烯高级烷基醚类、聚氧乙 烯高级烷基苯基醚类、聚乙二醇的高级脂肪酸二酯类等。作为非离子系表面活性剂的市售 品，没有特别限定，可列举出例如以下商品名的FTOP (JEMCO株式会社制）、MEGAFACE (大日 本油墨化学工业公司制）、Fluorad(Sumitomo 3M Limited 制）、AashiGuard、Surflon(以 上，旭硝子公司制）、Pep〇le(东邦化学工业公司制）、KP(信越化学工业公司制）、 Polyflow(共荣社油脂化学工业公司制）等。表面活性剂的配混量可以根据使用的式（1) 所示的化合物和式（3)所示的化合物的种类而适当调节，优选为固体成分总质量的0~49 质量％、更优选为〇~5质量％、进一步优选为0~1质量％、特别优选为0质量％。
[0275] (5)有机羧酸或磷的含氧酸或其衍生物
[0276] 为了防止灵敏度劣化或提高抗蚀图案形状、曝光后延迟显影稳定性等，本实施方 式的抗蚀剂组合物还可以含有有机羧酸或磷的含氧酸或其衍生物作为任意成分。需要说 明的是，有机羧酸或磷的含氧酸或其衍生物可以与酸扩散控制剂组合使用，也可以单独使 用。作为有机羧酸，没有特别限定，例如，丙二酸、柠檬酸、苹果酸、琥珀酸、苯甲酸、水杨酸等 是适合的。作为磷的含氧酸或其衍生物，没有特别限定，可列举出磷酸、磷酸二正丁酯、磷酸 二苯酯等磷酸或它们的酯等衍生物；膦酸、膦酸二甲酯、膦酸二正丁酯、苯基膦酸、膦酸二苯 酯、膦酸二苄酯等膦酸或它们的酯等衍生物；次膦酸、苯基次膦酸等次膦酸或它们的酯等衍 生物，它们之中特别优选膦酸。
[0277] 有机羧酸或磷的含氧酸或其衍生物可以单独使用或使用2种以上。有机羧酸或磷 的含氧酸或其衍生物的配混量可以根据使用的式（1)所示的化合物和式（3)所示的化合物 的种类而适当调节，优选为固体成分总质量的〇~49质量％、更优选为0~5质量％、进一 步优选为0~1质量％、特别优选为0质量％。
[0278] (6)上述溶解控制剂、敏化剂、表面活性剂、以及有机羧酸或磷的含氧酸或其衍生 物以外的其它添加剂
[0279] 进而，在不损害本实施方式的目的的范围内，可以根据需要在本实施方式的抗蚀 剂组合物中含有1种或2种以上的除上述溶解控制剂、敏化剂和表面活性剂以外的添加剂。 作为这样的添加剂，没有特别限定，可列举出例如染料、颜料以及粘接助剂等。例如，配混染 料或颜料时，抗蚀剂组合物可以使曝光部的潜影可视化，能够缓和曝光时的晕影的影响，因 此优选。另外，配混粘接助剂时，抗蚀剂组合物能够改善与基板的粘接性，因此优选。进而， 作为其它添加剂，可列举出防光晕剂、保存稳定剂、消泡剂、形状改良剂等，具体而言可以列 举出4-羟基-4' -甲基查尔酮等。
[0280] 任意成分（F)的总量优选为固体成分总质量的0~49质量％、更优选为0~5质 量％、进一步优选为0~1质量％、特别优选为0质量％。
[0281] 前述固体成分中的抗蚀基材、产酸剂（C)、酸交联剂（G)、酸扩散控制剂（E)和任意 成分（F)的比例（抗蚀基材/产酸剂（C)/酸交联剂（G)/酸扩散控制剂（E)/任意成分（F)) 按照质量％基准计优选处于20~99. 498/0. 001~49/0. 5~49/0. 001~49/0~49的范 围内、更优选处于30~90/1~40/0. 5~40/0. 01~10/0~5的范围内、进一步优选处于 40~80/3~30/1~30/0. 01~5/0~1的范围内、特别优选处于50~70/10~25/2~ 20/0. 01~3/0的范围内。各成分的配混比例可以按照其总和为100质量％的方式从各范 围中选择。形成上述配混时，有灵敏度、分辨率、显影性等性能更优异的倾向。
[0282] 本实施方式的抗蚀剂组合物可如下制造：通常，使用时将各成分溶解于溶剂中制 成均匀溶液，然后，根据需要，用例如孔径0. 2 μ m左右的过滤器等进行过滤，从而制造本实 施方式的抗蚀剂组合物。
[0283] 作为本实施方式的抗蚀剂组合物的制造中使用的前述溶剂，没有特别限定，可列 举出例如乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单正丙醚乙酸酯、乙二醇单 正丁醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯类；乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚等乙二醇单 烷基醚类；丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单正丙醚乙酸酯、丙二 醇单正丁醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯类；丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚等丙二醇单 烷基醚类；乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、乳酸正戊酯等乳酸酯类；乙酸甲 酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸正丁酯、乙酸正戊酯、乙酸正己酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯等脂 肪族羧酸酯类；3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸 乙酯、3-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、 3-甲氧基-3-甲基丙酸丁酯、3-甲氧基-3-甲基丁酸丁酯、乙酰乙酸甲酯、丙酮酸甲酯、丙 酮酸乙酯等其它的酯类；甲苯、二甲苯等芳香族烃类；2-庚酮、3-庚酮、4-庚酮、环戊酮、环 己酮等酮类；N，N-二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等 酰胺类；γ -内酯等内酯类等。这些溶剂可以单独使用或使用2种以上。
[0284] 在不损害本实施方式的目的的范围内本实施方式的抗蚀剂组合物可以含有树脂。 作为树脂，没有特别限定，可列举出例如酚醛树脂、聚乙烯酚类、聚丙烯酸、聚乙烯醇、苯乙 烯-马来酸酐树脂以及含有丙烯酸、乙烯醇或乙烯酚作为单体单元的聚合物或者它们的衍 生物等。树脂的配混量可以根据使用的式（1)所示的化合物和式（3)所示的化合物的混合 物的种类而适当调节，相对于前述化合物的混合物100质量份，优选为30重量份以下、更优 选为10重量份以下、进一步优选为5重量份以下、特别优选为0重量份。
[0285] [抗蚀图案的形成方法]
[0286] 本实施方式的抗蚀图案的形成方法具备以下工序：在基板上涂布本实施方式的抗 蚀剂组合物并且形成抗蚀膜的工序；将前述抗蚀膜曝光的工序；和将经曝光的抗蚀膜显影 的工序。抗蚀图案也可以以多层工艺中的上层抗蚀层的形式来形成。
[0287] 形成抗蚀图案时，例如，首先，通过旋涂、流延涂布、辊涂等涂布方法在以往公知的 基板上涂布前述抗蚀剂组合物而形成抗蚀膜。对于以往公知的基板而言，没有特别限定，可 例示出例如电子部件用的基板、在其上形成有规定的布线图案的基板等。更具体而言，可列 举出硅晶圆、铜、铬、铁、铝等金属制的基板、玻璃基板等。作为布线图案的材料，没有特别限 定，可列举出例如铜、铝、镍、金等。此外，可以根据需要在前述基板上设置无机系和/或有 机系的膜。作为无机系的膜，没有特别限定，可列举出无机防反射膜（无机BARC)。作为有 机系的膜，没有特别限定，可列举出有机防反射膜（有机BARC)。可以利用六亚甲基二硅氮 烷等进行表面处理。
[0288] 接着，根据需要，对涂布后的基板进行加热。加热温度根据抗蚀剂组合物的配混组 成等而变化，优选为20~250°C、更优选为20~150°C。通过进行加热，有时会使抗蚀剂对 基板的密合性提高，因此优选。接着，利用选自由可见光、紫外线、准分子激光、电子束、超紫 外线（EUV)、X射线以及离子束组成的组中的任一种辐射线，将抗蚀膜曝光成期望的图案。 曝光条件等可以根据抗蚀剂组合物的配混组成等而适宜选择。本实施方式中，为了稳定地 形成曝光中的高精度的微细图案，优选在辐射线照射后进行加热。加热条件根据抗蚀剂组 合物的配混组成等而变化，优选为20~250°C、更优选为20~150°C。
[0289] 接着，利用显影液对经曝光的抗蚀膜进行显影，从而可以形成规定的抗蚀图案。作 为前述显影液，没有特别限定，例如可以使用碱水溶液，酮系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、酰 胺系溶剂、醚系溶剂等极性溶剂或烃系溶剂。
[0290] 作为碱水溶液，没有特别限定，可列举出例如单烷基胺类、二烷基胺类或者三烷 基胺类、单链烷醇胺类、二链烷醇胺类或者三链烷醇胺类、杂环式胺类、四甲基氢氧化铵 (TMH)、胆碱等碱性化合物。
[0291] 作为酮系溶剂，没有特别限定，可列举出例如：1-辛酮、2-辛酮、1-壬酮、2-壬酮、 丙酮、4-庚酮、1-己酮、2-己酮、二异丁酮、环己酮、甲基环己酮、苯基丙酮、甲乙酮、甲基异 丁酮、乙酰丙酮、丙酮基丙酮、紫罗酮、二丙酮醇、乙酰甲醇（acetyl carbinol)、苯乙酮、甲 基萘基酮、异佛尔酮、碳酸亚丙酯等。
[0292] 作为酯系溶剂，没有特别限定，可列举出例如：乙酸甲酯、乙酸丁酯、乙酸乙酯、乙 酸异丙酯、乙酸戊酯、丙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、二乙二醇单丁醚乙酸 酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲 氧基丁基乙酸酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、甲酸丙酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、乳酸丙酯 等。
[0293] 作为醇系溶剂，没有特别限定，可列举出例如：甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇（2-丙 醇）、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、异丁醇、正己醇、4-甲基-2-戊醇、正庚醇、正辛醇、正癸醇等 醇；乙二醇、二乙二醇、三乙二醇等二醇系溶剂；乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙 醚、丙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、甲氧基甲基丁醇等二醇醚系溶剂等。
[0294] 作为醚系溶剂，没有特别限定，可列举出例如：上述二醇醚系溶剂以及二噁烷、四 氢呋喃等。
[0295] 作为酰胺系溶剂，没有特别限定，可列举出例如：N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲 基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、六甲基磷酰三胺、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮等。
[0296] 作为烃系溶剂，没有特别限定，可列举出例如：甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂； 戊烷、己烷、辛烷、癸烷等脂肪族烃系溶剂。
[0297] 使用上述溶剂时，可以混合多个，也可以在具有性能的范围内与上述以外的溶剂、 水混合。
[0298] 显影液的蒸气压在20°C下优选为5kPa以下、更优选为3kPa以下、进一步优选为 2kPa以下。通过将显影液的蒸气压设为5kPa以下，能抑制显影液的基板上或者在显影杯内 的蒸发，晶圆面内的温度均匀性提高，结果有晶圆面内的尺寸均匀性更良好的倾向。
[0299] 作为具有5kPa以下的蒸气压的显影液的具体的例子，没有特别限定，可列举出例 如1-辛酮、2-辛酮、1-壬酮、2-壬酮、4-庚酮、2-己酮、二异丁酮、环己酮、甲基环己酮、苯 基丙酮、甲基异丁酮等酮系溶剂；乙酸丁酯、乙酸戊酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙 醚乙酸酯、二乙二醇单丁醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、3-甲 氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、甲酸丁酯、甲酸丙酯、乳酸乙酯、乳酸丁 酯、乳酸丙酯等酯系溶剂；正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、异丁醇、正己醇、4-甲 基-2-戊醇、正庚醇、正辛醇、正癸醇等醇系溶剂；乙二醇、二乙二醇、三乙二醇等二醇系溶 剂；乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、三乙二 醇单乙醚、甲氧基甲基丁醇等二醇醚系溶剂；四氢呋喃等醚系溶剂；N-甲基-2-吡咯烷酮、 N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺等酰胺系溶剂；甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂；辛 烷、癸烷等脂肪族烃系溶剂等。
[0300] 作为具有特别优选的范围即2kPa以下的蒸气压的显影液的具体例子，没有特别 限定，可列举出例如卜辛酮、2-辛酮、1-壬酮、2-壬酮、4-庚酮、2-己酮、二异丁酮、环己酮、 甲基环己酮、苯基丙酮等酮系溶剂；乙酸丁酯、乙酸戊酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙 醚乙酸酯、二乙二醇单丁醚乙酸酯、二乙二醇单乙醚乙酸酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、3-甲 氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、乳酸丙酯等酯系溶 剂；正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、异丁醇、正己醇、4-甲基-2-戊醇、正庚醇、正辛醇、正癸醇等醇 系溶剂；乙二醇、二乙二醇、三乙二醇等二醇系溶剂；乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、乙二醇 单乙醚、丙二醇单乙醚、二乙二醇单甲醚、三乙二醇单乙醚、甲氧基甲基丁醇等二醇醚系溶 剂；N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺等酰胺系溶剂；二甲苯等 芳香族烃系溶剂；辛烷、癸烷等脂肪族烃系溶剂等。
[0301] 显影液中可以根据需要添加适当量的表面活性剂。作为表面活性剂没有特别限 定，例如，可以使用离子性、非离子性的氟系和/或硅系表面活性剂等。作为这些氟系和/或 硅系表面活性剂，没有特别限定，可列举出例如日本特开昭62-36663号公报、日本特开昭 61-226746号公报、日本特开昭61-226745号公报、日本特开昭62-170950号公报、日本特 开昭63-34540号公报、日本特开平7-230165号公报、日本特开平8-62834号公报、日本特 开平9-54432号公报、日本特开平9-5988号公报、美国专利第5405720号说明书、美国专利 第5360692号说明书、美国专利第5529881号说明书、美国专利第5296330号说明书、美国 专利第5436098号说明书、美国专利第5576143号说明书、美国专利第5294511号说明书、 美国专利第5824451号说明书记载的表面活性剂，优选为非离子性的表面活性剂。作为非 离子性的表面活性剂没有特别限定，进一步优选使用氟系表面活性剂或硅系表面活性剂。
[0302] 表面活性剂的用量相对于显影液的总量通常为0.001~5质量％、优选为 0. 005~2质量％、更优选为0. 01~0. 5质量％。
[0303] 作为显影方法，没有特别限定，例如，可以应用下述方法：将基板在盛满显影液的 槽中浸渍一定时间的方法（浸渍法）、将显影液利用表面张力在基板表面堆积并静止一定 时间从而显影的方法（桨法）、将显影液喷雾在基板表面的方法（喷涂法）、在以一定速度 进行旋转的基板上边以一定速度使显影液涂布喷嘴扫描边持续涂布显影液的方法（动态 距离法（dynamic distance method))等。进行图案的显影的时间没有特别限制，优选为10 秒~90秒。
[0304] 另外，也可以实施在进行显影的工序之后，边将显影液置换为其它的溶剂边停止 显影的工序。
[0305] 在进行显影的工序之后，还可以实施使用含有有机溶剂的冲洗液进行洗涤的工 序。作为显影后的冲洗工序中使用的冲洗液，只要不会溶解通过交联而固化的抗蚀图案即 可，没有特别限制，可以使用包含一般的有机溶剂的溶液或水。作为前述冲洗液，优选使用 含有选自烃系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂、醇系溶剂、酰胺系溶剂以及醚系溶剂中的至少1 种有机溶剂的冲洗液。更优选在显影之后，进行使用含有选自由酮系溶剂、酯系溶剂、醇系 溶剂、酰胺系溶剂组成的组中的至少1种有机溶剂的冲洗液进行洗涤的工序。进一步优选 在显影之后，进行使用含有醇系溶剂或酯系溶剂的冲洗液进行洗涤的工序。更优选在显影 之后，进行使用含有一元醇的冲洗液进行洗涤的工序。特别优选在显影之后，进行使用含有 碳数5以上的一元醇的冲洗液进行洗涤的工序。对进行图案的冲洗的时间没有特别限制， 优选为10秒~90秒。
[0306] 在此，作为显影之后的冲洗工序中所使用的一元醇，没有特别限定，可列举出例如 直链状、支链状或环状的一元醇，具体而言，可以使用1- 丁醇、2- 丁醇、3-甲基-1- 丁醇、叔 丁醇、1-戊醇、2-戊醇、1-己醇、4-甲基-2-戊醇、1-庚醇、1-辛醇、2-己醇、环戊醇、2-庚 醇、2-辛醇、3-己醇、3-庚醇、3-辛醇、4-辛醇等。作为特别优选的碳数5以上的一元醇，可 以使用1-己醇、2-己醇、4-甲基-2-戊醇、1-戊醇、3-甲基-1-丁醇等。
[0307] 前述各成分可以混合多个也可以与上述以外的有机溶剂混合使用。
[0308] 冲洗液中的含水率优选为10质量％以下、更优选为5质量％以下、特别优选为3 质量％以下。通过将含水率设为10质量％以下，从而有可以得到更良好的显影特性的倾 向。
[0309] 显影之后使用的冲洗液的蒸气压在20°C下优选为0. 05kPa以上且5kPa以下、更优 选为0.1 kPa以上且5kPa以下、进一步优选为0. 12kPa以上且3kPa以下。通过将冲洗液的 蒸气压设为〇. 〇5kPa以上且5kPa以下，从而晶圆面内的温度均匀性进一步上升，进而进一 步抑制由冲洗液的浸透引起的溶胀，有晶圆面内的尺寸均匀性变得更良好的倾向。
[0310] 冲洗液中也可以添加适当量的表面活性剂来使用。
[0311] 冲洗工序中，使用包含前述有机溶剂的冲洗液对进行了显影的晶圆进行洗涤处 理。对洗涤处理的方法没有特别限定，例如，可以应用下述方法：在以一定速度进行旋转的 基板上持续涂布冲洗液的方法（旋涂法），将基板在盛满冲洗液的槽中浸渍一定时间的方 法（浸渍法），将冲洗液喷雾在基板表面的方法（喷涂法）等，它们之中优选以旋涂方法进 行洗涤处理，在洗涤后使基板以2000rpm~4000rpm的转速旋转，从基板上去除冲洗液。
[0312] 形成抗蚀图案后，进行蚀刻，由此可以得到图案布线基板。蚀刻的方法可以通过使 用等离子气体的干蚀刻，和利用碱溶液、氯化铜溶液、氯化铁溶液等的湿式蚀刻等公知的方 法来进行。
[0313] 也可以在形成抗蚀图案之后，在其上进行镀覆。作为上述镀覆法，没有特别限定， 例如有铜镀覆、焊料镀覆、镍镀覆、金镀覆等。
[0314] 蚀刻后的残留抗蚀图案可以用有机溶剂进行剥离。作为上述有机溶剂，没有特别 限定，可列举出例如PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯）、PGME(丙二醇单甲醚）、EL(乳酸乙酯） 等。作为上述剥离方法，没有特别限定，可列举出例如浸渍方法、喷雾方式等。此外，形成有 抗蚀图案的布线基板可以为多层布线基板也可以具有小径通孔。
[0315] 本实施方式中得到的布线基板也可以通过在抗蚀图案形成后，在真空中蒸镀金 属，然后使抗蚀图案在溶液中溶解的方法，即剥离法（lift-off method)来形成。
[0316] 实施例
[0317] 以下，列举实施例，进一步具体地说明本实施方式。但是，本实施方式不限定于这 些实施例。以下的合成例中，化合物的结构通过1H-NMR测定确认。
[0318] <合成例I > (CR-It和CR-Ic的合成）
[0319] 在能控制温度的内容积500ml的带电磁搅拌装置的高压釜（SUS316L制）中投入 无水HF 74. 3g (3. 71摩尔）、BF350. 5g (0. 744摩尔）。接着，搅拌内容物，将液温保持在-30 °C 不变，通过一氧化碳升压至2MPa。之后，将压力保持在2MPa、液温保持在-30°C不变地供给 混合有4-环己基苯57. Og (0. 248摩尔）和正庚烷50.0 g的原料，保持1小时。之后，在冰 中采取内容物，用苯稀释后，进行中和处理，将所得到的油层通过气相色谱法进行分析，求 出反应成