辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台。
【背景技术】
[0002]在半导体制造中，光刻区是影响产能的重要区域。光刻区机台昂贵，工序精密且复杂，同时还伴有前后工序间的光刻区机台绑定，以消除光刻偏差，因此影响产能的因素很多。
[0003]在光刻工艺中，光罩(Reticle)是光刻区的核心要素，他定义了产品的图形。在工厂生产中，不同产品以及同一产品的不同工艺制程所用的光罩图案可能是相异的，在这种情况下，晶圆在进行曝光之前需要切换光罩。
[0004]目前光刻区机台的产品处理方法首先由线上工程师先通过查询MES系统(Manufacturing Execut1n System,工厂制造执行系统)，查询到当前机台正在使用的光罩的情况和参数，并将使用该光罩的晶圆组放入机台进行产品处理。当晶圆并非为同一晶圆组产品或该晶圆所需光罩并非为当前机台上的光罩时，工程师则去寻找晶圆对应的光罩，并进行光罩切换。
[0005]但是，这种切换光罩的方式没有考虑到光刻区前后工艺间的关系，晶圆片是串行进入前后工艺流程的，若未及时切换对应晶圆的合适光罩，会导致光罩切换时间过长，连同影响后续晶圆片的工艺进展，降低机台产量；尤其当产线负载很重时，切换光罩的时间点也很难把握，引起生产效率低下。
【发明内容】
[0006]本发明技术方案解决的技术问题为，如何在光刻区及时切换光罩，以提高机台产量。
[0007]为了解决上述技术问题，本发明技术方案提供了一种辅助光刻区机台切换光罩的方法，包括:
[0008]对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；
[0009]监测所述晶圆的运行轨迹；
[0010]若所述晶圆的曝光需切换光罩，则在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。
[0011]可选的，所述光刻区机台包括:TRACK机及曝光机，所述光刻区机台上的功能槽包括:所述TRACK机及曝光机上的功能槽；所述与曝光相关的功能槽为所述曝光机上的功能槽。
[0012]可选的，所述TRACK机上的功能槽至少包括:传输功能槽、清洗功能槽、冷却功能槽、涂胶功能槽、边缘曝光功能槽、暂存功能槽、热处理功能槽及显影功能槽。
[0013]可选的，所述监测所述晶圆的运行轨迹包括:
[0014]定义各个功能槽对应的位置信息；
[0015]记录每片晶圆当前处于的功能槽，以获取该晶圆的位置信息。
[0016]可选的，所述方法还包括:
[0017]判断所述晶圆的曝光是否需要切换光罩。
[0018]可选的，若前一片晶圆与后一片晶圆虽属于同一货品但其晶圆表面不同，则后一片晶圆的曝光需切换光罩。
[0019]可选的，若前一片晶圆与后一片晶圆属于不同货品，则后一片晶圆的曝光需切换光罩。
[0020]可选的，所述判断所述晶圆的曝光是否需要切换光罩包括:
[0021]从晶圆盒电子标签内读取获得所述晶圆的广品信息；
[0022]基于所述产品信息获取所述晶圆的光罩类型；
[0023]判断所获取光罩类型与当前光罩类型是否一致，以决定所述晶圆的曝光是否需要切换光罩。
[0024]可选的，所述在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息，包括:
[0025]在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前、且离开涂胶功能槽之后，发出与切换光罩有关的信息。
[0026]可选的，所述在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息，包括:
[0027]在所述运行轨迹显示晶圆进入传输功能槽、边缘曝光功能槽或暂存功能槽，发出与切换光罩有关的信息。
[0028]可选的，所述与切换光罩有关的信息包括:触发信息；该方法还包括:
[0029]基于所述触发信息检测所需光罩是否已切换；
[0030]若未切换则发出使光罩切换的信息。
[0031]可选的，所述与切换光罩有关的信息包括:提醒光罩切换的报警信息。
[0032]可选的，所述与切换光罩有关的信息还包括:提醒光罩切换等待时间的信息。
[0033]为了解决上述技术问题，本发明技术方案还提供了一种辅助光刻区机台切换光罩的装置，包括:
[0034]派货执行单元，适于对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；
[0035]监测单元，适于监测所述晶圆的运行轨迹；
[0036]信息反馈单元，适于当所述晶圆的曝光需切换光罩时，在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。
[0037]为了解决上述技术问题，本发明技术方案还提供了一种光刻区机台，包括:TRACK机及曝光机；所述TRACK机及曝光机分别具有功能槽；该光刻区机台还包括:如上所述的辅助光刻区机台切换光罩的装置。
[0038]为了解决上述技术问题，本发明技术方案还提供了一种辅助光刻区机台切换光罩的方法，包括:
[0039]对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；
[0040]若所述晶圆的曝光需切换光罩，则监测所述晶圆的运行轨迹；
[0041]在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。
[0042]本发明技术方案的有益效果至少包括:
[0043]本发明技术方案通过检测所述晶圆进入光刻区机台进行工艺流程的运动轨迹，在晶圆的曝光需要切换光罩时及时在所定义的与曝光相关的功能槽的轨迹处进行光罩切换的信息提示，有效控制切换光罩的时长，可最大限度地减少晶圆等待光罩切换的时间，避免晶圆及后续晶圆等待曝光时间的延迟，从而增加机台广能。
[0044]本发明技术方案还适于根据功能槽对晶圆的运动轨迹进行定义，由于光刻区涉及的工艺流程很多，各功能槽有其对应的工艺流程，切换光罩的时间点至关重要。本发明技术方案能够准确识别与曝光相关的功能槽，确定切换光罩的时间点，从而在不影响前一片晶圆的曝光工艺及其他工艺的前提下，对当前片晶圆的光罩切换进行及时的提醒，使前后晶圆能够连续运行。本发明技术方案中与切换光罩有关的信息可以用于切换提醒及报警，在更先进的自动切换光罩的系统中，则可触发光罩的自动切换。
【附图说明】
[0045]图1为本发明技术方案光刻区涂胶过程的示意图；
[0046]图2为本发明技术方案光刻区曝光过程的示意图；
[0047]图3为本发明技术方案光刻区显影过程的示意图；
[0048]图4为本发明技术方案的一种光刻流程的示意图；