r>[0139]对应上述辅助光刻区机台切换光罩的装置，本申请还提供有一种光刻区机台，包括:TRACK机、曝光机及所述的辅助光刻区机台切换光罩的装置。
[0140]考虑到对晶圆在光刻区运行轨迹的检测并非对每片晶圆都是有必要的，本申请还提供了另一种辅助光刻区机台切换光罩的方法，其仅对需要进行切换光罩的晶圆的运行轨迹进行监测，如图9所示，包括:
[0141]步骤S300，对所述光刻区机台进行派货。
[0142]步骤S301，若所述晶圆的曝光需切换光罩，则监测所述晶圆的运行轨迹。
[0143]步骤S302，在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。
[0144]步骤S300至S302的进一步描述及定义可参考步骤S100至S102，此处不再赘述。
[0145]本发明虽然已以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本发明，任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内，都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出可能的变动和修改，因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰，均属于本发明技术方案的保护范围。
【主权项】
1.一种辅助光刻区机台切换光罩的方法,其特征在于,包括: 对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽； 监测所述晶圆的运行轨迹； 若所述晶圆的曝光需切换光罩，则在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光刻区机台包括=TRACK机及曝光机，所述光刻区机台上的功能槽包括:所述TRACK机及曝光机上的功能槽；所述与曝光相关的功能槽为所述曝光机上的功能槽。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述TRACK机上的功能槽至少包括:传输功能槽、清洗功能槽、冷却功能槽、涂胶功能槽、边缘曝光功能槽、暂存功能槽、热处理功能槽及显影功能槽。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述监测所述晶圆的运行轨迹包括: 定义各个功能槽对应的位置信息； 记录每片晶圆当前处于的功能槽，以获取该晶圆的位置信息。5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括: 判断所述晶圆的曝光是否需要切换光罩。6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，若前一片晶圆与后一片晶圆虽属于同一货品但其晶圆表面不同，则后一片晶圆的曝光需切换光罩。7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，若前一片晶圆与后一片晶圆属于不同货品，则后一片晶圆的曝光需切换光罩。8.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述判断所述晶圆的曝光是否需要切换光罩包括: 从晶圆盒电子标签内读取获得所述晶圆的产品信息； 基于所述产品信息获取所述晶圆的光罩类型； 判断所获取光罩类型与当前光罩类型是否一致，以决定所述晶圆的曝光是否需要切换光罩。9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息，包括: 在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前、且离开涂胶功能槽之后，发出与切换光罩有关的信息。10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息，包括: 在所述运行轨迹显示晶圆进入传输功能槽、边缘曝光功能槽或暂存功能槽，发出与切换光罩有关的信息。11.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述与切换光罩有关的信息包括:触发信息；该方法还包括: 基于所述触发信息检测所需光罩是否已切换； 若未切换则发出使光罩切换的信息。12.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述与切换光罩有关的信息包括:提醒光罩切换的报警信息。13.如权利要求11或12所述的方法，其特征在于，所述与切换光罩有关的信息还包括:提醒光罩切换等待时间的信息。14.一种辅助光刻区机台切换光罩的装置，其特征在于，包括: 派货执行单元，适于对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽； 监测单元，适于监测所述晶圆的运行轨迹； 信息反馈单元，适于当所述晶圆的曝光需切换光罩时，在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。15.如权利要求14所述的装置，其特征在于，所述监测单元包括: 功能槽定义单元，适于定义各个功能槽对应的位置信息； 轨迹记录单元，适于记录每片晶圆当前处于的功能槽，以获取该晶圆的位置信息。16.如权利要求14所述的装置，其特征在于，所述与切换光罩有关的信息包括:触发信息；该装置还包括: 检测单元，适于基于所述触发信息检测所需光罩是否已切换； 报警单元，适于在所述光罩未切换时发出使光罩切换的信息。17.一种光刻区机台，其特征在于，包括=TRACK机及曝光机；所述TRACK机及曝光机分别具有功能槽；该光刻区机台还包括:如权利要求14至16任一项所述的辅助光刻区机台切换光罩的装置。18.—种辅助光刻区机台切换光罩的方法,其特征在于,包括: 对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽； 若所述晶圆的曝光需切换光罩，则监测所述晶圆的运行轨迹； 在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。19.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述监测所述晶圆的运行轨迹包括: 定义各个功能槽对应的位置信息； 记录每片晶圆当前处于的功能槽，以获取该晶圆的位置信息。20.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息，包括: 在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前、且离开涂胶功能槽之后，发出与切换光罩有关的信息。21.如权利要求18所述的方法，其特征在于，所述在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息，包括: 在所述运行轨迹显示晶圆进入传输功能槽、边缘曝光功能槽或暂存功能槽，发出与切换光罩有关的信息。
【专利摘要】本发明涉及一种辅助光刻区机台切换光罩的方法、装置及机台。所述方法，包括：对所述光刻区机台进行派货，每片晶圆可进入所述光刻区机台上的功能槽腔室并由此形成每片晶圆的运行轨迹，所述光刻区机台上的功能槽包括与曝光相关的功能槽；监测所述晶圆的运行轨迹；若所述晶圆的曝光需切换光罩，则在所述运行轨迹显示晶圆进入与曝光相关的功能槽腔室之前，发出与切换光罩有关的信息。本发明能够在光刻区辅助切换光罩，控制切换时长，提高机台产量。
【IPC分类】G03F7/20, H01L21/67
【公开号】CN105334700
【申请号】CN201410347657
【发明人】方利, 黄亮, 张宛铮
【申请人】中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2014年7月21日