感光基板的曝光方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种感光基板的曝光方法，尤其涉及一种可使感光基板均匀曝光的感光基板的曝光方法。
【背景技术】
[0002]现今的印刷电路板被广泛地应用于电子设备或电子装置，且为制成印刷电路板上的电路，曝光机因此被开发而加入制程的行列。然而，一般的曝光机的各个发光体所产生的光线强度不均，致使这些发光体照射感光基板时常使得感光基板曝光不均匀。因此，如何研发出一种感光基板的曝光方法，以使其可使感光基板均匀曝光，将是本发明所欲积极揭露之处。
【发明内容】
[0003]有鉴于上述现有技术之缺憾，发明人有感其未臻于完善，遂竭其心智悉心研究克月艮，进而研发出一种感光基板的曝光方法，以期达到可使感光基板均匀曝光的目的。
[0004]为达上述目的及其他目的，本发明提供一种感光基板的曝光方法，其包含下列步骤:(S1)提供平面发光源，其具有至少三个发光体；(S2)提供底片，面向该平面发光源的照射面；(S3)提供感光基板，贴合该底片且面向该照射面，该底片位于该照射面与该感光基板之间；以及(S4)使该平面发光源在其所在平面相对于该底片及该感光基板做平移，或使该底片及该感光基板在其所在平面相对于该平面发光源做平移。
[0005]上述的感光基板的曝光方法中，该平移为来回的平移或二维的平移，该二维的平移为S形的平移、U形的平移或圆形的平移。
[0006]上述的感光基板的曝光方法中，这些发光体均具有第一透镜、第二透镜、发光源及间距可调式座体，该第一透镜及该第二透镜分别设置于该间距可调式座体的顶部及底部，该第二透镜设置于该第一透镜及该发光源之间，该发光源发射的光线依序经由该第二透镜及该第一透镜后向外发射平行光。
[0007]上述的感光基板的曝光方法中，这些发光体呈矩阵排列或交错排列。
[0008]上述的感光基板的曝光方法中，该步骤(S1)中，再提供一平面反射镜；该步骤
(S2)中，该底片借由该平面反射镜面向该平面发光源的照射面；该步骤(S3)中，该感光基板贴合该底片且借由该平面反射镜面向该照射面，该底片位于该平面反射镜与该感光基板之间。
[0009]上述的感光基板的曝光方法中，这些发光体均具有发光二极管(Light-EmittingD1de, LED)。
[0010]上述的感光基板的曝光方法中，这些发光体均发射紫外光。
[0011 ] 借此,本发明的感光基板的曝光方法可使感光基板均勻曝光。
【附图说明】
[0012]图1为本发明具体实施例步骤的示意图。
[0013]图2为本发明具体实施例平面发光源照射强度的示意图。
[0014]图3为本发明具体实施例感光基板吸收能量的示意图。
[0015]图4为本发明具体实施例发光体的立体示意图。
[0016]图5为本发明具体实施例发光体的剖面示意图。
[0017]图6为本发明具体实施例发光体交错排列的示意图。
[0018]图7为本发明具体实施例配置平面反射镜的示意图。
[0019]主要部件附图标记:
[0020]S1 ?S4步骤
[0021]1平面发光源
[0022]11发光体
[0023]111第一透镜
[0024]112第二透镜
[0025]113发光源
[0026]114间距可调式座体
[0027]115散热鳍片组
[0028]12照射面
[0029]2底片
[0030]3感光基板
[0031]4平面反射镜
【具体实施方式】
[0032]为充分了解本发明的目的、特征及技术效果，兹由下述具体实施例，并结合附图，对本发明做详细说明，说明如下:
[0033]图1至图3分别为本发明具体实施例步骤的示意图、平面发光源照射强度的示意图及感光基板吸收能量的示意图，如图所示，本发明提供一种感光基板的曝光方法，其包含下列步骤:
[0034]步骤S1.提供平面发光源1，其具有至少三个发光体11，这些发光体11排列于xy平面上；
[0035]步骤S2.提供底片2，面向该平面发光源1的照射面12，该底片2具有欲曝光至感光基板3的电路图；
[0036]步骤S3.提供感光基板3，贴合该底片2且面向该照射面12，该底片2位于该照射面12与该感光基板3之间，图中显示该平面发光源1在下，该底片2及该感光基板3在上，然而该平面发光源1、该底片2及该感光基板3的位置亦可依实际所需在上下、左右或前后的位置上做变换，只要该底片2位于该照射面12与该感光基板3之间即可；以及
[0037]步骤S4.使该平面发光源1在其所在平面相对于静止的该底片2及该感光基板3做平移，以使该平面发光源1的这些发光体11发光时，该感光基板3可均匀曝光，在该平面发光源1做来回的平移或二维的平移的过程中，该底片2及该感光基板3位于该平面发光源1的照射范围内；另外，本发明亦可使该底片2及该感光基板3在其所在平面相对于静止的该平面发光源1做平移，以使该平面发光源1的这些发光体11发光时，该感光基板3可均匀曝光，在该底片2及该感光基板3做来回的平移或二维的平移的过程中，该底片2及该感光基板3位于该平面发光源1的照射范围内。
[0038]请再参照图2至图3，如图2所示，该平面发光源1的这些发光体11所形成的照射强度分布并不均匀，通常在该发光体11的中心附近照射强度最大，而二发光体11之间的照射强度最小，即这些发光体11所形成的照射强度分布呈波浪状；如图3所示，当该平面发光源1的这些发光体11发光且该平面发光源1在其所在平面相对于该底片2及该感光基板3做平移时，原本该感光基板3吸收到照射强度小的位置便可被平移到照射强度大的位置，原本该感光基板3吸收到照射强度大的位置便可被平移到照射强度小的位置，如此做平移，该感光基板3上的各个位置便可吸收到接近相同的照射能量，进而使得该感光基板3可吸收到均匀的照射能量，即该感光基板3可均匀曝光，且曝光的均匀度可达95%以上。同理，当该平面发光源1的这些发光体11发光且该底片2及该感光基板3在其所在