.2~2,故由硬涂层3产生的固化收缩与由卷曲抑制层4产生的固化收缩 相抵，本实施方式的硬涂层叠体1的卷曲得到抑制。
[0091] 更具体而言，卷曲抑制层4的厚度优选为4~100μπι，特别优选为5~100μπι，更优选 为20~50μπι，最优选为25~50μπι。由于卷曲抑制层4的厚度在上述范围，因此卷曲抑制层4厚 度相对于硬涂层3厚度的比容易满足上述的条件，本实施方式的硬涂层叠体1的卷曲更有效 地被抑制。
[0092] (4)硬涂层叠体的物性
[0093] 本实施方式的硬涂层叠体1在竖10cm、横10cm的尺寸中，四角翅曲的高度的总值优 选为5cmW下，更优选为3cmW下，特别优选为2cmW下，最优选为IcmW下。满足上述条件的 硬涂层叠体1可抑制翅曲（卷曲）。另外，具体详细的测定方法的将在后述的试验例中表示。
[0094] 另外，本实施方式的硬涂层叠体1在通过依照JIS K5600-5-1的圆柱形屯、轴法的抗 弯曲性试验中，不发生破裂的最小屯、轴直径优选为32mmW下，更优选为25mmW下，特别优选 为20mmW下。满上述条件的硬涂层叠体1，在向卷曲体的回卷W及从卷曲体的松出等中也很 难发生破裂及剥落，抗弯曲性非常优异，容易处理。
[00M]本实施方式的硬涂层叠体1的雾度值优选为3.0% W下，更优选为1.0% W下，特别 优选为0.8 % W下，更加优选为0.7 % W下。如果雾度值在3.0 % W下，则透明度较高，本实施 方式的硬涂层叠体1适合于光学用途。另外，雾度值为使用日本电色工业株式会社制造的雾 度计"ND册000"并依照JIS K7136-2000测定的值。
[0096] (5)硬涂层叠体1的制造方法
[0097] 本实施方式的硬涂层叠体1例如可W通过如下所述得到:分别在上述的基材片2的 一面涂布或贴合硬涂层用组合物，并且在另一面涂布或贴合卷曲抑制层用组合物，并使运 些固化而形成硬涂层3及卷曲抑制层4,从而得到。W下，对于硬涂层用组合物及卷曲抑制层 用组合物作为固化性成分含有能量射线固化性成分的情况进行说明。另外，固化前的硬涂 层用组合物及卷曲抑制层用组合物的层，基本上由涂膜构成，故W下主要称为"涂膜"。但 是，本发明并不仅限于此。
[0098] 作为本实施方式的硬涂层叠体1的具体制造方法，可W列举出W下说明的两种方 法，但并不限定于运些方法。
[0099] 第一方法，使在基材片2的一面涂布或贴合的硬涂层用组合物的层的涂膜与在基 材片2的另一面涂布或贴合的卷曲抑制层用组合物的层的涂膜一次性固化，并分别使其成 为硬涂层3及卷曲抑制层4的方法。作为其一示例，首先，通过在基材片2的一面形成由硬涂 层用组合物构成的第一涂膜(固化后变成硬涂层3的层），在与该第一涂膜中的基材片2相反 一侧的面上进一步层叠盖片，从而制造由基材片/第一涂膜/盖片构成的层叠体。此时，也可 W在盖片中形成第一涂膜，在基材片2的一面贴合带有其盖片的第一涂膜。另外，作为盖片， 可W使用在上述中作为树脂薄膜而例示的盖片。
[0100] 由硬涂层用组合物构成的第一涂膜通过下述方式形成:制备含有能量射线固化性 成分、无机填充剂W外的构成硬涂层用组合物的材料、根据需要进而含有溶剂的涂布剂，并 将其涂布至基材片2或盖片，并使其干燥而形成。涂布剂的涂布只要通过通常的方法进行即 可，例如可W通过棒涂法、刮刀涂布法、麦勒棒涂布法、漉涂法、板涂布法、模具涂布法、凹板 涂布法进行。干燥可W在例如80~150°C中通过加热30秒~5分钟左右来进行。
[0101] 然后，在上述层叠体中的基材片2的另一面(基材片2露出的面)形成由卷曲抑制层 用组合物构成的第二涂膜(固化后成为卷曲抑制层4的层），在该第二涂膜中的基材片2的对 侧的面(在图1中为下侧的面)上进一步层叠盖片。此时，也可W在盖片中形成第二涂膜，在 基材片2的另一面贴合带有其盖片的第二涂膜。
[0102] 由卷曲抑制层用组合物构成的第二涂膜通过下述方式形成:制备含有能量射线固 化性成分W外的构成卷曲抑制层用组合物的材料、根据需要进而含有溶剂的涂布剂，将其 涂布至基材片2或盖片，使其干燥而形成。涂布或干燥等工序只要与形成由硬涂层用组合物 构成的第一涂膜的情况相同地进行即可。
[0103] 向由所得到的盖片/第一涂膜/基材片2/第二涂膜/盖片构成的层叠体，从一侧或 两侧的主面侧照射能量射线，从而使由硬涂层用组合物构成的第一涂膜与由卷曲抑制层用 组合物构成的第二涂膜固化，分别形成硬涂层3及卷曲抑制层4。
[0104] 第一及第二涂膜的固化(硬涂层3及卷曲抑制层4的形成)通过对运些涂膜照射紫 外线、电子束等活性能量射线而进行。紫外线照射，可w通过高压水银灯、烙合助了、氣灯等 进行，紫外线照射量优选照度为50~lOOOmW/cm2、光量为50~lOOOmJ/cm2左右。另一方面，电 子束照射可W通过电子束加速器等进行，电子束的照射量优选为10~lOOOkrad左右。
[0105] 如上所述，能够W在硬涂层3的更外侧层叠有盖片，且在卷曲抑制层4的更外侧层 叠有盖片的状态，得到本实施方式的硬涂层叠体1。
[0106] 另外，在上述的方法中，也可W将硬涂层用组合物与卷曲抑制层用组合物替换。 即，也可W先形成由卷曲抑制层用组合物构成的第一涂膜，其次形成由硬涂层用组合物构 成的第二涂膜，然后使它们固化而制造硬涂层叠体1。
[0107] 此处，盖片应用于在制造工序中支撑层叠体、通过硬涂层用组合物的涂膜截断阻 碍能量射线固化反应的空气中的氧气等目的，在使用硬涂层叠体1时被除去。另外，上述第 二涂膜侧的盖片可W省略，在该情况下，优选在氧浓度较低的气氛下(例如，在氮气氛下)进 行固化处理。
[0108] 第二方法，其是使在基材片2的一面涂布或贴合的硬涂层用组合物的涂膜与在基 材片2的另一面涂布或贴合的卷曲抑制层用组合物的涂膜通过不同的工序固化，分别形成 硬涂层3及卷曲抑制层4的方法。
[0109] 作为其一示例，首先在第一工序中，在基材片2的一个主面侧形成硬涂层3。具体而 言，W与上述第一方法相同的方式，制造由基材片/由硬涂层用组合物构成的第一涂膜/盖 片构成的层叠体。向所得到的层叠体从一侧或两侧的主面侧照射能量射线，从而使由硬涂 层用组合物构成的第一涂膜固化，形成硬涂层3。
[0110] 然后，对于所得到的层叠体，作为第二工序，在基材片2的另一面(基材片2露出的 面)形成卷曲抑制层4。具体而言，在形成硬涂层3的上述层叠体中的基材片2露出的面上，层 叠由卷曲抑制层用组合物构成的第二涂膜W及盖片。第二涂膜可W向基材片2直接涂布而 形成，也可W将涂布至盖片而形成者贴合至基材片2。
[0111] 对所得到的层叠体从一侧或两侧的主面侧照射能量射线，从而使由卷曲抑制层用 组合物构成的第二涂膜固化，形成卷曲抑制层4。由此，能够W在硬涂层3的更外侧层叠有盖 片，且在卷曲抑制层4的更外侧层叠有盖片的状态，得到本实施方式的硬涂层叠体1。
[0112] 另外，在第二方法中，也可W将硬涂层用组合物与卷曲抑制层用组合物替换。即， 在第一工序中，在基材片2的一面形成由卷曲抑制层用组合物构成的第一涂膜，使该第一涂 膜固化而形成卷曲抑制层4。然后，在第二工序中，在基材片2的另一面(基材片2露出的面） 形成由硬涂层用组合物构成的第二涂膜并使其固化而形成硬涂层。也可W如上所述制造硬 涂层叠体1。
[0113] 另外，在第二方法中，可W省略上述两个盖片中的一个或两个，在该情况下，优选 在氧浓度低的气氛下(例如，在氮气氛下)进行固化处理。
[0114] 根据上述方法，能够制造本实施方式的硬涂层叠体1，但其中也W第一方法为优 选，特别是在第一方法中，形成由硬涂层用组合物构成的第一涂膜及由卷曲抑制层用组合 物构成的第二涂膜，照射能量射线而形成硬涂层3及卷曲抑制层4的方法为优选。
[0115] (6)硬涂层叠体1的用途
[0116] 本实施方式的硬涂层叠体1的用途，可W优选用于兼顾要求较高的表面硬度和抑 制卷曲的用途。特别是在硬涂层叠体1的雾度值较小等具有透明性的情况下，可W作为光学 部件，例如液晶显示器化CD)、等离子显示器(PDP)、有机发光二极管(ο化D)、甚至触摸面板 等各种显示器的表层使用。其中，由于本实施方式的硬涂层叠体1具有较高的表面硬度，故 作为触摸面板的表层也特别适合。
[0117] 另外，在本实施方式的硬涂层叠体1中，也可W层叠有粘接着剂层、障壁层、导电 层、低