反射层、易印刷层、防污层等。
[0118] W上说明的实施方式是为使对本发明的理解容易而记载的，而并非为限定本发明 而记述。因此，在上述实施方式中所公开的各要素，其宗旨为还包含属于本发明的技术范围 的所有设计变更及均等物。
[0119] 例如，在硬涂层叠体1中的基材片2与硬涂层3及/或卷曲抑制层4之间，也可W存在 其它层。
[0120] 实施例
[0121] W下，根据实施例等更具体地说明本发明，但是本发明的范围并不仅限于运些实 施例等。
[0122] (实施例1)
[0123] 将硬涂层用组合物(JSR公司制造，商品名"OPSTAR 27530"，W质量比40:60含有作 为能量射线固化性成分的二季戊四醇六丙締酸醋(密度：1.25g/cm3)与作为无机填充剂的 反应性二氧化娃(密度:2.1g/cm 3)，无机填充剂的含量:49体积％，光聚合引发剂:3质量％， 固体成分浓度：73质量％，溶剂：甲基乙基酬），在作为基材片的聚对苯二甲酸乙二醇醋 (阳T)薄膜(东洋纺株式会社制造，商品名乂OSMOSHI肥阳Τ25Α4300-，厚度:25皿)的一面， 用模具涂布机进行涂布而使干燥后的厚度达到25WI1之后，在80°C下处理1分钟而形成硬涂 层用组合物的涂膜。接着，在所得到的涂膜上贴合盖片（东洋纺株式会社制造，商品名 "C0SM0SHI肥PET 38A4100")之后，从所得到的层叠体的盖片侧进行紫外线（UV)照射（照 度:230mW/cm2,光量：190mJ/cm 2)，使硬涂层用组合物固化而形成硬涂层(厚度:25皿）。
[0124] 然后，在所得到的层叠体当中未贴合盖片的面(基材片露出的面)上，为使干燥后 的厚度达到25μπι而用模具涂布机涂布卷曲抑制层用组合物（JSR公司制造，商品名 "0PSTARZ7530"，与上述的硬涂层用组合物相同）之后，在80°C下处理1分钟而形成卷曲抑制 层用组合物的涂膜。接着，在所得到的涂膜上贴合盖片（东洋纺株式会社制造，商品名 "COSMO細1肥PET 38A4300")之后，从所得到的层叠体的该盖片侧进行UV照射（照度： 230mW/cm2,光量：190mJ/cm 2)，使卷曲抑制层用组合物固化而形成卷曲抑制层(厚度:25皿）。 如此，得到在由盖片/硬涂层/基材片/卷曲抑制层/盖片构成的层叠体，即在硬涂层及卷曲 抑制层的外侧分别层叠有盖片的状态的硬涂层叠体。
[0125] (实施例2~8、比较例1~4)
[0126] 作为基材片使用表1所示的厚度的PET薄膜，除硬涂层的厚度及卷曲抑制层的厚度 变更为表1所示的值W外，W与实施例1相同的方式制造硬涂层叠体。
[0127] (实施例9)
[0128] 作为卷曲抑制层用组合物，使用作为能量射线固化性成分的100质量份二季戊四 醇六丙締酸醋(新中村化学工业株式会社制造)与作为光聚合引发剂的2.5质量份径基环己 基苯基酬(BASF公司制造，商品名"irgacure 184")的混合物，作为基材片使用厚度50皿的 PET薄膜，并且，除了使卷曲抑制层的厚度变更为扣mW外，W与实施例1相同的方式制造硬 涂层叠体。
[0129] (实施例10、比较例5)
[0130] 除了使卷曲抑制层的厚度变更为表1所示的值W外，W与实施例9相同的方式制造 硬涂层叠体。
[0131] (比较例6)
[0132] 作为硬涂层用组合物W及卷曲抑制层用组合物，除使用作为能量射线固化性成分 的100质量份二季戊四醇六丙締酸醋(新中村化学工业株式会社制造)与作为光聚合引发剂 的2.5质量份径基环己基苯基酬(BASF公司制造，商品名"bgacurel84")的混合物，作为基 材片使用厚度100WI1的PET薄膜之外，W与实施例1相同的方式制造硬涂层叠体。
[0133] (试验例1)(铅笔硬度的测定）
[0134] 从在实施例W及比较例中得到的硬涂层叠体剥离出两张盖片，使硬涂层的面露出 而固定于玻璃板上。对于露出的硬涂层面，依照JIS K5600-5-4,使用铅笔刮痕硬度测试器 (安田精机制作所株式会社制造，产品名称"No. 553-M")测定铅笔硬度。刮痕速度设定为 1mm/秒。将结果显示于表1。另外，将涂膜硬度在甜W上者评价为良好（〇)，将4HW下者评价 为不良（X)。将结果显示于表1。
[0135] (试验例2)(卷曲量的测定）
[0136] 将在实施例W及比较例中得到的硬涂层叠体切割成竖10cm、横10cm，除去盖片而 作为试验片。对于所得到的试验片，在23°C、50%RH的气氛下，测定自四角的座面的垂直距 离(cm),将四处的各距离的总值作为卷曲量(cm)。将结果显示于表1。另外，将卷曲量在5cm W下者评价为良好(0)，将超过5cm者评价为不良（X )。将结果显示于表1。
[0137] [表 1]
[013 引
[0139] 由表1可知，在实施例中所得到的硬涂层叠体具有较高的表面硬度，并且卷曲得到 抑制。与此相对，在比较例1~3中得到的硬涂层叠体为表面硬度较差，在比较例4~5中得到 的硬涂层叠体卷曲的程度显著。此外，在比较例6中得到的硬涂层叠体，其表面硬度较差，并 且卷曲的程度显著。
[0140] 工业实用性
[0141] 本发明的硬涂层叠体可优选用于例如液晶显示器化CD)、等离子显示器(PDP)、有 机发光二极管(0ELD)、触摸面板等各种显示器的表层保护片。
[0142] 附图标记说明
[0143 ] 1为硬涂层叠体，2为基材片，3为硬涂层，4为卷曲抑制层。
【主权项】
1. 一种硬涂层叠体，其特征在于，该层叠体具备基材片、层叠于所述基材片的一个主面 侧的硬涂层以及层叠于所述基材片的另一个主面侧的卷曲抑制层， 所述硬涂层由使含有固化性成分以及无机填充剂的组合物固化的材料构成， 所述卷曲抑制层由使含有固化性成分的组合物固化的材料构成， 所述基材片的厚度为25~100μL?， 所述硬涂层的厚度为20~50μηι， 所述硬涂层厚度相对于所述基材片厚度的的比为〇. 2~2， 所述卷曲抑制层厚度相对于所述硬涂层厚度的比为0.2~2。2. 根据权利要求1所述的硬涂层叠体，其特征在于，所述硬涂层依照JISΚ5600-5-4测 定的铅笔硬度为5Η以上。3. 根据权利要求1或2所述的硬涂层叠体，其特征在于，构成所述卷曲抑制层的组合物 与构成所述硬涂层的组合物相同。4. 根据权利要求1至3中任一项所述的硬涂层叠体，其特征在于，所述无机填充剂为选 自反应性二氧化硅及氧化钛的至少一种。5. 根据权利要求1至4中任一项所述的硬涂层叠体，其特征在于，在竖10cm、横10cm的尺 寸中，四角的翘曲的高度的总值为5cm以下。6. 根据权利要求1至5中任一项所述的硬涂层叠体，其特征在于，所述硬涂层用组合物 中的所述固化性成分以及所述卷曲抑制层用组合物中的所述固化性成分为能量射线固化 性成分。7. -种硬涂层叠体的制造方法，其特征在于，该方法为制造权利要求6所述的硬涂层叠 体的方法， 制造在基材片的一个主面侧层叠有由所述硬涂层用组合物构成的第一层，在所述第一 层的与所述基材片侧的相反侧层叠有盖片的层叠体， 在所述层叠体中的所述基材片的另一个主面侧形成由所述卷曲抑制层用组合物构成 的第二层， 通过照射能量射线，使所述第一层及所述第二层固化，形成硬涂层及卷曲抑制层。
【专利摘要】本发明提供一种硬涂层叠体(1)，其具备基材片(2)、层叠于基材片的一个主面侧的硬涂层(3)以及层叠于基材片的另一个主面侧的卷曲抑制层(4)，硬涂层(3)由使含有固化性成分及无机填充剂的组合物固化的材料构成，卷曲抑制层(4)由使含有固化性成分的组合物固化的材料构成，基材片(2)的厚度为25～100μm，硬涂层(3)的厚度为20～50μm，硬涂层(3)厚度相对于基材片(2)厚度的比为0.2～2，卷曲抑制层(4)厚度相对于硬涂层(3)厚度的比为0.2～2。该硬涂层叠体(1)表面硬度高，且卷曲得到抑制。
【IPC分类】G02B1/14, G02B27/00
【公开号】CN105452908
【申请号】CN201480045681
【发明人】高桥瑛, 田矢直纪, 伊藤雅春, 古屋拓己
【申请人】琳得科株式会社
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2014年7月28日
【公告号】WO2015029667A1