光掩模铬版修补的合束系统的制作方法_2

文档序号:8731538阅读:来源:国知局
偏光),偏振分光元件2为偏振分光棱镜。
[0045]进一步地,如图1和图4所示,在本实用新型提供的一较佳实施例中,第一分束装置11包括第一激光器111和第一波片112,第一激光器111发射出的光线(如线偏振激光)经第一波片112调整偏振方向后即可形成第一分束光1111 (如P-偏光)。再如图1和图4所示,第二分束装置12包括第二激光器121和第二波片122,第二激光器121发射出的光线(如线偏振激光)经第二波片122调整偏振方向后即可形成第二分束光1211(如S-偏光)O
[0046]其中,在本实施例中,优选地,第一波片112和第二波片122均为零级半波片,且第一波片112和第二波片122完全相同,可以理解地,在本实施例中,只需调整第一分束装置上的零级半波片到适当的位置即可将第一激光器111发出的线偏振激光调整为P-偏光,同理,只需调整第二分束装置上的零级半波片到适当的位置即可将第二激光器121发出的线偏振激光调整为S-偏光。
[0047]进一步地,如图1和图4所示,在本实用新型提供的一较佳实施例中,为便于将经第一波片112调整偏振方向后的P-偏光导向到偏振分光元件2上,第一分束装置11还包括第一反射镜113,这样,第一分束光1111 (如P-偏光)经第一反射镜113反射后直接透过偏振分光元件2。在本实施例中,由第二波片122调整偏振方向后形成的第二分束光1211(如S-偏光)直接经偏振分光兀件2反射。
[0048]具体在本实施例中,再如图1和图4所不,优选地,第一分束光1111由后往前垂直射入并透光偏振分光元件2,第二分束光1211由右往左垂直射入偏振分光元件2,经偏振分光兀件2反射后由后往前射出偏振分光兀件2,也即,第二分束光1211经偏振分光兀件2反射后,其光轴转折有90°。需说明的是,第一反射镜113和第二反射镜31的偏转角度可依据实际各部件的安装位置而定,也即,在整个调试过程中,可通过实际需要来适时地调整第一反射镜113的位置,最终使得由偏振分光元件2发出的第一分束光1111和第二分束光1211两者的光轴能统一。
[0049]进一步地,如图1和图4所示,在本实用新型提供的一较佳实施例中,光路转折总成3顺次包括第二反射镜31、第一分光镜32、可变狭缝33、第二分光镜34、第三分光镜36和反应腔38,经偏振分光元件2射出的第一分束光1111或第二分束光1211依次经第二反射镜31、第一分光镜32、可变狭缝33、第二分光镜34、第三分光镜36和反应腔38照射到该光掩模铬版O上。需说明的是,具体在本实施例中,优选地,第二分光镜34和第三分光镜36之间还设有管镜35,在第三分光镜36和反应腔38之间还设有物镜37。
[0050]还需说明的是,在本实施例中,通过适时地调整可变狭缝33的缝隙的大小,可适时地调节第一分束光1111或第二分束光1211的分布,以适应修复或填补的区域。另外,在填补白缺陷时,需要反应腔38内提供一定流量的气体状态的铬金属化合物以用于光化学辅助沉积铬层,但在修复黑缺陷时,反应腔38则仅为一光通道。
[0051]进一步地,如图1和图5所示,在本实用新型提供的一较佳实施例中,该合束系统还包括反射照明总成4,其中,该反射照明总成4顺次包括第一点光源41、第一透镜42、第三反射镜43和第二透镜44。为便于为光掩模络版O的修复或填补提供光照,第一点光源41发射出的第一照明光线(图未示)依次经第一透镜42、第三反射镜43、以及第二透镜44处理后,再经由第三分光镜36反射并最终照射到该光掩模铬版O上。
[0052]具体在本实施例中,第一点光源41为一 LED点光源,该LED点光源发出的第一照明光线(图未示)透过第一透镜42后,再由第三反射镜43反射而出,再后由第二透镜44透出,最后经第三分光镜36反射,进入到物镜37内,并由反应腔38照射到光掩模铬版O上,并由光掩模铬版O反射而出,以此实现对光掩模铬版O照明的效果。
[0053]进一步地,如图1和图6所示,在本实用新型提供的一较佳实施例中,该合束系统还包括指示照明总成5,需说明的是,通常因光掩模铬版O上的黑缺陷或白缺陷所占面积比较小,因而,为便于对准需修复的黑缺陷或需填补的白缺陷,该指示照明总成5主要用以标示第一分束光1111或第二分束光1211在光掩模铬版O上的具体位置。
[0054]再如图1和图6所示,在本实施例中,该指示照明总成5顺次包括第二点光源51和第三透镜52,为便于标示出光掩模铬版O上的黑缺陷或白缺陷,第二点光源51发射出的第二照明光线(图未示)依次经第三透镜52处理后,再经由第一分光镜32反射进入到可变狭缝33,并最终成像于该光掩模铬版O上。
[0055]具体在本实施例中,第二点光源51为一 LED点光源,该LED点光源发出的第二照明光线(图未示)透过第三透镜52后,直接经由第一分光镜32反射后穿过可变狭缝33后,再顺次经过第二分光镜34、管镜35、第三分光镜36、物镜37和反应腔38,并最终照射成像到光掩模铬版O上。
[0056]进一步地,如图1和图7所示,在本实用新型提供的一较佳实施例中,为便于找到黑缺陷或白缺陷的具体位置,以及适时地查看对黑缺陷的修复情况或查看对白缺陷的填补情况,该合束系统还包括显微成像总成6,其中,该显微成像总成6顺次包括成像器61、第四反射镜62和第四透镜63,显然,第一点光源41发射出的第一照明光线(图未示)和第二点光源51发射出的第二照明光线(图未不)均从光掩模络版O依次经反应腔38、第三分光镜36、第二分光镜34、第四透镜63和第四反射镜62,并最终成像于成像器61上。
[0057]具体在本实施例中,第一点光源41发射出的第一照明光线(图未不)和第二点光源51发出的第二照明光线(图未示)均从光掩模铬版O上同轴反射而出后,顺次经反应腔38、物镜37、第三分光镜36、管镜35以从第二分光镜34反射而出以照射到第四透镜63,由第四透镜63透射而出后经由第四反射镜62反射而出,并进入到成像器61内,最终成像于成像器61上。在本实施例中,优选地,该成像器61为CXD相机。
[0058]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型。对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的权利要求范围之内。
【主权项】
1.光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:包括合束总成,所述合束总成包括用以发射出第一分束光的第一分束装置和用以发射出第二分束光的第二分束装置; 该系统还包括偏振分光元件,用以直接透过所述第一分束光,以及用以反射所述第二分束光并使反射出的所述第二分束光的光轴与从所述偏振分光元件透出的所述第一分束光的光轴位于同一轴线上; 该系统还包括光路转折总成,用以辅助传送从所述偏振分光元件射出的所述第一分束光或所述第二分束光以使照射到光掩模铬版上。
2.如权利要求1所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:所述第一分束装置包括第一激光器和用以调整所述第一激光器发射出的光线的偏振方向以形成所述第一分束光的第一波片;所述第二分束装置包括第二激光器和用以调整所述第一激光器发射出的光线的偏振方向以形成所述第二分束光的第二波片。
3.如权利要求2所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:所述第一分束装置还包括用以将所述第一分束光反射至所述偏振分光元件的第一反射镜。
4.如权利要求3所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:所述第一分束光由后往前垂直射入并透光所述偏振分光元件,所述第二分束光由右往左垂直射入所述偏振分光元件,经所述偏振分光元件反射后由后往前射出所述偏振分光元件。
5.如权利要求3或4所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:所述光路转折总成顺次包括第二反射镜、第一分光镜、可变狭缝、第二分光镜、第三分光镜和反应腔,经所述偏振分光元件射出的所述第一分束光或所述第二分束光依次经所述第二反射镜、第一分光镜、可变狭缝、第二分光镜、第三分光镜和反应腔照射到该光掩模铬版上。
6.如权利要求5所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:该合束系统还包括反射照明总成,所述反射照明总成顺次包括用以发射出第一照明光线的第一点光源、用以透射该第一照明光线的第一透镜、用以反射该第一照明光线的第三反射镜和用以将该第一照明光线透射至所述第三分光镜的第二透镜。
7.如权利要求6所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:该合束系统还包括指示照明总成,所述指示照明总成顺次包括用以发射第二照明光线的第二点光源和用以将该第二照明光线透射至所述第一分光镜的第三透镜。
8.如权利要求7所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:该合束系统还包括显微成像总成,所述显微成像总成顺次包括成像器、用以反射所述第一照明光线或所述第二照明光线至所述成像器内的第四反射镜和用以透射从所述第二分光镜反射出的所述第一照明光线或所述第二照明光线至所述第四反射镜上的第四透镜。
9.如权利要求1至8任一项所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:所述偏振分光元件为偏振分光棱镜。
10.如权利要求1至8任一项所述的光掩模铬版修补的合束系统,其特征在于:所述第一分束光为P-偏光,所述第二分束光为S-偏光。
【专利摘要】本实用新型属于图纹面的照相制版的制造设备技术领域,旨在提供一种光掩模铬版修补的合束系统,包括合束总成、偏振分光元件、以及光路转折总成。本实用新型,通过在同一设备平台上设置用以修复光掩模铬版的黑缺陷的第一分束装置和用以填补白缺陷的第二分束装置,并让第一分束装置发出的P-偏光由偏振分光元件直接透射而出,还让第二分束装置发出的S-偏光由该偏振分光元件从P-偏光的同一光轴线上反射而出,这样,即可实现P-偏光和S-偏光从同一光轴线射出,并经由同一光路转折总成处理,最终照射到光掩模铬版上,由此,一张光掩模铬版的修和/或补均可在该合束系统上完成,大大地节省了人力和工时,一定程度上还节约了设备的占用面积。
【IPC分类】G03F1-72, G02B27-10, G02B27-28
【公开号】CN204440008
【申请号】CN201520017324
【发明人】罗俊辉, 曾献斌
【申请人】深圳清溢光电股份有限公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2015年1月9日
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1