专利名称：表面处理用具的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及物品表面加工工具，特别是对物体表面研磨、抛光、清洁或类似加工的表面处理用具。
背景技术：
与本实用新型有关的先前技术领域，包含诸如但不限于的半导体产业、玻璃基板产业、各式光滑面板产业或类似领域。在该等领域中用来处理物品表面例如研磨、抛光、清洁或类似加工的用具大多数使用一种片垫，该片垫被控制而与待处理物表面接触，通过相互的移动产生磨擦作用而达到表面处理的预期效果。该片垫以具有软弹性、吸收性、不产生脱落微屑等特征的材料制成，例如聚胺酯(Polyurethane)、动物皮料等。而为增进该等材料表面处理效能，目前已知的习知技术，大致上于该片垫10的表面加工形成粗糙面11(如图1)，或形成数孔洞、凹槽等类似凹陷结构12。
图1所表示的粗糙面可增加该片垫表面的磨擦力，但该等粗糙面并不能增进片垫的吸收效能。因此，在表面处理的程序中，若于片垫上或待处理表面上加有表面处理剂(polishing fluid)，该等片垫无法将之有效的吸收。该粗糙面需利用反复的、多次的磨擦来磨掉待处理表面上的异物，换言之，该等粗糙面对于待处理表面上的异物并无法产生较佳的铲除效果。而表面处理过程中所产生的细微异物会大量地附着在该粗糙面上，这反而会刮伤待处理表面，而影响表面处理的效果。
从图2中可以看出，因为设置凹槽或孔洞而使该片垫表面成为粗糙面，与上段所述相同的是，该粗糙面需利用反复的、多次的磨擦来磨掉待处理表面上的异物，换言之，该等粗糙面对于待处理表面上的异物并无法产生较佳的铲除效果。而凹槽或孔洞是一种低于片垫表面的结构样态，在表面处理过程中所产生的细微异物容易附着累积其中，清理不易，更可能刮伤待处理表面，而造成表面处理瑕疵。另外，一些习知的相关文件中表示表面处理剂或水可累积在该等凹槽或孔洞中，但这并不表示将会增加该片垫的吸收性或增加该片垫利用表面处理剂或水的能力。原因是，片垫本身因为设置凹槽或孔洞而削减了材料体积，使材料本身所具有的吸收效能被削弱。
相关的习知技术，可参考US6350829、US6293852、US6358130、US6739962等案。
发明内容
本实用新型的目的在于，提供一种表面处理用具，其可确实增进表面处理效果，并具有软弹性、吸收性、不产生脱落微屑等特性。
本实用新型技术方案本实用新型一种表面处理用具，其特征在于该用具包括一片垫，其中一表面上具有数凸体。
其中，该凸体的周边具有若干分别大于90度的转折角度。
其中，该凸体的周边构成一六角形。
其中，该凸体的周边构成一圆形。
其中，该凸体一体成形地位于该用具的表面处。
其中，该用具包含一独立的底层，该凸体结合在该底层的其中一表面上。
制造该凸体的材料包含但不限于聚胺酯(Polyurethane)、合成树脂(Resin)、塑胶(Plastic)、丙烯酸(Acrylic)。利用该等材料使该凸体具软弹性、吸收性、不产生脱落微屑等特性。
本实用新型有益效果1.该凸体可以增进该片垫的表面磨擦力以及异物携除能力。于表面处理程序中，该凸体配合表面处理剂可以将待处理表面上的异物铲起，配合清洁液或水可将表面处理所产生的细微颗粒或异物清除掉。因此本实用新型可以广泛地应用在研磨、抛光、清洁或类似事项。
2.该凸体可以增进该片垫的吸收功能。因为数凸体的效果是增加该片垫的吸收体积，因此于表面处理程序中，该凸体可以充份地吸收掉待处理表面上的液体。或者，该凸体可以充份地吸收足够的表面处理剂，达到预期的表面处理效果。
3.该凸体在本实用新型中的较佳实施样态是块状六角形或块状圆形，其可达到减少物品表面因处理程序而产生的刮痕数量及深度的效果。
图1是习知上表面设有粗糙面的片垫剖面图。
图2是习知设有数凹沟的片垫局部立体放大图。
图3是本实用新型设有六角块状凸体片垫的部份立体放大图。
图4是图3中的4-4局部剖面图。
图5是本实用新型设有圆块状凸体片垫的部份立体放大图。
图6是图5中的6-6局部剖面图。
图7本实用新型于一底层上植设数块状凸体片垫的部份立体放大图。
图8是图7中的8-8局部剖面图。
具体实施方式
首先陈明，关于本实用新型揭露的所有图式，皆为为了清晰表现结构样态而描绘的局部放大示意图。
如图3、图4，本实用新型表面处理用具，实际上是一种片垫的样态。该片垫23的其中一表面形成有数凸体20。该凸体20一体成形于该片垫23的表面。制造上述片垫23及该凸体20的材料包含但不限于聚胺酯(Polyurethane)、合成树脂(Resin)、塑胶(Plastic)、丙烯酸(Acrylic)。利用该等材料使上述片垫23及凸体20具软弹性、吸收性、不产生脱落微屑等特性。
该凸体20凸出于片垫23表面231的结构体，如此可以增进该片垫23的表面磨擦力以及异物携除能力。于表面处理程序中，该凸体20配合表面处理剂可以如同铲子一般地将待处理表面上的异物铲起，完成研磨或抛光物品表面的程序，而产生的细微颗粒异物可能附着在研磨、抛光的物品表面上，该凸体20再配合清洁液或水即可将该等细微颗粒异物清除掉，完成物品表面的清理程序。
应特别说明的是，在本实用新型中该凸体20成形于该片垫23的表面，因此该凸体20是高于该片垫23表面231的结构。这与先前技术所述的凹槽、孔洞或凹沟等凹陷结构是完全不同的。除此之外，先前技术的片垫因为设置该等凹陷结构而削减了材料体积，使材料本身所具有的吸收效能被削弱，但本实用新型凸体20的设计，实际上增加了该片垫的吸收体积及吸收效能。因此于表面处理程序中，该凸体20可以充份地吸收掉待处理表面上的液体。或者，该凸体20可以充份地吸收足够的表面处理剂，达到预期的表面处理效果。
在图3、图4中，表示上述凸体20的一种较佳的具体形状，该凸体20是呈块状六角形。在图5、图6中，表示上述凸体20另一种较佳具体形状，该凸体20是块状圆形。以一个上位概念来说明，该凸体20的较佳实施样态是实体周边具有大角度(至少大于90度)的转折，或者是不具角度转折。以具有上述特征的凸体和不具有上述特征的凸体进行表面处理实验，可以发现具有上述特征的凸体于处理表面上所形成的刮痕数量及深度明显较少。在本实用新型中，该片垫23上可以全部为六角形凸体20或全部为圆形凸体20，亦可为部份六角形凸体20与部份圆形凸体20的搭配，亦可以六角形凸体20或圆形凸体20为主搭配其他形状的凸体。总之，在不脱离本实用新型精神与范畴下该凸体排列及搭配可做各种不同形式的改变。
如图7、图8，该片垫23包含了一底层24以及植于该底层24其中一表面241的数凸体20。制造该等凸体20的材料包含但不限于聚胺酯(Polyurethane)、合成树脂(Resin)、塑胶(Plastic)、丙烯酸(Acrylic)。利用该等材料使上述凸体20具软弹性、吸收性、不产生脱落微屑等特性。制造该底层24的材料同样可包含但不限于聚胺酯(Polyurethane)、合成树脂(Resin)、塑胶(Plastic)、丙烯酸(Acrylic)、聚酯(polyester)。而该底层的结构形态包含但不限于片状体、块状体、编织物、毡状物等。
关于形成本实用新型凸体20的技术手段，在本实用新型中并不特别加以限制，熟悉此项技术者可采用不同的工业方法达成本实用新型的目的。
虽然本实用新型是以一个最佳实施例做说明，但精于此技艺者能在不脱离本实用新型精神与范畴下做各种不同形式的改变。以上所举实施例仅用以说明本实用新型而已，非用以限制本实用新型的范围。举凡不违本实用新型精神所从事的种种修改或变化，俱属本实用新型申请专利范围。
权利要求1.一种表面处理用具，其特征在于该用具包括一片垫(23)，其中一表面上具有数凸体(20)。
2.如权利要求1所述表面处理用具，其特征在于该凸体(20)的周边具有若干分别大于90度的转折角度。
3.如权利要求2所述表面处理用具，其特征在于该凸体(20)的周边构成一六角形。
4.如权利要求1所述表面处理用具，其特征在于该凸体(20)的周边构成一圆形。
5.如权利要求1所述表面处理用具，其特征在于该凸体(20)一体成形地位于该用具的表面(231)处。
6.如权利要求1所述表面处理用具，其特征在于该用具包含一独立的底层(24)，该凸体(20)结合在该底层(24)的其中一表面(241)上。
专利摘要本实用新型一种表面处理用具，该用具的其中一表面上具有数凸体。制造该凸体的材料包括诸如聚氨酯(Polyurethane)、合成树脂(Resin)、塑胶(Plastic)、丙烯酸(Acrylic)等。利用该等凸体增进该用具的表面处理效果。从而，增进了该片垫的表面磨擦力以及异物携除、吸收能力，并可达到减少物品表面因处理程序而产生的刮痕数量及深度。
文档编号B24D99/00GK2908038SQ20062011370
公开日2007年6月6日 申请日期2006年5月9日 优先权日2006年5月9日
发明者朱海怒 申请人:兴亿达有限公司