专利名称：化学机械研磨机台的维护方法
技术领域：
本发明涉及化学机械研磨工艺，尤其涉及化学机械研磨机台的维护方法。
背景技术：
化学机械研磨机台每运作一段时间都需要执行一次常规维护，该维护过程
包括依次执行的研磨消耗品更换与维护、新研磨垫磨合(new pad break-in)以 及刷子磨合(brush break-in )。
新研磨垫磨合步骤在研磨模块上执行，采用研磨垫调节器(pad conditioner) 在研磨垫的边缘和中心位置之间做往复运动来完成，该磨合步骤大约花费30分 钟。完成研磨垫磨合后，再进行刷子磨合，刷子磨合步骤在机台的清洗模块上 执行，采用数片(例如15片)表面覆盖有二氧化硅薄膜的挡片(oxide dummy) 来执行，该刷子磨合步骤也要花费30分钟。
化学机械研磨垫的使用寿命通常只有1000pcs/34h (每34小时研磨1000片 晶圓)，而常规的维护过程就要占用4小时，大大降低了机台的使用效率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种新的化学机械研磨机台的维护方 法，以缩短常规维护所使用的时间，提高机台的使用效率。
为了解决上述技术问题.，本发明采用了如下技术手段 一种化学机械研磨 机台的维护方法，在完成研磨消耗品更换与维护后，同时执行研磨垫磨合和刷 子磨合步骤。
进一步地，所述的化学机械研磨机台包括研磨模块和清洗模块，所述的研 磨垫磨合步骤和刷子磨合步骤分别同时在研磨模块和清洗模块上执行。
进一步地，所述的研磨垫磨合和刷子磨合步骤需采用10 15片表面覆盖有 二氧化硅薄膜的挡片。
进一步地，所述的化学机械研磨机台还包括晶圓传送模块，用于将所述的 挡片分别传送至研磨模块和清洗模块上。
本发明通过将研磨垫磨合和刷子磨合步骤有机结合，可将磨合时间缩短一 半，从而使每月花费在机台常规维护上的时间大大减少，提高了机台的使用效 率。
具体实施例方式
以下将对本发明的化学机械研磨机台的维护方法作进一步的详细描述。
当化学机械研磨机台工作一段时间后，需对其进行常Mi,护，本发明的维 护方法首先进行研磨工具维护，该步骤与现有技术相同，故在此不作详述。
当研磨消耗品更换与维护完毕后，在化学机械研磨机台上同时执行新研磨 垫磨合和刷子磨合步骤，该两个步骤分别在机台的研磨模块和清洗模块上执行。 化学机洗研磨机台还包括一晶圆传送模块，每隔2~3分钟将一片表面覆盖有二 氧化硅薄膜的挡片传送到研磨模块，并使其吸附于研磨头上，当研磨垫调节器
在新研磨垫上执行2 3分钟研磨垫磨合后，再由传送模块将该挡片传输至清洗 模块以执行刷子磨合步骤，从而同步完成研磨垫磨合和刷子磨合。整个过程持 续约30分钟，需要使用10 15片挡片。
统计数据表明，采用本发明的方法可将磨合时间缩短一半，从而使每月花 费在机台常规维护上的时间平均减少6小时，提高了 0.83%的机台使用效率。
权利要求
1、一种化学机械研磨机台的维护方法，其特征在于在完成研磨消耗品更换与维护后，同时执行研磨垫磨合和刷子磨合步骤。
2、 如权利要求1所述的化学机械研磨机台的维护方法，其特征在于所述 的化学机械研磨机台包括研磨模块和清洗模块，所述的研磨垫磨合步骤和刷子 磨合步骤分别同时在研磨;f莫块和清洗模块上执行。
3、 如权利要求2所述的化学机械研磨机台的维护方法，其特征在于所述 的研磨垫磨合和刷子磨合步骤需采用10~15片表面覆盖有二氧化硅薄膜的挡片。
4、 如权利要求3所述的化学机械研磨机台的维护方法，其特征在于所述 的化学机械研磨机台还包括晶圓传送模块，用于将所述的挡片分别传送至研磨 模块和清洗模块上。
全文摘要
本发明公开了一种化学机械研磨机台的维护方法。现有的化学机械研磨机台通过分步执行研磨消耗品更换与维护、新研磨垫磨合和刷子磨合步骤来实现常规维护，其花费时间较长，大大降低了机台的使用效率。本发明的维护方法在完成研磨消耗品更换与维护后，同时执行研磨垫磨合和刷子磨合步骤。通过将研磨垫磨合和刷子磨合步骤有机结合，可将磨合时间缩短一半，从而使每月花费在机台常规维护上的时间平均减少6小时，提高了0.83％的机台使用效率。
文档编号B24B37/00GK101347920SQ20071004387
公开日2009年1月21日 申请日期2007年7月17日 优先权日2007年7月17日
发明者张溢钢, 陈肖科 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司