专利名称：一种可避免漏水误报警的抛光设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及抛光设备，特别涉及一种可避免漏水误报警的抛光设备。
技术背景在半导体制造领域，半导体器件的最小特征尺寸越来越小，现在已发展90 纳米甚至45纳米，在最小特征尺寸如此小的今天，化学机械抛光(CMP)工序 已经成为必不可少的一道工序，现业界通常使用的化学机械抛光设备为将化学 机械抛光和抛光后的清洗设备集成为 一体的设备，现在使用最广的就是由应用 材料公司制作的Mirra&Mesa设备，其中，Mirra模块用于抛光晶圓，Mesa模块 用于清洗抛光后的晶圆，Mesa模块底部设置有用于侦测是否有漏水的漏水侦测 单元，Mesa模块中具有一供晶圓在其中清洗的清洗通道，Mesa模块的罩体对应 该清洗通道设置有一大于该清洗通道的开口 ，而该开口的面积过大易使清洗通 道的水或Mirra模块的水从该开口溅射进Mesa模块进而流入Mesa模块底部而 触动漏水侦测单元侦测出有漏水。随后控制模块就接收到侦测单元的触发信号，而紧急停止Mirra&Mesa设备， 如此在设备中进行抛光和清洗的晶圆就会受到影响而造成极大的经济损失。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种可避免漏水误报警的抛光设备，通过所述 抛光设备可避免漏水误报警的发生。本实用新型的目的是这样实现的 一种可避免漏水误报警的抛光设备，其 包括相互连接且分别用于抛光晶圓的抛光模块和用于清洗抛光后晶圆的清洗模 块，该清洗模块包括一罩体、 一设置在该罩体底部用于侦测清洗模块是否漏水 的漏水侦测单元、 一倾斜设置在罩体中且延伸至罩体外的清洗通道以及一设置 在清洗通道底部用于将清洗通道的水引至抛光设备外的排水单元，其中，该罩 体对应清洗通道还设置有一面积大于清洗通道的开口 ，该罩体的开口处覆设有一具有恰容许晶圓进入清洗通道的缺口的挡板。在上述的可避免漏水误报警的抛光设备中，该挡板通过固定件固定在罩体 的开口处。在上述的可避免漏水误报警的抛光设备中，该挡板上具有对应该固定件的通孔。在上述的可避免漏水误报警的抛光设备中，该罩体上具有对应该固定件的 通孔。在上述的可避免漏水误报警的抛光设备中，该固定件为螺丝。 与现有技术中罩体上的开口过大致使抛光模块和清洗通道溅出的水触发漏 水报警相比，本实用新型在该罩体的开口处覆设一恰容许晶圓进入清洗通道的 挡板，如此可避免清洗通道或抛光模块溅出的水触发漏水侦测单元而产生漏水 误报警。附困说明本实用新型的由以下的实施例及附图给出。
图1为本实用新型的可避免漏水误报警的抛光设备的组成结构示意图。
具体实施方式
以下将对本实用新型的可避免漏水误报警的抛光设备作进一步的详细描述。本实用新型的可避免漏水误报警的抛光设备1包括相互连接的抛光模块10 和清洗模块11。以下将对抛光模块10和清洗模块11进行详述。抛光;^莫块10用于抛光晶圓，其设置有一用于供晶圆进出入以进行抛光或取 出抛光后的晶圆的窗口 100,所述抛光模块IO在进行晶圓抛光时，易从窗口 100中賊出水。清洗模块ll用于清洗经抛光;f莫块10抛光后的晶圆，其包括罩体110、漏水 侦测单元(未图示)、清洗通道lll、排水单元112和挡板113。所述罩体110对应清洗通道111设置有一面积大于清洗通道111的开口 110a,漏水侦测单元设置在革体110底部用于侦测清洗模块11是否漏水，清洗通道111倾斜i殳置在罩体110中且延伸至罩体110外，排水单元112设置在清
洗通道lll底部用于将清洗通道lll的水引至抛光设备l外。
挡板113覆设在所述罩体110的开口 110a处，其具有多个通孔113a和缺 口 113b,所述缺口 113b恰容许晶圓进入清洗通道111,所述挡板113通过固定 件(未图示)穿过通孔113a而固定在罩体110的开口 110a处，所述罩体110 上具有对应所述固定件的通孔110b。在本实施例中，所述固定件为螺丝。
通过上述固定件穿过挡板113及罩体110上对应的通孔而将挡板113覆盖 固定在开口 110a处后，挡板113可阻挡从清洗通道lll或从抛光模块的窗口 100 溅出的水，于是可避免漏水误报警的发生。
综上所述，本实用新型在在所述革体的开口处对应清洗通道覆设有挡板， 如此可避免清洗通道或抛光模块溅出的水触发漏水侦测单元而产生漏水误报 警，从而可避免由此所造成的经济损失。
权利要求1. 一种可避免漏水误报警的抛光设备，其包括相互连接且分别用于抛光晶圆的抛光模块和用于清洗抛光后晶圆的清洗模块，该清洗模块包括一罩体、一设置在该罩体底部用于侦测清洗模块是否漏水的漏水侦测单元、一倾斜设置在罩体中且延伸至罩体外的清洗通道以及一设置在清洗通道底部用于将清洗通道的水引至抛光设备外的排水单元，其中，该罩体对应清洗通道设置有一面积大于清洗通道的开口，其特征在于，该罩体的开口处覆设有一具有恰容许晶圆进入清洗通道的缺口的挡板。
2、 如权利要求1所述的可避免漏水误报警的抛光设备，其特征在于，该挡 板通过固定件固定在罩体的开口处。
3、 如权利要求2所述的可避免漏水误报警的抛光设备，其特征在于，该挡 板上具有对应该固定件的通孔。
4、 如权利要求2所述的可避免漏水误报警的抛光设备，其特征在于，该罩 体上具有对应该固定件的通孔。
5、 如权利要求2所述的可避免漏水误报警的抛光设备，其特征在于，该固 定件为螺丝。
专利摘要本实用新型涉及一种可避免漏水误报警的抛光设备。现有抛光设备中因罩体上的开口过大而使从清洗通道或剖光模块溅出的水触发漏水误报警。本实用新型的抛光设备包括相互连接且分别用于抛光晶圆的抛光模块和用于清洗抛光后晶圆的清洗模块，该清洗模块包括罩体、设置在该体底部用于侦测清洗模块是否漏水的漏水侦测单元、倾斜设置在罩体中且延伸至罩体外的清洗通道以及一设置在清洗通道底部用于将清洗通道的水引至抛光设备外的排水单元，其中，该罩体对应清洗通道还设置有面积大于清洗通道的开口，该罩体的开口处还覆设有一具有恰容许晶圆进入清洗通道的缺口的挡板。采用本实用新型可避免漏水误报警的产生。
文档编号B24B29/02GK201089110SQ20072007053
公开日2008年7月23日 申请日期2007年6月1日 优先权日2007年6月1日
发明者闫海勇 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司