专利名称：成膜材料供给装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种成模装置用的成膜材料供给装置，尤其涉及一种将AC型等离子 体显示面板的保护膜成模的成模装置的成膜材料供给装置。
背景技术：
等离子体显示面板(以下，称PDP)与液晶面板相比，由于能够快速的显示、视角 宽、容易大型化、通过自发光显示品质高等的理由而正在广泛地普及。AC型PDP中，将前面侧透明的一对基板以在基板间形成放电空间的方式对置配 置，并且在基板上配置用于将放电空间隔开成多个的隔壁，且为了在由隔壁隔开的放电空 间中产生放电而在基板上配置电极组。并且，设置由放电而发出红色、绿色、蓝色光的荧光 体层而构成多个放电单元。通过由放电产生的波长短的真空紫外光激发荧光体，从红色、绿 色、蓝色的放电单元分别发出红色、绿色、蓝色的可视光，由此进行彩色显示。在这样结构的PDP中，露出到基板的放电空间的一侧暴露于放电中，由于离子冲 击的溅射而表面状态发生变化。为了避免这样现象的产生，在基板的放电空间侧形成例如 由氧化镁(MgO)材料形成的保护膜。作为这样的保护膜的形成方法，通常采用通过将氧化 镁(MgO)粒子等成膜材料由电子束加热而使其蒸发的电子束蒸镀法进行成膜的方法。此时，作为成模装置的电子束蒸镀装置具有用于向在成膜室内设置的炉床供给成 膜材料的成膜材料供给装置，通过向炉床内的成膜材料上照射电子束使成膜材料蒸发，并 使该蒸镀粒子蒸镀到移动的基板上来进行成膜。作为向上述炉床的成膜材料的供给方法，在专利文献1中公开有使从送料器供给 到投料器上的成膜材料在投料器上滑落并向炉床投入的例子。在这样结构的成膜材料供给 装置中，投料器具有作为用于将成膜材料投入到炉床的规定位置的引导件的作用。为了使保护膜稳定成膜，重要的是需要稳定地进行向炉床的成膜材料的投入，使 成膜材料在投料器上稳定地滑落，由此将规定供给量稳定地供给到规定位置。但是，在现有的投料器中，产生了成膜材料在投料器上滞留而堵塞的所谓“桥”，从 而对成膜材料的滑落产生滞留而产生流动变坏的现象。其结果是，向炉床的成膜材料供给 变得不稳定，存在难以形成良好的保护膜这样的课题。专利文献1 日本特开2008-19473号公报
发明内容
本发明的成膜材料供给装置具有送料器、使从送料器供给的成膜材料滑落到炉床 的材料承接部上的投料器，其中，投料器具有成膜材料滑落的底面部和在底面部的两侧设 置的侧面部，底面部与侧面部由圆弧形状部连接。根据这样的结构，成膜材料在投料器上滑落时，能够使成膜材料沿圆弧形状部滑 动，其结果是，能够抑制成膜材料在投料器上产生“桥”而实现稳定的成膜材料的供给。
图1是示出AC型PDP的结构的立体图。图2是示出用于使用实施方式1的成膜材料供给装置来形成PDP用的保护膜的成膜装置的简要结构的剖面图。图3是示出现有的成膜材料供给装置的投料器的结构的立体图。图4是图3所示的4-4线的局部剖面图。图5是示出该成膜材料供给装置的从送料器向投料器的颗粒供给的详细情况的剖面图。图6是实施方式1的成膜材料供给装置的投料器的立体图。图7A是图6的7A-7A线剖面图。图7B是图6的7B-7B线剖面图。图8是示出实施方式1的投料器的侧面部的角度与桥产生概率的关系的图。图9是示出实施方式2的投料器的立体图。图IOA是图9的10A-10A线剖面图。图IOB是图9的10B-10B线剖面图。图11是示出实施方式3的成膜材料供给装置的投料器与炉床的结构的立体图。图12A是示出该投料器的结构的主视图。图12B是12A的12B-12B线的放大剖面图。图12C是示出图12A的I部的详细情况的放大剖面图。图13A是示出实施方式4的成膜材料供给装置的投料器的结构的主视图。图13B是13A的13B-13B线剖面图。图14是示出实施方式5的成膜材料供给装置的投料器与炉床的结构的立体图。图15A是该投料器的俯视图。图15B是该投料器的侧视图。图16是示出该投料器与炉床的位置关系的剖面图。图17是从该炉床的正面观察到的投料器的主视图。[符号说明]100 PDP ；102 前面板；103前面玻璃基板；104扫描电极；105维持电极；106显示电极；107黑条(遮光层)；108电介质层；109 保护膜；110 背面板；111背面玻璃基板；112寻址电极；
113基底电介质层；114 隔壁；Il5荧光体层；116放电空间；200成膜材料供给装置；201材料漏斗；202 排出口；203 送料器；203a驱动电动机；203b 驱动轴；203c 容器；204送料器排出口；205、215、225、235、245、255、500 投料器；205a、215a、235a、245a、255a、500a 上端部；205b、215b、235b、245b、255b、500b 下端部；215c、225c、235c、245c、255c、501 底面部；215d>225d>235d>236a,236b>245d>246a>246b>255d>256a>256b>502 侧面部；215e圆弧形状部；235e 平面部；237 突起部；237a R 形状部；237b 凸部；238 面积；247波纹型形状突起部；257 切 口部；258最外端部；300成膜装置；301 真空室；302成膜材料；302a 颗粒；303 炉床；303a材料承接部；303b 端部；304电子束源；305 电子束；306 排气泵；307 真空计；308 加热器；309 开闭板；
310蒸镀粒子；311膜厚监测器；
312 旋转轴。
具体实施例方式以下，使用附图对本发明的一个实施方式的成膜材料供给装置进行说明，但是本 发明的实施方式不局限于此。(实施方式1)首先，使用图1对适用本发明的成膜材料供给装置而制造的PDP的结构进行说明。 图1是示出AC型的PDP100的结构的立体图。如图1所示，PDP100中，将由前面玻璃基板 103等形成的前面板102和由背面玻璃基板111等形成的背面板110对置配置，并将其外周 部通过由玻璃料等形成的密封件进行气密密封。在密封的PDP100的内部的放电空间116 中以约66500Pa的压力封入氙(Xe)和氖(Ne)等放电气体。在前面板102的前面玻璃基板103上互相平行地分别配置有多列由扫描电极104 及维持电极105构成的一对带状的显示电极106和黑条(遮光层)107。在前面玻璃基板 103上以覆盖显示电极106与遮光层107的方式形成有电介质层108，该电介质层108保持 电荷而起着作为电容器的作用，并且在电介质层108上形成有保护膜109。另外，在背面板110的背面玻璃基板111上，在与前面板102的扫描电极104及维 持电极105正交的方向上互相平行地配置有多个带状的寻址电极112，基底电介质层113覆 盖寻址电极112。并且，在寻址电极112之间的基底电介质层113上形成有划分放电空间 116的规定高度的隔壁114。在隔壁114间的每个槽中都形成有通过紫外线分别发出红色、 绿色及蓝色光的荧光体层115。在扫描电极104及维持电极105与寻址电极112交差的位 置上形成有放电空间116，具有在显示电极106方向上排列的红色、绿色、蓝色的荧光体层 115的放电空间116成为用于彩色显示的像素。接下来，对用于形成保护膜109的成膜装置300进行说明。图2是示出用于使用 实施方式1的成膜材料供给装置200来形成PDP100用的保护膜109的成膜装置300的简 要结构的剖面图。成膜装置300为由电子束305加热成膜材料302，使其熔融而进行蒸镀的 电子束(EB)蒸镀装置。成膜装置300在作为真空槽的真空室301的内部配置有装满成膜材料302的炉床 303。在真空室301的侧壁上配置有电子束源304，使从电子束源304发出的电子束305照 射到炉床303上的成膜材料302上。电子束305的照射位置的控制通过控制基于配置在炉 床303的侧面的磁回路的电磁铁(未图示)而进行。成膜装置300还设置有用于对真空室 301进行真空排气的排气泵306和用于测量真空度的真空计307等。另外，在炉床303的大致上方，在PDP100的前面玻璃基板103上设置有显示电极 106、黑条(遮光层)107以及形成有电介质层108的前面板102，并且，在该前面板102的上 方配置有用于成膜时对前面板102进行加热的加热器308。并且，在前面板102与炉床303 之间设置有开闭板309，通过旋转开闭板309，防止在成膜以外的时序中蒸镀粒子310不小 心附着到前面板102上。此外，通过膜厚监测器311随时测量在前面板102上成膜的保护 膜109的膜厚。
可以使用氧化镁(MgO)的薄膜作为PDP100的保护膜109。在此，在本发明的实施 方式中，使用以氧化镁(MgO)为主要成分的材料作为成膜材料302。向收容在炉床303中的成膜材料302照射电子束305，使成膜材料302蒸发，使该 蒸镀粒子310蒸镀到前面板102的电介质层108上，由此形成保护膜109。另外，如图2所示，炉床303形成通过旋转轴312能够旋转的结构，在炉床303中， 使供给成膜材料302的位置与照射电子束305的位置不同。炉床303内的成膜材料302由于伴随成膜的加热、蒸发而消耗。因此，在成膜装置 300上连结有用于补给成膜材料302的成膜材料供给装置200。成膜材料供给装置200具 有材料漏斗201 ；配置在材料漏斗201的排出口 202的正下方的送料器203 ；与送料器203 的送料器排出口 204连结的投料器205。此外材料漏斗201、送料器203在真空排气的真空 槽室(未图示)中设置。真空槽室将吸附在作为成膜材料302的氧化镁(MgO)上的水分除 去，并且真空槽室成为最小限度地抑制供给成膜材料302时的真空室301内的真空度降低 的预备真空室。另外，在成膜材料供给装置200的材料漏斗201的排出口 202上设置有开闭阀(未 图示)，通过开闭阀的开闭对向送料器203的成膜材料302的投入进行控制。另外，如图2 所示，送料器203在其下部具有驱动电动机203a，驱动电动机203a的驱动轴203b与倾斜配 置的容器203c内的螺旋件(未图示)等连结。通过容器203c内的螺旋件的旋转，将从材 料漏斗201投入到送料器203的容器203c中的成膜材料302从容器203c的底部向上部输 送。其结果是，从倾斜的容器203c的上端面的送料器排出口 204向投料器205落下。向投料器205的成膜材料302的供给量、即向炉床303的成膜材料302的供给量 的控制可以通过对驱动电动机203a的转速等进行控制而进行。接下来，参照图2，对向炉床303供给成膜材料302的方法进行详细地说明。根据 连续运转的期间，在材料漏斗201中收纳有必要量的作为成膜材料302的氧化镁(MgO)的 颗粒。例如，在使成膜装置300进行规定期间连续运转时，将与该期间内在炉床303中消耗 的量相当的成膜材料302预先收纳于材料漏斗201中。材料漏斗201的下部形成漏斗状， 对设置在排出口 202上的开闭阀的开闭进行控制，从而控制向炉床303的供给，将容器203c 内的成膜材料302的量控制成始终大致一定。送料器203在容器203c的内周面具有轴心倾斜而进行旋转的带状的螺旋件，该螺 旋件通过驱动轴203b与驱动电动机203a连结。容器203c配置成其中心轴相对于水平面 以50度 60度的角度进行倾斜。将供给到送料器203的容器203c的成膜材料302通过螺旋件的旋转而向容器 203c的上方移送，从容器203c的变为最低的上端面的送料器排出口 204落下而向投料器 205的上端部205a进行规定量供给。投料器205以其上端部205a位于容器203c的上端面，下端部205b位于炉床303 上的方式整体从容器203c向炉床303倾斜配置。即，供给到投料器205的上端部205a上 的成膜材料302在投料器205上滑落并向炉床303供给。图3是示出现有的成膜材料供给装置的投料器500的结构的立体图。另外，图4 是图3所示的4-4线的局部剖面图。如图3所示，投料器500由薄板构件等构成，其包括 成为作为成膜材料302的颗粒302a沿箭头A方向滑落的面的底面部501 ；在底面部501的两侧设置的侧面部502，其中该侧面部502起着颗粒302a滑落时的引导板的作用。另外，构 成为由侧面部502形成的通路面积从投料器500的上端部500a向下端部500b缩小，从而 可靠地进行向炉床303的规定位置的成膜材料302的供给。另外，如图4所示，通过金属板 的弯曲加工等将侧面部502构成为相对于底面部501大致垂直地立起。如上所述，PDP100的保护膜109由以氧化镁(MgO)为主要成分的材料形成。因此，使用以氧化镁(MgO)为主要成分材料并进行材料调整而成的烧结体等的颗粒302a作为成 膜材料302。作为颗粒302a的形状，认为由于其制造方法或加工方法不同而存在各种形状， 认为有球形形状、圆筒形状、板状形状等。颗粒302a的形状为球状形状时，颗粒302a在投料器500上能够稳定地滑落。但 是，在颗粒302a上存在的平面为圆柱形状、圆板形状进而平板形状等时，在图3中的投料器 500的底面部501与颗粒302a的平面之间摩擦力起作用。因此，在投料器500与颗粒302a 之间产生阻力而变得难以滑落。在颗粒302a以氧化镁(MgO)为主要成分时，氧化镁(MgO)容易吸收水分。因此， 即使在收容有材料漏斗201等的真空槽室中进行水分除去等，由于附着在颗粒302a的表面 的水分也能增加滑落时的阻力。当由于这样的阻力而滑落速度降低时，由于滑落速度降低的颗粒302a限制来自 上游的颗粒302a的滑落，从而在投料器500上滞留。其结果是，如图3所示，在通路面积缩 小的投料器500的下端部500b侧，在两侧的侧面部502之间产生阻塞颗粒302a而排列的 所谓桥现象。其结果是，颗粒302a在投料器500的通路内被阻塞而滞留，变得在投料器500 上不滑落。即，这样的现象由于在投料器500上设置的起着引导板作用的两侧的侧面部502 限制颗粒302a而产生。尤其，这样的现象在设置于投料器500上的起着引导板作用的侧面部502构成为 相对于底面部501以90度以下的角度立起的情况下，即，在构成为通过两侧的侧面部502 向投料器500的内侧引导颗粒302a的情况下变得显著。当产生这样的现象时，产生向炉床303的成膜材料302的供给停止或桥突然被打 开而供给变得过多等不稳定的情况。在成膜装置300的连续运转中，当产生这样的故障时， 向前面玻璃基板103的电介质层108上的氧化镁(MgO)的保护膜109的形成变得不稳定。 另外，为了修复上述的桥现象，一旦成膜装置300的运转停止，需要完全除去在投料器500 上堆积的颗粒302a等，使成膜装置300的运转率降低。由于从送料器203的突然的材料供给过多也产生这样的桥现象。图5是示出成膜 材料供给装置200的从送料器203向投料器205的颗粒302a供给的详细情况的剖面图，示 意性示出从材料漏斗201向送料器203大量供给颗粒302a的情况。如图5所示，当颗粒302a从材料漏斗201大量地落下供给时，容器203c中的颗粒 302a不通过驱动电动机203a的旋转从容器203c的下部移送，而形成从容器203c的上面溢 出的状态。溢出的颗粒302a通过送料器排出口 204到达投料器205。在这样的情况下，大 量的颗粒302a在投料器205上滑落。因此，当由摩擦产生阻力时，由投料器205的下端部 205b上的通路面积决定的排出量不在追随于供给量，作为结果，容易产生桥现象。接下来，对实施方式1的成膜材料供给装置200进行说明。图6是实施方式1的 成膜材料供给装置200的投料器215的立体图。另外，图7A是图6的7A-7A线剖面图，表示投料器215的上端部215a。图7B是图6的6D-6D线剖面图，表示投料器215的下端部 215b。在实施方式1中，使用具有与图3的现有例的投料器500中使用的颗粒同样的平面的颗粒302a作为成膜材料302。如图6及图7A、图7B所示，实施方式1的成膜材料供给装置200的投料器205具 有成为使颗粒302a滑落的面的底面部215c和在底面部215c的两侧设置的侧面部215d，底 面部215c与侧面部215d由圆弧形状部215e连接。另外，底面部215c的宽度朝向作为颗 粒302a的滑落方向的箭头A而变小，整体构成水溜(樋)的形状。圆弧形状部215e的半径在上端部215a与下端部215b不同，以满足其连接性，可 以使上端部215a的半径Rl形成为比下端部215b的半径R2小。此外，在实施方式1中，尤 其从抑制下端部215b上的颗粒302a的桥现象的目的出发，下端部215b的圆弧形状部215e 的半径R2非常重要。确认了半径R2由其与颗粒302a的形状尺寸的关系决定，例如，当颗 粒302a为5mm方以上且20mm方以下、板厚为Imm以上且5mm以下时，优选半径R2为IOmm 以上。S卩，根据实施方式1，形成投料器215的底面部215c与侧面部215d由圆弧形状部 215e连接的结构。因此，如图7B所示，在投料器215的下端部215b即使颗粒302a在底面 部215c上沿宽度方向排列，由于存在圆弧形状部215e，颗粒302a的端部也受到沿该圆弧 向上方向E的力。因此，不会产生由侧面部215d和颗粒302a将颗粒302a向投料器215的 内侧按压的力。因此，能够抑制颗粒302a在投料器215上排列而阻塞的桥现象的产生。因 此，能够使颗粒302a在投料器215上连续稳定地滑落，能够实现稳定的保护膜109的成膜。尤其在颗粒302a为氧化镁(MgO)等吸湿性材料时，由于吸附的水分而颗粒302a 变得容易附着在投料器215的底面部215c上，但是通过基于实施方式1的投料器215，即使 在上述的情况下也能够抑制颗粒302a的桥现象。另外，如图6及图7A、图7B所示，优选侧面部215d以相对于底面部215c形成角度 θ超过90度的钝角的方式构成。根据这样的结构，即使颗粒302a在投料器215的底面部 215c上沿宽度方向排列，与侧面部215d抵接的颗粒302a的端部始终受到向上的力。其结 果是，不会产生由侧面部215d和颗粒302a将颗粒302a向投料器215的内侧按压的力，能 够进一步抑制颗粒302a在投料器215上排列而阻塞的桥现象的产生。图8是示出实施方式1的投料器215的侧面部215d的角度与桥产生概率的关系 的图。在图8中，实验性地求出相对于侧面部215d与底面部215c构成的角度θ而产生桥 现象的次数，并以角度θ为180度即没有侧面部215d的情况作为1而示出。此外，在该实 验中，在底面部215c与侧面部215d的连接部上有意不设置圆弧形状部215e，而使用连接部 的半径Rl为Imm以下的金属板加工进行实验。另外，该情况下的颗粒302a为5mmX 7mm、厚 度2mm的长方体的颗粒302a，颗粒302a的各边的棱部的半径R为0. 5mm。根据图8的结果，若角度θ在120度以上则能够抑制桥现象的产生，若形成超过 105度的钝角则能够降低桥产生概率。并且，图8的结果是在底面部215c与侧面部215d的 连接部上有意不设置圆弧形状部215e的结果，如上所述，当设置R2为IOmm的圆弧形状部 215e时，即使角度θ为90度也能够抑制桥现象的产生。此外，如图7Β所示，当成为成膜材料的颗粒302a为具有规定厚度的板状材料且其 厚度为Tl时，优选侧面部215d的从底面部215c起的高度Hl比Tl大。根据这样的结构，能够抑制沿着圆弧形状部215e或侧面部215d向在投料器215的上侧的颗粒302a超过侧面 部215d而向投料器215的外侧滑落。此时，颗粒302a的桥现象由相对于圆弧形状部215e 或底面部215c配置成具有钝角的角度θ的侧面部215d抑制，从而颗粒302a在投料器215
上稳定地滑落。此外，高度Hl由其与颗粒302a的形状尺寸的关系决定。例如，在颗粒302a为5mm 方以上且20mm方以下、板厚Tl为Imm以上且5mm以下时，若Hl在IOmm以上则优选。(实施方式2)图9是示出实施方式2的成膜材料供给装置200的投料器225的立体图。另外，图 IOA是图9的10A-10A线剖面图，示出投料器225的上端部。另外，图IOB是图9的10B-10B 线剖面图，示出投料器225的下端部。如图10A、图IOB所示，在实施方式2的投料器225上没有图6所示的投料器215 具有的底面部215c那样的平面部。即，在投料器225中，形成使底面部225c与侧面部225d 连续的圆弧形状，在投料器225上没有与颗粒302a的平面部进行面接触的面。通过形成这样的结构，能够抑制与颗粒302a的平面部进行面接触且能够抑制由 于面接触的摩擦妨碍颗粒302a滑落。尤其通过形成在投料器225的下端部即向炉床303的 供给端部附近的区域上没有平面部的结构，能够更加稳定地实现颗粒302a的供给。另外， 即使在形成这样的结构时，由于不产生将颗粒302a向投料器225的内侧按压的力，因此也 能够进一步抑制桥现象的产生。(实施方式3)接下来，对实施方式3的成膜材料供给装置200的投料器235进行详细地说明。图 11是示出实施方式3的成膜材料供给装置200的投料器235与炉床303的结构的立体图。 另夕卜，图12A是示出投料器235的结构的主视图。图12B是12A的12B-12B线的放大剖面 图，并且，图12C是示出图12A的I部的详细情况的放大剖面图。此外，对使用平板形状的 颗粒302a作为成膜材料302的情况进行说明。如图11所示，在整体构成旋转体的炉床303的上表面将具有规定深度的材料承接 部303a设置成同心圆形状，并构成为通过炉床303向箭头J方向旋转而材料承接部303a 也向箭头J方向旋转。如图11所示，将投料器235配置成，相对于炉床303的水平面，投料 器235从上端部235a向下端部235b倾斜，且投料器235的下端部235b向材料承接部303a开口。另一方面，投料器235如图12A所示那样构成。S卩，投料器235由薄板构件等构成， 其包括成为作为成膜材料302的颗粒302a滑落的面的底面部235c ；在底面部235c的两 侧设置的侧面部235d，其中该侧面部235d起着颗粒302a滑落时的引导板的作用。另外，由 侧面部236a与侧面部236b构成侧面部235d。颗粒302a在投料器235上沿箭头A方向滑 落，通过左右的侧面部236b使投料器235的通路面积缩小。此外，为了避免颗粒302a越过 侧面部235d而向投料器235外脱落，优选将侧面部235d的从底面部235c起的高度形成为 作为成膜材料302的颗粒302a的最大长度以上。如图11及图12A、图12B所示，在实施方式3的成膜材料供给装置200的投料器 235的底面部235c上设置有突起部237，该突起部237在颗粒302a在底面部235c上滑落 时将颗粒302a从底面部235c上抬起。
如图12A所示，在实施方式3中，在投料器235的底面部235c的规定位置上设置 有多个突起部237。如图12A、B、C所示，突起部237相对于底面部235c的平面部235e立 起设置，且由R形状部237a和凸部237b构成，R形状部237a具有规定的R形状而与平面 部235e连接。S卩，在突起部237上设置的R形状部237a是将在平面部235e上滑动并滑落的颗粒302a从底面部235c的平面部235e上抬起的构件。最初，颗粒302a的桥现象是由于相 互相邻的颗粒302a的彼此的端部在与底面部235c平行的面方向上互相限制，且上述整体 由投料器235的侧面部235d限制而产生的。但是，通过实施方式3的突起部237能够抑制上述的限制。即，在平面部235e上 滑动并滑落的颗粒302a中的与突起部237碰撞的颗粒302a通过在突起部237上设置的R 形状部237a将颗粒302a的端部朝向上方向抬起。其结果是，如图12B所示，相互相邻的颗 粒302a在同一面方向上不会被限制。因此，即使被侧面部235d限制，在底面部235c的宽 度方向即图12A的12B-12B线方向上颗粒302a也不会被限制成排列。此外，R形状部237a的半径R的尺寸由其与作为成膜材料302的颗粒302a的形 状的关系决定，尤其在颗粒302a为平板形状时，由颗粒302a端部的边缘形状决定。S卩，在 边缘形状为直角时，优选更大曲率的R形状，但是在颗粒302a的边缘性状为R形状时，曲率 也可以小。即，只要是由于滑落与突起部237碰撞的颗粒302a由R形状部237a沿突起部 237向上方改变方向并将颗粒302a抬起的形状就可以。在颗粒302a使用平板形状时，只要 是作为平板的最小长度的厚度Tl以上的角部的半径R就可以。另外，优选突起部237的从 平面部235e起的高度T2至少为颗粒302a的厚度Tl以上。另外，如图12A所示，在底面部235c的与作为颗粒302a滑落的方向的箭头A正交 且具有颗粒302a的最大长度的面积238中至少设置有一个突起部237。在实施方式3中， 将颗粒302a形成平面为大致正方形的平板，此时的最大长度为正方形的对角线。根据这样 的结构，在与颗粒302a滑落的方向垂直的方向的12B-12B方向上将至少一个颗粒302a从 底面部235c上抬起，因此不会由两侧的侧面部235d限制而排列。另外，可以在颗粒302a的滑落方向的全长上设置突起部237，但是，也可以仅在投 料器235的下端部235b的附近设置突起部237。此外，作为突起部237的形状不必限定为上述的形状，例如也可以是在滑落方向 上具有锥形部的结构。若形成这样的结构，颗粒302a在底面部235c上滑落时，颗粒302a 向该锥形部上行，从而能够将颗粒302a从底面部235c上抬起。(实施方式4)图13A是示出实施方式4的成膜材料供给装置200的投料器245的结构的主视图， 图13B是是13A的13B-13B线剖面图。如图13A所示，实施方式4的投料器245的基本结构与图12A所示的实施方式3 的投料器235同样。S卩，投料器245由薄板构件等构成，其包括成为作为成膜材料302的 颗粒302a滑落的面的底面部245c ；在底面部245c的两侧设置的侧面部245d，其中该侧面 部245d起着颗粒302a滑落时的引导板的作用。另外，由侧面部246a与侧面部246b构成 侧面部245d。颗粒302a在投料器245上沿箭头A方向滑落，通过左右的侧面部246b使通 路面积缩小。
实施方式4的投料器245中，底面部245c的结构与实施方式3不同。即，如图13A、 B所示，在投料器245的底面部245c上，在与颗粒302a滑落的方向正交的方向上设置有波 纹型形状突起部247。波纹型形状突起部247构成为具有规定的间隔P和规定的振幅H，在实施方式4中 对薄板构件进行弯曲加工而形成。另外，该波纹型形状突起部247从投料器245的上端部 245a向下端部245b形成连续的条纹状。通过设置波纹型形状突起部247，能够抑制在投料器245上滑落的颗粒302a的桥 现象。即，与实施方式3所述同样，颗粒302a的桥现象是由于相互相邻的颗粒302a的彼此 的端部在与底面部245c平行的面方向上互相限制，且上述整体由投料器245的侧面部245d 限制而产生的。但是，通过实施方式4的波纹型形状突起部247能够抑制上述的限制。即，如图 13A、B所示，在平面部245c上滑动并滑落的颗粒302a沿着波纹型形状突起部247的面滑 落，相互相邻的颗粒302a的彼此的端部在同一面方向上不会被限制。因此，即使被侧面部245d限制，在底面部235c的宽度方向即图13A的13B-13B线方向上，颗粒302a也不会被限 制成排列。此外，波纹型形状突起部24的间隔P与振幅H由其与作为成膜材料302的颗粒 302a的形状的关系决定。各具体地说，在颗粒302a为平板形状时，优选间隔P在作为颗粒 302a的最大尺寸的平面的对角线尺寸W以上，优选振幅H在作为最小尺寸的颗粒302a的厚 度Tl以上。此外，在图13A中，可以在投料器245的颗粒302a的滑落方向的全长上设置波纹 型形状突起部247，但是也可以仅在容易产生桥现象的投料器245的下端部245b的附近设 置波纹型形状突起部247。(实施方式5)接下来，对实施方式5的成膜材料供给装置200的投料器255进行详细地说明。 图14是示出实施方式5的成膜材料供给装置200的投料器255与炉床303的结构的立体 图。另外，图15A是该投料器255的俯视图，图15B是其侧视图。另外，图16是示出该投料 器255与炉床303的位置关系的剖面图，图17是从该炉床303的正面观察到的投料器255 的主视图。此外，在图14至图17中，作为成膜材料302使用平板形状的颗粒302a而进行 说明。如图14所示，在整体构成旋转体的炉床303的上表面将具有规定深度的材料承接 部303a设置成同心圆形状，并构成为通过炉床303向箭头J方向旋转而材料承接部303a也 向箭头J方向旋转。如图14及16所示，将投料器255配置成，相对于炉床303的水平面， 投料器255从上端部255a向下端部255b倾斜，且投料器255的下端部255b向材料承接部 303a开口。此外，在图14中，虽然只在材料承接部303a的一部分上图示出颗粒302a，但是 颗粒302a填充于材料承接部303a的全部区域。另一方面，投料器255如图15A、B所示那样构成。S卩，投料器255由薄板构件等构 成，其包括成为作为成膜材料302的颗粒302a沿箭头A方向滑落的面的底面部255c;在底 面部255c的两端部设置的侧面部255d，其中该侧面部255d起着颗粒302a滑落时的引导板 的作用。另外，由侧面部256a与侧面部256b构成侧面部255d，使由左右的侧面部256b形成的通路面积朝向下端部255b缩小，从而颗粒302a滑落到材料承接部303a的规定位置。另外，在下端部255b的左右侧面部256b的至少一方上设置有切去侧面部256b的切口部257。如图15B所示，优选将切口部257设置成，在从侧面观察投料器255时露出底 面部255c。此外，为了避免颗粒302a越过侧面部255d而向投料器255外脱落，优选将侧面部 255d的从底面部255c起算的高度形成为颗粒302a的最大长度以上。还优选切口部257的 宽度W至少为颗粒302a的最大长度以上。另外，如图16所示，将投料器255的下端部255b配置成使颗粒302a滑落到在炉 床303上设置的材料承接部303a上，将切口部257也配置成向材料承接部303a的区域内开口。如以上所述，实施方式5的成膜材料供给装置200的投料器255构成为，在投料器 255的下端部255b，在侧面部256b的至少一方上设置有切口部257。因此，在下端部255b 不会由两侧的侧面部256b限制颗粒302a。S卩，能够将颗粒302a从切口部257向投料器255 的外侧排出。因此，在投料器255的底面部255c上不会产生桥现象。其结果是，能够使颗 粒302a在投料器255上稳定地滑落而向炉床303稳定地供给，从而能够将保护膜109稳定 地成膜。另外，如图16所示，在实施方式5中，将切口部257向设置在炉床303上的材料承 接部303a开口。S卩，使切口部257的最外端部258位于比材料承接部303a的端部303b更 靠内侧。因此，能够使从投料器255排出的颗粒302a可靠地滑落到材料承接部303a上，从 而不会降低颗粒302a的使用效率。此外，为了使从投料器255的下端部255b和切口部257落下的颗粒302a可靠地 落下到材料承接部303a上，在图14中，优选投料器255的长边方向的中心以相对于材料承 接部303a不正交而相对于材料承接部303a倾斜的方式配置。此外，如图14所示，在实施方式5的成膜材料供给装置200的投料器255中，将在 投料器255上设置的切口部257仅在两侧的侧面部256b中的材料承接部303a的旋转方向 的下游侧设置。根据这样的结构，为了避免桥现象，可以使从切口部257溢出而被排出的颗 粒302a滑落到投料器255的下游侧的材料承接部303a上。因此，不会发生由于从切口部 257溢出的颗粒302a阻塞投料器255与材料承接部303a的间隙而妨碍炉床303的旋转的 现象等。图17是从炉床303的正面观察到的投料器255的主视图。如图17所示，在实施 方式5的成膜材料供给装置200的投料器255中，使其底面部255c、尤其下端部255b的底 面部255c相对于炉床303的面进行倾斜。在图17中，在下端部255b，以设置有切口部257 侧的侧面部256b处的炉床303与投料器255之间的距离Hl比相反侧的距离H2大的方式 进行倾斜。根据这样的结构，通常颗粒302a都能够正确地滑落到炉床303的材料承接部 303a的规定位置。另一方面，在大量地从送料器203供给颗粒302a的情况下等，在形成容 易产生桥现象的状态时，能够可靠地使颗粒302a从切口部257溢出而抑制桥现象的发生。此外，图17中示出以设置有切口部257侧的侧面部256b形成得高的方式进行倾 斜的例子，但是，相反也可以使设置有切口部257侧的侧面部256b形成得低，从而通常也能 够使颗粒302a从切口部257滑落到材料承接部303a上。
此外，在以上的说明中，对仅在侧面部256b中的一侧设置切口部257的情况进行 了说明，但是也可以在两侧设置。此外，在以上的说明中，对各个实施方式进行了独立地叙述，但是也可以将上述实 施方式的结构组合。另外，在以上的说明中，作为成膜材料以氧化镁(MgO)为对象，但是作为材料不局 限于氧化镁(MgO)。另外，不局限于PDP的保护膜材料的供给。工业实用性根据本发明的成膜材料供给装置，能够稳定地进行向成膜装置的成膜材料供给，可以进行成膜装置的稳定的连续运转，并能够广泛地适用于薄膜成膜装置等。
权利要求
一种成膜材料供给装置，具有送料器、使从所述送料器供给的成膜材料滑落到炉床的材料承接部上的投料器，所述成膜材料供给装置的特征在于，所述投料器具有所述成膜材料滑落的底面部和在所述底面部的两侧设置的侧面部，所述底面部与所述侧面部由圆弧形状部连接。
2.如权利要求1所述的成膜材料供给装置，其特征在于， 以相对于所述底面部形成钝角的方式立起所述侧面部。
3.如权利要求1所述的成膜材料供给装置，其特征在于， 采用使所述底面部与所述侧面部连续的圆弧形状部。
4.如权利要求1或2所述的成膜材料供给装置，其特征在于，在所述底面部至少设有一个突起部，该突起部被设置在所述底面部的与所述成膜材料 滑落的方向正交的方向上且所述成膜材料的最大长度中。
5.如权利要求4所述的成膜材料供给装置，其特征在于，所述突起部为在与所述成膜材料的滑落方向正交的方向上设置的波纹型形状突起部。
6.如权利要求1所述的成膜材料供给装置，其特征在于，在所述成膜材料滑落的方向的下游侧的至少一所述侧面部设有切口部。
7.如权利要求6所述的成膜材料供给装置，其特征在于，由同心圆形状的旋转体构成所述材料承接部，并且使所述切口部位于所述材料承接部 旋转方向的下游部。
8.如权利要求1所述的成膜材料供给装置，其特征在于，所述成膜材料为以氧化镁为主成分的具有规定厚度的板状材料。
全文摘要
本发明提供一种成膜材料供给装置，其具有送料器、使从送料器供给的成膜材料滑落到炉床的材料承接部上的投料器(215)，投料器(215)具有成膜材料滑落的底面部(215c)和在底面部(215c)的两侧设置的侧面部(215d)，底面部(215c)与侧面部(215d)由圆弧形状部(215e)连接，能够抑制成膜材料在投料器(215)上产生“桥”而实现稳定的成膜材料的供给。
文档编号C23C14/24GK101802252SQ20098010045
公开日2010年8月11日 申请日期2009年10月26日 优先权日2008年10月27日
发明者今中诚二, 大江良尚, 沟上要 申请人:松下电器产业株式会社