专利名称：溅镀装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种溅镀技术，尤其涉及一种溅镀装置。
背景技术：
溅镀是一种物理气相沉积技术，溅镀原理是在真空环境下，利用辉光放电或离子束产生的高能等离子体撞击耙材，以动量转移方式将耙材内的原子从耙材上轰击出来而沉积在基板上形成薄膜。由于溅镀可以达成较佳的沉积效率、精确的成份控制，以及较低的制造成本，因此已广泛应用于工业中各种金属和非金属膜层的制作。在进行反应性溅镀时，要向溅镀腔体内通入多种反应性气体，一般地，先将该多种反应气体通入一个腔体内进行混合，然后再通过一个气体管道将混合后的反应气体通入溅镀腔体内，同时也需要不断地从该溅镀腔体中抽气出来。而由于抽气口设置的位置或抽气速度过快等各种不同的因素容易导致反应不完全情况发生，从而影响镀膜品质。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种能够在反应性溅镀过程中使反应气体完全反应的溅镀
直ο一种溅镀装置，其包括一个溅镀腔体、一个设置于该溅镀腔体内的固定架、多个设置于该固定架上且用于悬挂待镀工件的料杆及一个位于该溅镀腔体内的进气装置。该进气装置包括一个进气管及与该多个料杆对应设置的多个导气管。每个导气管包括一个与该进气管连通的进气端及一个与该进气端相对的封闭端。每个导气管在该进气端和该封闭端之间设有多个气孔。与现有技术相比，上述溅镀装置，通过进气装置的导气管将反应性气体通入到料杆附近，使溅镀腔体内未完全反应的气体与从该导气管通入的气体反应完全，避免了由各种因素导致的反应不完全情况的发生，使得反应气体能够完全反应，从而保证镀膜品质。
图1为本发明实施例提供的溅镀装置的立体分解图。图2为图1中的进气装置的结构示意图。图3为图1中的溅镀装置的部分组装示意图。图4为图1中的溅镀装置的立体组装图。主要元件符号说明溅镀装置 10溅镀腔体11进气口111出气口112料杆12
悬挂架121
固定架13
上承载盘131
下承载盘132
支撑杆133
进气装置14
固持架141
通气管141a
支撑部141b
导气管141c
进气端141d
封闭端141e
气孔141f
侧壁141g
进气管142
分流管14具体实施例方式为了对本发明的溅镀装置做进一步的说明，举以下实施方式并配合附图进行详细说明。请参阅图1及图4，为本发明提供的一种溅镀装置10包括一个溅镀腔体11、四个料杆12、一个固定架13及一个进气装置14。该溅镀腔体11为空心圆柱体，其用来对待镀工件(图未示)进行溅镀。该溅镀腔体11上设有一个用来通入反应气体的进气口 111和一个用来抽气的出气口 112。该料杆12为柱状杆体，在该料杆12上间隔设有用于悬挂该待镀工件的悬挂架 121。其中，该料杆12的数量可以根据具体情况而定。该固定架13包括相对设置的一个环状上承载盘131及一个环状下承载盘132，在该上承载盘131及该下承载盘132之间还设置有四个支撑杆133以对其进行支撑固定，该多个料杆12间隔且可转动地设置于该上承载盘131和该下承载盘132之间。该料杆12设置于该上承载盘131和该下承载盘132之间的结构可以任意，只要保证该料杆12可以相对于该上承载盘131和该下承载盘132转动即可。请结合图2及图3，该进气装置14包括一个固持架141、一个进气管142及四个分流管143。该固持架141设置于该固定架13内侧，该固持架141包括相对设置的一个环状通气管141a、一个环状支撑部141b及四个导气管141c。该进气管142为中空管状，其截面形状不限。该进气管142通过该四个分流管143 与通气管141a连通。该导气管141c也为中空圆管状，设置于该通气管141a与该支撑部141b之间且与该料杆12对应。该导气管141c包括一个与该分流管143对应连通的进气端141d及一个与该进气端141d相对的封闭端141e。该封闭端141e固设于该支撑部141b。该导气管141c 在该进气端141d和该封闭端141e之间设有多个气孔141f。优选地，该多个气孔141f沿该导气管141c中心轴等间隔设置于该进气端141d和该封闭端141e之间。更加优选地，该多个气孔141f的孔径从该进气端141d至该封闭端141e依次增大。如此，可以使从该进气端 141d附近的气孔141f溢出的气体量与从该封闭端141e附近的气孔141f溢出的气体量相差不多。其中，该多个气孔141f沿该导气管141c的轴向排成一列且面向该料杆12设置于该导气管141c的侧壁141g。如此，有利于该溅镀腔体11内的气体反应完全后再溅镀到该待镀工件上。在其他实施方式中，该多个气孔141f数量及排列方式可根据实际情况而定。在其他实施方式中，该导气管141c也可以为锥形管。对应地，该多个气孔141f位于该导气管141c的同一母线上，且沿该母线等间距。在其他实施方式中，该固持架141也可以设置于固定架13的其他位置，只要保证使该导气管141c与该料杆12对应即可。如此，可以使未完全反应的气体与从该导气管141c 通入的气体反应完全。在其他实施方式中，该进气装置14也可以不包括该通气管141a及该支撑部141b， 而是在该上承载盘131上开设有多个通孔(图未示)，该导气管141c穿过该多个通孔使该导气管141c的封闭端141e与该下承载盘132抵持。在溅镀过程中，驱动该固定架13使其进行公转，并同时驱动该料杆12使该其带动被镀工件进行自转。同时，从该进气管142通入反应气体，使其从该多个气孔141f溢出，与该溅镀腔体11内的气体进行反应。优选地，在固定架13进行公转的过程中，该进气装置14 也同时进行公转，使设置于该固定架13上的料杆12与该进气装置14上的导气管141c始终保持对应。如此，可以更有利于使反应气体完全反应。上述溅镀装置，通过进气装置的导气管将反应性气体通入到料杆附近，使溅镀腔体内未完全反应的气体与从该导气管通入的气体反应完全，避免了由各种因素导致的反应不完全情况的发生，使得反应气体能够完全反应，从而保证镀膜品质。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种溅镀装置，其包括一个溅镀腔体、一个设置于该溅镀腔体内的固定架及多个设置于该固定架上且用于悬挂待镀工件的料杆，其特征在于该溅镀装置还包括一个位于该溅镀腔体内的进气装置，该进气装置包括一个进气管及与该多个料杆对应设置的多个导气管，每个导气管包括一个与该进气管连通的进气端及一个与该进气端相对的封闭端，每个导气管在该进气端和该封闭端之间设有多个气孔。
2.如权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于该多个气孔的孔径从该进气端至该封闭端依次增大。
3.如权利要求2所述的溅镀装置，其特征在于该多个气孔沿该导气管中心轴等间隔设置于该进气端和该封闭端之间。
4.如权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于该导气管为锥形管，该多个气孔的孔径相同且等间距设置。
5.如权利要求4所述的溅镀装置，其特征在于该多个气孔位于该导气管的同一母线上，且沿该母线等间距。
6.如权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于该多个气孔设于该导气管与该料杆对应的一侧。
7.如权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于该多个气孔沿该导气管的轴向呈至少一列设置于该导气管的侧壁。
8.如权利要求1所述的溅镀装置，其特征在于该固定架包括相对设置的一个环状上承载盘及一个环状下承载盘，在该上承载盘及该下承载盘之间还设置有若干支撑杆以支撑固定该上承载盘及该下承载盘，该多个料杆间隔且可转动地设置于该上承载盘和该下承载盘之间。
9.如权利要求8所述的溅镀装置，其特征在于该进气装置还包括一个进气管和一个设置于该固定架内侧的固持架，该固持架包括一个环状通气管、一个与该通气管相对设置的环状支撑部及多个设置于该通气管与该支撑部之间且与该料杆对应的导气管，该导气管的进气端通过该通气管与该进气管连通，该导气管的封闭端固设于该支撑部。
10.如权利要求8所述的溅镀装置，其特征在于该上承载盘上开设有多个通孔，该导气管穿过该多个通孔使该导气管的封闭端与该下承载盘抵持。
全文摘要
本发明涉及一种溅镀装置，其包括一个溅镀腔体、一个设置于该溅镀腔体内的固定架、多个设置于该固定架上且用于悬挂待镀工件的料杆及一个位于该溅镀腔体内的进气装置。该进气装置包括一个进气管及与该多个料杆对应设置的多个导气管。每个导气管包括一个与该进气管连通的进气端及一个与该进气端相对的封闭端。每个导气管在该进气端和该封闭端之间设有多个气孔。通过进气装置使溅镀腔体内未完全反应的气体与从该导气管通入的气体完全反应，从而保证镀膜品质。
文档编号C23C14/34GK102242344SQ20101016938
公开日2011年11月16日 申请日期2010年5月13日 优先权日2010年5月13日
发明者王仲培 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司