专利名称：一种外抛光工艺中用的工件定位设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及抛光设备技术领域，一种外抛光工艺中用的工件定位设备。
技术背景在抛光工艺中，一工件通常需要经过多道抛光工序方可完成，每道抛光工序需要 一个对应的工位，在传统的抛光过程中，由于抛光设备的自动化程度较低，需要不断对工件 进行工位的转移等，造成抛光作业的操作繁琐、抛光效率低。此外，传统的外抛光工艺中，对 于一些形状特殊的工件，例如带有壶嘴的金属壶等外表具有突出部位的工件，由于工件的 旋转方向是单一的，当完成一次抛光后，需控制外部抛光设备暂停抛光，待工件旋转至突出 部位不会干涉抛光时，再控制抛光机开始抛光，因此也造成抛光效率低、且抛光效果不好。实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术的上述不足之处，提供一种外抛光工艺中用 的工件定位设备，解决现有外抛光工艺中操作复杂、效率低的问题。本实用新型实现其目的采用的技术方案是一种外抛光工艺中用的工件定位设 备，其具有一机座，于所述机座上设有一可旋转平台，于机座内设有间歇性驱动所述可旋转 平台的驱动机构；于所述可旋转平台上均布若干个工件定位单元，所述每个工件定位单元 包括一伺服电机、一由所述伺服电机驱动的下转盘、一安装于所述可旋转平台上方的支架、 一安装在所述支架上的气缸以及由所述气缸纵向驱动的活动上压板。所述驱动机构包括驱动电机以及与可旋转平台连接并实现间歇性传动的分度器。于所述可旋转平台的中心转轴上设有可实现在旋转中持续供电的旋转式电刷。所述工件定位单元的伺服电机安装于所述可旋转平台的下方，其输出端穿过所述 可旋转平台与所述下转盘连接。所述工件定位单元的伺服电机与气缸呈同轴安装。所述支架呈“ Γ ”型。本实用新型采用上述结构后，整体呈圆形设计，整体结构紧凑，能有效节约占用空 间；一台设备上设置多个工件定位单元，相当于设置了多个抛光工位，可同时对多个工件分 别进行不同的抛光工序，例如粗抛光、细抛光等，因此在外部抛光机位置不变的情况下，通 过精密控制可旋转平台旋转，将工件陆续转至不同的工位进行抛光，从而旋转一周即可完 成工件的所有抛光程序。而且，本实用新型采用伺服电机驱动工件旋转，可以很方便地控制 工件正、反转，对于有突出部位的工件而言，当突出部位干涉抛光时，伺服电机控制工件反 转，自动反向抛光，无需对抛光机有任何操作，因此快速地在同一工位反复抛光，节省时间， 提高效率。
图1是本实用新型的结构示意图；3[0012]图2是本实用新型内部驱动机构的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本实用新型进一步说明。如图1所示，本实用新型所述的工件定位设备是用于对工件进行外抛光。工件6 定位在该定位设备上，通过该定位设备将工件6依次输送至位于该定位设备外围的抛光机 的抛光范围，进行抛光。具体而言，该工件定位设备其具有一机座1，机座1整体呈圆形，于所述机座1上设 有一圆形的可旋转平台2，于机座1内设有间歇性驱动所述可旋转平台2的驱动机构3 ；所 述驱动机构3包括驱动电机31以及与可旋转平台2连接并实现间歇性传动的分度器32，即 可旋转平台2通过驱动机构3的分度器32实现间歇性运动，使其上的工件4从一个工位精 确地被运送至下一工位。于所述的圆形可旋转平台2上均布九个工件定位单元4，所述每个工件定位单元4 包括一由伺服电机41、一由所述伺服电机41驱动的下转盘42、一安装于所述可旋转平台2 上方的支架43、一安装在所述支架43上的气缸44以及由所述气缸44纵向驱动的活动上压 板45，活动上压板45枢接在气缸44的输出端，可旋转活动；通过气缸44向下驱动活动上 压板45从而将工件6固定在活动上压板45与下转盘42之间，再通过伺服电机41驱动下 转盘42转动，从而带动工件6转动。伺服电机41可驱动工件6按预设角度正、反转，因此 本实用新型特别适合对外部有突出部位的工件进行抛光，当工件的突出部位快要干涉抛光 时，可控制伺服电机41使工件6反转，从而保持工件持续抛光。于所述可旋转平台2的中心转轴上设有可实现在旋转中持续供电的旋转式电刷 5，其作用是实现利用一个供电电源同时给若干个伺服电机41供电。由于伺服电机41是随 可旋转平台2旋转的，要么每个伺服电机分别配备电源供电，这样成本很高，也不便于设备 的设计；若采用一个电源供电，则必须通过旋转式电刷5来解决电线缠绕的问题。其中，所述工件定位单元4的伺服电机41安装于所述可旋转平台2的下方，即伺 服电机41置于机座1内部隐蔽，使整体设备结构更紧凑，外观更整洁；其输出端穿过所述可 旋转平台2与所述下转盘42连接。所述工件定位单元4的伺服电机41与气缸44呈同轴安 装，能保持下转盘42与活动上压板45对工件6施加同一直线上的力，使工件6紧紧固定在 二者之间，避免出现施力方向不同而出现偏移等现象，确保抛光均勻到位；所述支架43呈 “ Γ ”型，结构简单。本实用新型在使用时，工件定位设备上的九个工位中，其中一个为装卸工位，用于装 上未抛光工件和卸下已抛光工件，在装卸工位时，伺服电机41为停止状态，即可将工件6安装 在该定位单元上，再由可旋转平台2转动将工件运送至抛光工位，利用分布在该定位设备周围 的八个抛光机同时对对应工件进行逐个工序的抛光，每个工件定位单元4的气缸44均可独立 控制，当工件6完成八个工序抛光后，再次返回至装卸工位，伺服电机41停止旋转、气缸44松 开，即可取下工件6，再安装新的要抛光的工件，从而形成流水线作业，大大提高抛光效率。当然，以上只是本实用新型的较佳实施例，在实际应用中，可旋转平台2上设置的 工件定位单元4的数目是可以根据需要设计的，例如四个、六个、十个等等，其结构原理与 本实用新型是一致的，因此也在本实用新型的保护范围之列。
权利要求1.一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其具有一机座(1)，其特征在于于所述机座 (1)上设有一可旋转平台0)，于机座(1)内设有间歇性驱动所述可旋转平台( 的驱动 机构(3)；于所述可旋转平台( 上均布若干个工件定位单元G)，所述每个工件定位单元 ⑷包括一伺服电机G1)、一由所述伺服电机Gl)驱动的下转盘(42)、一安装于所述可旋 转平台⑵上方的支架(43)、一安装在所述支架03)上的气缸04)以及由所述气缸G4) 纵向驱动的活动上压板G5)。
2.根据权利要求1所述的一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其特征在于所述驱 动机构(3)包括驱动电机(31)以及与可旋转平台(2)连接并实现间歇性传动的分度器 (32)。
3.根据权利要求1所述的一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其特征在于于所述 可旋转平台O)的中心转轴上设有可实现在旋转中持续供电的旋转式电刷(5)。
4.根据权利要求1所述的一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其特征在于所述工 件定位单元(4)的伺服电机Gl)安装于所述可旋转平台(2)的下方，其输出端穿过所述可 旋转平台( 与所述下转盘0 连接。
5.根据权利要求1或4所述的一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其特征在于所 述工件定位单元的伺服电机Gl)与气缸G4)呈同轴安装。
6.根据权利要求1所述的一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其特征在于所述支 架(43)呈“Γ，，型。
专利摘要本实用新型涉及抛光设备技术领域，一种外抛光工艺中用的工件定位设备，其具有一机座，于所述机座上设有一可旋转平台，于机座内设有驱动所述可旋转平台的驱动机构；于所述可旋转平台上均布若干个工件定位单元，所述每个工件定位单元包括一由伺服电机、一由所述伺服电机驱动的下转盘、一安装于所述可旋转平台上方的支架、一安装在所述支架上的气缸以及由所述气缸纵向驱动的活动上压板。本实用新型采用伺服电机驱动工件旋转，可以很方便地控制工件正、反转，对于有突出部位的工件而言，当突出部位干涉抛光时，伺服电机控制工件反转，自动反向抛光，无需对抛光机有任何操作，因此快速地在同一工位反复抛光，节省时间，提高效率。
文档编号B24B29/00GK201833263SQ20102057007
公开日2011年5月18日 申请日期2010年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者雷炳全 申请人:雷炳全