专利名称：一种玻璃盖板镀膜的方法
技术领域：
本发明涉及一种镀膜的方法，特别涉及一种玻璃盖板镀膜的方法。
背景技术：
有机电致发光显示器OLED是新兴的一种平板显示器，因它有主动发光，对比度高，能薄型化，响应速度快等诸多优点，被公认为替代LCD的第三代显示器，其发光原理是在两个电极之间积木式蒸镀若干层有机材料，并在两电极之间通上直流电使其发光。在有机电致发光显示器中，有机发光材料遇水和遇氧容易失效，因而其前面的玻璃基板必须加盖板进行封装，以便隔绝水汽和氧气，延长显示器的使用寿命，而在封装的过程中，尽管是在高纯N2环境下进行，难免有少量的水汽和氧气存在，同时为了防止器件使用过程产生的水、氧对器件寿命的影响，需要在封装之前在盖板上制作干燥剂。对于无源矩阵0LED，都是底发光，就是说光线从导电膜或称为ITO膜层面发出，而不是盖板面发出，一般采用在盖板上刻槽，在刻槽内贴上干燥带的方式，是原始、简单的方法。相对来讲，有源矩阵OLED就要复杂得多，有源矩阵OLED是采用TFT(薄膜场效应晶体管)为驱动单元，而TFT是不透光的，如果做底发光，出光率就很低，因此多是制作顶发光，光线要从盖板面发出，因此盖板面就不能阻挡光线的通过。有源矩阵OLED针对干燥剂的制作通常有三种做法第一种，涂覆液体干燥剂。这种方法是在盖板上涂覆一层液体的干燥剂，然后进行固化处理，这种干燥剂通常是吸水率高的有机材料，其优点是制程相对简单，但有致命性缺点，就是随着器件的使用，有机材料色泽加重，透光率降低，影响期间的性能。第二种，圈涂干燥剂法。这种方法是在盖板上图一圈液体干燥剂，然后进行固化处理，同样液体干燥剂通常是吸水率高的有机材料。这种方法避免了有机材料随着光线照射产生的变色使透光率下降的问题，但更大的问题是这种方法在保证发光面积不变的情况下，扩大了盖板的体积，同时也是TFT基板的体积增大，也就是说器件的整体面积增加，降低了切割率，大大增加了成本。第三种，不使用干燥剂。为了克服以上两种方法的缺点，有了第三种方法，它不使用干燥剂，要求光敏胶(UV胶)涂覆厚度加宽。这种方法，简化了制程，达到了克服上述两种方法缺点的目的。但它只是起到隔绝外部水氧的问题，不能吸收内部水氧，事实上，不能保证器件的正常使用，实验制品尚可，实用性不是很强。鉴于以上三种方法的致命缺点存在，行业在寻找和研发更好更完善的方法。
发明内容
为了克服上述现有技术的缺点，本发明的目的是提供一种玻璃盖板镀膜的方法， 在密闭环境下对玻璃盖板镀膜，能满足封装精度要求，具有成本低，使用寿命长的特点。为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案是这样的
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一种玻璃盖板镀膜的方法，采用蒸镀设备对玻璃盖板进行镀膜，该蒸镀设备包括蒸发源8，蒸发源8内配置有蒸发源槽和放置掩模板3的台架，其方法包括如下步骤1)用有机溶剂清洗蒸镀源1，清洗晾干后，在热风炉内200士5°C温度下干燥 110-130分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源1中填充纯度为99. 0 99. 9999%的碱金属，并将填充碱金属后的蒸镀源1置入蒸发源8中的蒸发源槽中，关闭蒸发源8的腔门；所述的有机溶剂为丙酮或异丙；所述的碱金属为钙或钾；2)盖板清洗机对玻璃盖板4进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角，并将玻璃盖板4放入蒸镀腔2中的盖板台架上；3)将掩模板3放置在蒸镀腔2内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板4和掩模板 3进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔2的真空系统，对蒸镀腔2进行抽真空，蒸镀腔2的气体压力下降到 lX10’a时，开启蒸镀源1的加热源5 ；5)当蒸镀腔2的真空度降到5X10_sPa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源1的盒盖，并打开气阀6通入氧化性气体，通入的气体流量控制在5 7mL/min ；6)薄膜厚度由传感器7检测，并控制碱金属的蒸镀速率在0.3 lOnm/s，薄膜厚度达到10 200nm时，关闭气阀6和加热源5。所述的碱金属的蒸发的蒸镀速率通过调节加热源5来控制。所述的蒸镀腔2构成密封环境，所以是在封闭腔体内对玻璃盖板进行镀膜，而且是在氧化性气体的环境下缓慢蒸发碱金属，所以本发明具有成本低，使用寿命长的特点。
附图是蒸镀腔体的结构示意图。
具体实施例方式下面结合附图对本发明的作更详细的说明。参照附图，一种玻璃盖板镀膜的方法，包括如下步骤1)用有机溶剂清洗蒸镀源1，清洗晾干后，在热风炉内200士5°C温度下干燥 110-130分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源1中填充纯度为99. O 99. 9999%的碱金属，并将填充碱金属后的蒸镀源1置入蒸发源8中的蒸发源槽中，关闭蒸发源8的腔门；所述的有机溶剂为丙酮或异丙；所述的碱金属为钙或钾；2)盖板清洗机对玻璃盖板4进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角，并将玻璃盖板4放入蒸镀腔2中的盖板台架上；3)将掩模板3放置在蒸镀腔2内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板4和掩模板 3进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔2的真空系统，对蒸镀腔2进行抽真空，蒸镀腔2的气体压力下降到 lX10’a时，开启蒸镀源1的加热源5 ；5)当蒸镀腔2的真空度降到5X10_sPa，同时腔内的温度达到800 °C时，打开蒸镀源1的盒盖，并打开气阀6通入氧化性气体，通入的气体流量控制在5 7mL/min ；6)薄膜厚度由传感器7检测，并控制碱金属的蒸镀速率在0.3 lOnm/s，薄膜厚度达到10 200nm时，关闭气阀6和加热源5。所述的碱金属纯度99. 0 99. 9999%，氧化性气体纯度99. 99 99. 9999%，碱
金属以钙为主，氧化性气体以氧气为主。所述的碱金属的蒸发的蒸镀速率通过调节加热源5来控制。所述的碱金属的蒸镀速率控制在0. 3 lOnm/s。实施例1一种玻璃盖板镀膜的方法，包括如下步骤1)用丙酮清洗蒸镀源1，清洗晾干后，在热风炉内195°C的温度下干燥110分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源1中填充纯度为99. 99 99. 9999%的钙，并将将填充钙后的蒸镀源1置入蒸发源8中的蒸发源槽中，关闭蒸发源8的腔门；2)盖板清洗机对550*325mm的玻璃盖板4进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角为3°，并将玻璃盖板4放入蒸镀腔2中的盖板台架上；3)将掩模板3放置在蒸镀腔2内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板4和掩模板 3进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔2的真空系统，对蒸镀腔2进行抽真空，蒸镀腔2的气体压力下降到 lX10’a时，开启蒸镀源1的加热源5 ；5)当蒸镀腔2的真空度降到5X10_sPa，同时腔内的温度达到800 °C时，打开蒸镀源1的盒盖，并打开气阀6通入氧气纯度为99. 99 99. 9999%的气体，通入的气体流量为 5mL/min ；6)调节加热源5控制钙的蒸发速率控制在0. 3nm/s,薄膜厚度达到IOnm时，关闭气阀6和加热源5。实施例2一种玻璃盖板镀膜的方法，包括如下步骤1)用异丙清洗蒸镀源1，清洗晾干后，在热风炉内200°C的温度下干燥120分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源1中填充纯度为99. 99 99. 9999%的钾，并将填充钾后的蒸镀源 1置入蒸发源2中的蒸发源槽中，关闭蒸发源2的腔门；2)盖板清洗机对550*325mm的玻璃盖板4进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角为4°，并将玻璃盖板4放入蒸镀腔2中的盖板台架上；3)将掩模板3放置在蒸镀腔2内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板4和掩模板 3进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔2的真空系统，对蒸镀腔2进行抽真空，蒸镀腔2的气体压力下降到 lX10’a时，开启蒸镀源1的加热源5 ；5)当蒸镀腔2的真空度降到5X10_sPa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源1的盒盖，并打开气阀6通入氧气纯度为99. 99 99. 9999%的气体，通入的气体流量为 6mL/min ；6)调节加热源5控制钾的蒸发速率控制在5nm/s，薄膜厚度达到50nm时，关闭气阀6和加热源5。实施例3一种玻璃盖板镀膜的方法，包括如下步骤
1)用异丙清洗蒸镀源1，清洗晾干后，在热风炉内205°C的温度下干燥130分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源1中填充纯度为99. 99 99. 9999%的钙，并将填充钙后的蒸镀源 1置入蒸发源2中的蒸发源槽中，关闭蒸发源2的腔门；2)盖板清洗机对550*325mm的玻璃盖板4进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角为5°，并将玻璃盖板4放入蒸镀腔2中的盖板台架上；3)将掩模板3放置在蒸镀腔2内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板4和掩模板 3进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔2的真空系统，对蒸镀腔2进行抽真空，蒸镀腔2的气体压力下降到 lX10’a时，开启蒸镀源1的加热源5 ；5)当蒸镀腔2的真空度降到5X10_5Pa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源1的盒盖，并打开气阀6通入氧气纯度为99. 99 99. 9999%的气体，通入的气体流量为 7mL/min ；6)调节加热源5控制钙的蒸发速率控制在lOnm/s，薄膜厚度达到200nm时，关闭气阀6和加热源5。
权利要求
1.一种玻璃盖板镀膜的方法，采用蒸镀设备对玻璃盖板进行镀膜，该蒸镀设备包括蒸发源(8)，蒸发源(8)内配置有蒸发源槽和放置掩模板(3)的台架，其特征在于其方法包括如下步骤1)用有机溶剂清洗蒸镀源(1)，清洗晾干后，在热风炉内200士5°C温度下干燥110-130 分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源(1)中填充纯度为99. 0 99. 9999%的碱金属，并将填充碱金属后的蒸镀源(1)置入蒸发源(8)中的蒸发源槽中，关闭蒸发源(8)的腔门；所述的有机溶剂为丙酮或异丙；所述的碱金属为钙或钾；2)盖板清洗机对玻璃盖板(4)进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角< 5°，并将玻璃盖板(4)放入蒸镀腔O)中的盖板台架上；3)将掩模板C3)放置在蒸镀腔O)内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板(4)和掩模板C3)进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔(2)的真空系统，对蒸镀腔(2)进行抽真空，蒸镀腔(2)的气体压力下降到lX10_3Pa时，开启蒸镀源(1)的加热源(5)；5)当蒸镀腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源 (1)的盒盖，并打开气阀(6)通入氧化性气体，通入的气体流量控制在5 7mL/min ；6)薄膜厚度由传感器(7)检测，并控制碱金属的蒸镀速率在0.3 lOnm/s，薄膜厚度达到10 200nm时，关闭气阀(6)和加热源(5)。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板镀膜的方法，其特征在于包括如下步骤1)用丙酮清洗蒸镀源(1)，清洗晾干后，在热风炉内195°C的温度下干燥110分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源(1)中填充纯度为99. 99 99. 9999%的钙，并将将填充钙后的蒸镀源(1)置入蒸发源(8)中的蒸发源槽中，关闭蒸发源(8)的腔门；2)盖板清洗机对550*325mm的玻璃盖板(4)进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角为3°，并将玻璃盖板(4)放入蒸镀腔O)中的盖板台架上；3)将掩模板C3)放置在蒸镀腔O)内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板(4)和掩模板C3)进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔(2)的真空系统，对蒸镀腔(2)进行抽真空，蒸镀腔(2)的气体压力下降到lX10_3Pa时，开启蒸镀源(1)的加热源(5)；5)当蒸镀腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源 (1)的盒盖，并打开气阀(6)通入氧气纯度为99. 99 99. 9999%的气体，通入的气体流量为 5mL/min ；6)调节加热源(5)控制钙的蒸发速率控制在0.3nm/s，薄膜厚度达到IOnm时，关闭气阀(6)和加热源(5)。
3.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板镀膜的方法，其特征在于包括如下步骤1)用异丙清洗蒸镀源(1)，清洗晾干后，在热风炉内200°c的温度下干燥120分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源(1)中填充纯度为99. 99 99. 9999%的钾，并将填充钾后的蒸镀源 (1)置入蒸发源O)中的蒸发源槽中，关闭蒸发源O)的腔门；2)盖板清洗机对550*325mm的玻璃盖板(4)进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角为4°，并将玻璃盖板(4)放入蒸镀腔O)中的盖板台架上；3)将掩模板C3)放置在蒸镀腔O)内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板(4)和掩模板C3)进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔(2)的真空系统，对蒸镀腔(2)进行抽真空，蒸镀腔(2)的气体压力下降到lX10_3Pa时，开启蒸镀源(1)的加热源(5)；5)当蒸镀腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源 (1)的盒盖，并打开气阀(6)通入氧气纯度为99. 99 99. 9999%的气体，通入的气体流量为 6mL/min ；6)调节加热源(5)控制钾的蒸发速率控制在5nm/s，薄膜厚度达到50nm时，关闭气阀 (6)和加热源(5)。
4.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板镀膜的方法，其特征在于包括如下步骤1)用异丙清洗蒸镀源(1)，清洗晾干后，在热风炉内205°C的温度下干燥130分钟，向干净并经干燥后的蒸镀源(1)中填充纯度为99. 99 99. 9999%的钙，并将填充钙后的蒸镀源 (1)置入蒸发源O)中的蒸发源槽中，关闭蒸发源O)的腔门；2)盖板清洗机对550*325mm的玻璃盖板(4)进行清洗，要求清洗干净的玻璃盖板对纯水的表面接触角为5°，并将玻璃盖板(4)放入蒸镀腔O)中的盖板台架上；3)将掩模板C3)放置在蒸镀腔O)内的台架上，启动蒸镀设备对玻璃盖板(4)和掩模板C3)进行自动对位和接合；4)启动蒸镀腔(2)的真空系统，对蒸镀腔(2)进行抽真空，蒸镀腔(2)的气体压力下降到lX10_3Pa时，开启蒸镀源(1)的加热源(5)；5)当蒸镀腔O)的真空度降到5X10_5Pa，同时腔内的温度达到800°C时，打开蒸镀源 (1)的盒盖，并打开气阀(6)通入氧气纯度为99. 99 99. 9999%的气体，通入的气体流量为 7mL/min ；6)调节加热源(5)控制钙的蒸发速率控制在lOnm/s，薄膜厚度达到200nm时，关闭气阀(6)和加热源(5)。
5.根据权利要求1所述的一种玻璃盖板镀膜的方法，其特征在于所述的碱金属的蒸发的蒸镀速率通过调节加热源( 来控制。
全文摘要
一种玻璃盖板镀膜的方法，用有机溶剂清洗蒸镀源，清洗晾干后，在热风炉内205℃温度下干燥110分钟，向蒸镀源中填充高纯度碱金属，并将蒸镀源置入蒸发源中的蒸发源槽中，对玻璃盖板进行清洗；给蒸镀腔装入掩模板，系统对玻璃盖板和掩模板进行对位和接合；蒸镀腔的气体压力下降到1×10-3Pa时，开启蒸镀源的加热源；当蒸镀腔的真空度降到5×10-5Pa，同时腔内的温度达到800℃时，并打开气阀通入氧化性气体；薄膜厚度达到10～200nm时，关闭气阀和加热源，所述的蒸镀腔构成密封环境，在氧化性气体的环境下缓慢蒸发碱金属，所以本发明具有成本低，使用寿命长的特点。
文档编号C23C14/08GK102268641SQ20111017970
公开日2011年12月7日 申请日期2011年6月29日 优先权日2011年6月29日
发明者赵建明 申请人:彩虹(佛山)平板显示有限公司