专利名称：连续式溅镀设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种溅镀设备，尤其涉及一种连续式溅镀设备。
背景技术：
真空溅镀技术已广泛应用于众多产业领域中，如半导体制造业、光电业、电子业等。真空溅镀技术的原理为在高真空环境中将氩、氖等惰性气体散布于具高电位差的二金属板之间，惰性气体与电子撞击形成等离子，等离子内的氩、氖等惰性离子受电场加速而撞击到靶材的表面，靶材上的原子被撞击后飞到基材的表面，基材表面经靶材原子沉积后即可形成薄膜。
目前，为降低真空溅镀制程的成本，所采用的溅镀设备多为连续式(In-line)，以取代传统批次式(Batch Type)或对夹式(Wafer Type)的生产方式。现有的连续式溅镀设备通常包括依次设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体。溅镀腔体内设有至少二靶材，用于对基材镀膜。该至少二靶材于溅镀腔体内沿基材被传送方向等间隔设置。当基材被传送至溅镀腔体内相邻靶材之间隙位置处时，靶材端部的原子皆被撞击沉积至基材，造成膜层呈波浪状，膜厚均匀性不高。因此，现有的连续式溅镀设备对于外观要求较高、膜厚要求均匀性高的产品并不适用。发明内容
鉴于上述内容，有必要提供一种能够提高镀膜均匀性的连续式镀膜设备。
一种连续式溅镀设备，包括依次相邻设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体，该溅镀腔体包括溅镀室及装设于该溅镀室内的靶材组件与若干电极，该溅镀室内设有一溅镀区，该若干电极相对装设于该溅镀室的侧壁上，设于同一侧的若干电极间隔设置，该靶材组件包括若干靶材，每一靶材装设于相应电极上并远离该溅镀区，同一侧相邻靶材之间形成间隙。该靶材组件还包括至少一遮蔽件，该至少一遮蔽件相对该间隙设置，并位于该若干靶材与该溅镀区之间，用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。
本发明提供的连续式溅镀设备，由于遮蔽件相对相邻靶材之间隙位置设置并邻近溅镀区。溅镀时，遮蔽件能够减小靶材上端部的原子同时被撞击至基材上的几率，有效地提高了沉积至基材上的膜厚均匀性，能够适用于对外观性要求高的镀膜。
图1为本实施方式 的连续溅镀设备对基材进行溅镀处理时的示意图。
图2为本实施方式的 溅镀室对基材进行溅镀处理的立体示意图。
主要元件符号说明
权利要求
1.一种连续式溅镀设备，包括依次相邻设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体，该溅镀腔体包括溅镀室及装设于该溅镀室内的靶材组件与若干电极，该溅镀室内设有一溅镀区，该若干电极相对装设于该溅镀室的侧壁上，设于同一侧的若干电极间隔设置，该靶材组件包括若干靶材，每一靶材装设于相应电极上并远离该溅镀区，同一侧相邻靶材之间形成间隙，其特征在于:该靶材组件还包括至少一遮蔽件，该至少一遮蔽件相对该间隙设置，并位于该若干靶材与该溅镀区之间，用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。
2.如权利要求1所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该至少一遮蔽件水平投影的长度大于或等于该间隙的长度。
3.如权利要求2所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该至少一遮蔽件与该若干靶材相互平行。
4.如权利要求1所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该连续式镀膜设备还包括第一缓冲腔体，该第一缓冲腔体位于该进料腔体与第一缓冲腔体之间。
5.如权利要求4所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该连续式镀膜设备还包括第二缓冲腔体，该第二缓冲腔体位于该溅镀腔体与该出料腔体之间。
6.如权利要求5所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该连续式镀膜设备还包括预处理腔体，该预处理腔体位于该进料腔体与该第一缓冲腔体之间。
7.如权利要求6所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该连续式镀膜设备还包括闸门，该闸门设于进料腔体与该预处理腔体之间、预处理腔体与该第一缓冲腔体之间及该第二缓冲腔体之间与该出料腔体之间。
8.如权利要求1所述的连续式溅镀设备，其特征在于:该溅镀腔体包括若干溅镀室，该若干溅镀室之间以活动式闸门予以隔离。
9.如申请专利范围第I项所述的连续式溅镀设备，其特征在于:溅镀室还包括与溅镀区连接的安装区，该 靶材组件装设于该安装区内。
全文摘要
一种连续式溅镀设备，包括依次相邻设置的进料腔体、溅镀腔体及出料腔体，该溅镀腔体包括溅镀室及装设于该溅镀室内的靶材组件与若干电极，该溅镀室内设有一溅镀区，该若干电极相对装设于该溅镀室的侧壁上，设于同一侧的若干电极间隔设置，该靶材组件包括若干靶材，每一靶材装设于相应电极上并远离该溅镀区，同一侧相邻靶材之间形成间隙。该靶材组件还包括至少一遮蔽件，该至少一遮蔽件相对该间隙设置，并位于该若干靶材与该溅镀区之间，用以遮蔽挡设相邻靶材边缘原子的溅射。本发明提供的连续式溅镀设备，遮蔽件能够减小靶材上端部的原子同时被撞击至基材上的几率，有效地提高了沉积至基材上的膜厚均匀性，能够适用于对外观性要求高的镀膜。
文档编号C23C14/56GK103147048SQ20111040287
公开日2013年6月12日 申请日期2011年12月7日 优先权日2011年12月7日
发明者张庆州 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司