氧化铝连续下料设备的制造方法
【专利说明】
【技术领域】
[0001]本发明涉及电解技术领域，具体涉及一种氧化铝连续下料设备。
【【背景技术】】
[0002]在电解铝制备时，需要利用氧化铝连续下料设备向电解槽中加入氧化铝粉，相关技术中，采用定时定容下料器进行间隔式下料。这种氧化铝连续下料设备，包括:用于承装承装氧化铝粉的料箱，设置于所述料箱底部的下料气缸，设置于所述下料气缸下方并与所述下料气缸相连的定容器，所述氧化铝连续下料装置还包括用于击破电解槽槽内物质表面的打壳头，所述打壳头与所述定容器之间设有为氧化铝从定容器进入电解槽的过料框。相关技术的不足在于，(I)这种下料方式是间隔式下料，氧化铝浓度波动明显，下料前浓度低，下料后浓度高，槽热平衡波动大，影响电解槽的稳定性和电流效率；(2)点式下料方式单次下入大量氧化铝，而目前采用的低过热度工艺路线使得氧化铝的溶解过程更加困难，未溶解的氧化铝沉入铝液，这样造成下料口正下方铝液层中堆积大量氧化铝沉淀，沉淀随着铝液的流动覆盖炉底，造成炉底压降升高，增加能耗，严重者可导致畸形炉膛，影响槽寿命；
[3]单次下入的大量氧化铝在下料斜板上加速，在出口撞击打壳头后四处散开，实际入槽料减少，易引发效应。
[0003]因此，实有必要提供一种新的氧化铝连续下料设备来克服上述技术问题。
【
【发明内容】
】
[0004]本发明需要解决的技术问题是提供一种氧化铝连续下料设备，包括:用于承装氧化铝粉的料箱，设置于所述料箱底部的下料气缸，设置于所述下料气缸下方并与所述下料气缸相连的定容器;所述氧化铝连续下料装置还包括用于击破电解槽槽内物质的表面的打壳头，所述打壳头与所述定容器之间设有为氧化铝从定容器进入电解槽的过料框，所述过料框包括一斜板，其中，所述氧化铝连续下料设备还包括设置于所述过料框中的缓冲器，所述缓冲器与所述斜板共同围成上大下小的漏斗状收容空间，所述收容空间的上部为缓冲入口，所述收容空间的下部为缓冲出口；所述氧化铝连续下料设备还包括设置于所述缓冲器下方的下料管，所述下料管连通所述缓冲出口，并通向所述打壳头的底部;所述氧化铝连续下料设备还包括设置于所述缓冲出口的用于向所述缓冲出口吹气的气管。
[0005]优选的，所述缓冲器由三块铁片焊接而成，所述缓冲器与所述斜板共同围成收容空间，所述收容空间的截面形状为由上到下逐渐变小的四边形。
[0006]优选的，所述缓冲器由二块铁片焊接而成，所述缓冲器与所述斜板共同围成收容空间，所述收容空间的截面形状为由上到下逐渐变小的三角形。
[0007]优选的，所述缓冲器由一块扇形铁片扭转后焊接于所述斜板上，所述缓冲器与所述斜板共同围成收容空间，所述收容空间的截面形状为由上到下逐渐变小的半圆形。
[0008]优选的，所述缓冲出口到所述斜板底端的距离为3-35cm。
[0009]优选的，所述缓冲出口面积为100-2000mm2。
[0010]优选的，所述氧化铝连续下料设备还包括位于电解槽上部的集气罩，所述下料管通过连接板焊接在所述集气罩上。
[0011]优选的，所述下料管底部为折弯状，折弯角度为30-75°，所述下料管底部与所述打壳头底部的距离< 1cm0
[0012]优选的，所述打壳头包括废气口，所述气管的一端与所述废气口相连，所述气管的另一端设置于所述缓冲出口处，所述气管的气源来自所述废气口。
[0013]优选的，所述气管的一端经电磁阀与外接气源相连，所述气管的一端设置于所述缓冲出口处，所述气管的气源来自所述外接气源。
[0014]与相关技术相比，本发明的有益效果在于，(I)使氧化铝缓慢进入电解质，减少电解槽的温度和氧化铝浓度波动，进而提高电流效率，降低能耗；(2)使氧化铝有充足的时间融解进入电解质，从而减少炉底沉淀的形成，降低炉底压降，降低能耗；(3)使氧化铝通过管道缓慢进入电解质，不撞击打壳头散开，实际入槽料增加，降低效应系数；(4)利用气体反吹原理，吹走氧化铝中大颗粒的堵塞，可有效防止堵孔现象。
【【附图说明】】
[0015]图1为本发明一种氧化铝连续下料设备的整体结构(气源来自打壳头废气口)示意图；
[0016]图2为本发明一种氧化铝连续下料设备的由三块铁片焊接而成的缓冲器的展开图；
[0017]图3为本发明一种氧化铝连续下料设备的下料管的主视图；
[0018]图4为本发明一种氧化铝连续下料设备的下料管的左视图；
[0019]图5为本发明一种氧化铝连续下料设备的整体结构(气源来外接气源)示意图。
[0020]图中:料箱I，下料气缸2，定容器3，电解槽(图未示)，打壳头4，废气口41，过料框5，斜板51，缓冲器6，收容空间7，缓冲入口 71，缓冲出口 72，下料管8，气管9，集气罩10，电磁阀11，外接气源12。
【【具体实施方式】】
[0021]下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
[0022]参见图1-图5，一种氧化铝连续下料设备，包括:用于承装氧化铝粉的料箱I，设置于料箱I底部的下料气缸2，设置于下料气缸2下方并与下料气缸2相连的定容器3;氧化铝连续下料装置还包括用于击破电解槽(图未示)槽内物质的表面的打壳头4，打壳头4与定容器3之间设有为氧化铝从定容器3进入电解槽(图未示)的过料框5，过料框5包括一斜板51，其中，氧化铝连续下料设备还包括设置于过料框5中的缓冲器6，缓冲器6与斜板51共同围成上大下小的漏斗状收容空间7，收容空间7的上部为缓冲入口 71，收容空间7的下部为缓冲出口72;氧化铝连续下料设备还包括设置于缓冲器6下方的下料管8，下料管8连通缓冲出口 72，并通向打壳头4的底部;氧化铝连续下料设备还包括设置于缓冲出口 72的用于向缓冲出口72吹气的气管9。
[0023]缓冲器6由三块铁片焊接而成，缓冲器6与斜板51共同围成收容空间7，收容空间7的截面形状为由上到下逐渐变小的四边形。收容空间的容积与定容器中的氧化铝粉的容量相同。
[0024]缓冲出口 72到斜板51底端的距离为3-35cm。本实施例中为20cm。
[0025]缓冲出口 72面积为100-2000mm2。本实施例中为360mm2。
[0026]氧化铝连续下料设备还包括位于电解槽(图未示)上部的集气罩10，下料管8通过连接板焊接集气罩10上。
[0027]下料管8底部为折弯状，折弯角度为A，A= 30_75°，本实施例中为50°。
[0028]下料管8底部与打壳头4底部的距离<10cm。
[0029]打壳头4包括废气口 41，
[0030]如图1，气管9的一端与废气口41相连，气管9的另一端设置于缓冲出口72处，气管9的气源来自废气口 41。
[0031]如图5所示，气管9的一端经电磁阀11与外接气源12相连，气管9的一端设置于缓冲出口 72处，气管9的气源来自外接气源12。
[0032]本发明的有益效果在于，(I)使氧化铝缓慢进入电解质，减少电解槽的温度和氧化铝浓度波动，进而提高电流效率，降低能耗；(2)使氧化铝有充足的时间融解进入电解质，从而减少炉底沉淀的形成，降低炉底压降，降低能耗；(3)使氧化铝通过管道缓慢进入电解质，不撞击打壳头散开，实际入槽料增加，降低效应系数；(4)利用气体反吹原理，吹走氧化铝中大颗粒的堵塞，可有效防止堵孔现象。
[0033]以上所述的仅是本发明的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本发明的保护范围。
【主权项】
1.一种氧化铝连续下料设备，包括:用于承装氧化铝粉的料箱，设置于所述料箱底部的下料气缸，设置于所述下料气缸下方并与所述下料气缸相连的定容器;所述氧化铝连续下料装置还包括用于击破电解槽槽内物质的表面的打壳头，所述打壳头与所述定容器之间设有为氧化铝从定容器进入电解槽的过料框，所述过料框包括一斜板，其特征在于，所述氧化铝连续下料设备还包括设置于所述过料框中的缓冲器，所述缓冲器与所述斜板共同围成上大下小的漏斗状收容空间，所述收容空间的上部为缓冲入口，所述收容空间的下部为缓冲出口；所述氧化铝连续下料设备还包括设置于所述缓冲器下方的下料管，所述下料管连通所述缓冲出口，并通向所述打壳头的底部;所述氧化铝连续下料设备还包括设置于所述缓冲出口的用于向所述缓冲出口吹气的气管。2.根据权利要求1所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述缓冲器由三块铁片焊接而成，所述缓冲器与所述斜板共同围成收容空间，所述收容空间的截面形状为由上到下逐渐变小的四边形。3.根据权利要求1所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述缓冲器由二块铁片焊接而成，所述缓冲器与所述斜板共同围成收容空间，所述收容空间的截面形状为由上到下逐渐变小的三角形。4.根据权利要求1所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述缓冲器由一块扇形铁片扭转后焊接于所述斜板上，所述缓冲器与所述斜板共同围成收容空间，所述收容空间的截面形状为由上到下逐渐变小的半圆形。5.根据权利要求1-4任一项所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述缓冲出口到所述斜板底端的距离为3-35cm06.根据权利要求5所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述缓冲出口面积为100-2000mm2ο7.根据权利要求6所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述氧化铝连续下料设备还包括位于电解槽上部的集气罩，所述下料管通过连接板焊接在所述集气罩上。8.根据权利要求7所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述下料管底部为折弯状，折弯角度为30-75°，所述下料管底部与所述打壳头底部的距离< 10cm。9.根据权利要求8所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述打壳头包括废气口，所述气管的一端与所述废气口相连，所述气管的另一端设置于所述缓冲出口处，所述气管的气源来自所述废气口。10.根据权利要求8所述的氧化铝连续下料设备，其特征在于，所述气管的一端经电磁阀与外接气源相连，所述气管的另一端设置于所述缓冲出口处，所述气管的气源来自所述外接气源。
【专利摘要】本发明公开了一种氧化铝连续下料设备，包括：料箱、下料气缸、定容器、打壳头、过料框、斜板、缓冲器、下料管，下料管通向打壳头的底部；还包括设置于缓冲出口的用于向缓冲出口吹气的气管。与相关技术相比，本发明的有益效果在于，(1)使氧化铝缓慢进入电解质，减少电解槽的温度和氧化铝浓度波动，进而提高电流效率，降低能耗；(2)使氧化铝有充足的时间融解进入电解质，从而减少炉底沉淀的形成，降低炉底压降，降低能耗；(3)使氧化铝通过管道缓慢进入电解质，不撞击打壳头散开，实际入槽料增加，降低效应系数；(4)利用气体反吹原理，吹走氧化铝中大颗粒的堵塞，可有效防止堵孔现象。
【IPC分类】C25C3/14
【公开号】CN105671594
【申请号】CN201610016571
【发明人】章宣, 洪波, 敬叶灵, 李泉
【申请人】湖南创元铝业有限公司
【公开日】2016年6月15日
【申请日】2016年1月12日