专利名称：基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统。
背景技术：
现有的基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，结构复杂，且控制复杂，不便于操作，另外，造价高，不利用推广。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，该基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统结构简单、易于控制、成本低。本实用新型的技术解决方案如下一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，包括支架和真空腔，透镜设置在支架下端的支架底座上，在支架的底端设有反射镜，在支架的上端设有光束扫描装置，真空腔上设有用于激光投射进来的激光射入口，真空腔内安装有靶材和衬底，激光依次经透镜、 反射镜和光束扫描装置形成激光光束，激光光束穿过激光射入口投射到靶材上。靶材和衬底都为圆片形，靶材和衬底轴心线重合。光束扫描装置可以在竖直平面内旋转，从而将光束投射到靶材的不同半径的位置上，可以通过计算机控制光束扫描装置的旋转，光束扫描装置采用步进电机或其他微型直流电机驱动。有益效果本实用新型的基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，采用可旋转的光束扫描装置，将激光投射到靶材上，通过光束扫描装置的旋转，可以控制激光投射到靶材的不同半径的位置，而且由于靶材和衬底的同轴旋转，从而最终在衬底上获得均勻的铁电薄膜。因此，本实用新型的基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，结构简单，易于实施，易于控制操作。
图1为基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统的结构示意图。标号说明1-光束扫描装置，2-透镜，3-反射镜，4-光束，5-衬底，6-真空腔，7-靶材，8-激光射入口，9-支架底座，10-支架。
具体实施方式
以下将结合附图和具体实施例对本实用新型做进一步详细说明实施例1 如图1，一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，包括支架和真空腔，透镜设置在支架下端的支架底座上，在支架的底端设有反射镜，在支架的上端设有光束扫描装置，真空腔上设有用于激光投射进来的激光射入口，真空腔内安装有靶材和衬底，激光依次经透镜、反射镜和光束扫描装置形成激光光束，激光光束穿过激光射入口投射到靶材上。靶材和衬底都为圆片形，靶材和衬底轴心线重合。光束扫描装置可以在竖直平面内旋转，从而将光束投射到靶材的不同半径的位置上，通过计算机控制光束扫描装置的旋转，光束扫描装置采用步进电机或其他微型直流电机驱动。
权利要求1.一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，其特征在于，包括支架和真空腔，透镜设置在支架下端的支架底座上，在支架的底端设有反射镜，在支架的上端设有光束扫描装置，真空腔上设有用于激光投射进来的激光射入口，真空腔内安装有靶材和衬底，激光依次经透镜、反射镜和光束扫描装置形成激光光束，激光光束穿过激光射入口投射到靶材上。
2.根据权利要求1所述的基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，其特征在于，靶材和衬底都为圆片形，靶材和衬底轴心线重合。
专利摘要本实用新型公开了一种基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统，包括支架和真空腔，透镜设置在支架下端的支架底座上，在支架的底端设有反射镜，在支架的上端设有光束扫描装置，真空腔上设有用于激光投射进来的激光射入口，真空腔内安装有靶材和衬底，激光依次经透镜、反射镜和光束扫描装置形成激光光束，激光光束穿过激光射入口投射到靶材上。该基于脉冲激光沉积法的铁电薄膜制备系统结构简单、易于控制、成本低。
文档编号C23C14/28GK202030819SQ20112006161
公开日2011年11月9日 申请日期2011年3月10日 优先权日2011年3月10日
发明者贺超英 申请人:中南林业科技大学