一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，包含：氮气输送管道，该氮气输送管道分别连接外部的氮气源与抛光垫研磨盘；气阀，该气阀设置在氮气输送管道上。本发明能够控制氮气的开关，并与抛光垫研磨盘的工作进程同步；减少了氮气的使用量，大大节约了生产成本，显著提高了经济效益。
【专利说明】一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及ー种气体输送装置，特别涉及一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置。
【背景技术】
[0002]在半导体制造领域中，抛光垫研磨盘(pad conditioner)单元是化学机械研磨机台(Mirra-mesa)的组成部分，而抛光垫研磨盘单元通常使用氮气清扫来防止研磨液(slurry)残留阻塞抛光垫研磨盘的研磨头。在现有技术中，当氮气输送过来时，并没有阀门控制其开关，因此，氮气总是在往抛光垫研磨盘输送。可是，当抛光垫研磨盘仅仅在工作时才需要氮气，当抛光垫研磨盘不工作并回到清洗水盘后，此时是不需要氮气的，这就造成了氮气的浪费，增加了生产成本。
【发明内容】
[0003]本发明的目的是提供一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，能够控制氮气的开关，并与抛光垫研磨盘的工作进程同步；減少了氮气的使用量，大大节约了生产成本，显著提高了经济效益。
[0004]为了实现以上目的，本发明是通过以下技术方案实现的:
一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，包含:
氮气输送管道，所述的氮气输送管道分别连接外部的氮气源与平台调节器；
气阀，所述的气阀设置在氮气输送管道上。
[0005]所述的气阀设置在氮气输送管道与抛光垫研磨盘之间。
[0006]还包含:气路接头，所述的气路接头分别通过管路与外部的研磨液供给系统的气控系统以及气阀相连；当外部的研磨液供给系统的气控系统供气从而打开研磨液供给系统的阀门开始输送研磨液，气路接头则将导通研磨液供给系统的气控系统的部分气体传送到气阀，气阀打开；当外部的研磨液供给系统的气控系统停止供气从而关闭阀门停止输送研磨液，则气阀关闭。
[0007]所述的气路接头为三通接头，当开通控制研磨液供给系统的气体经过所述的三通接头，部分气体进入气阀以导通气阀。
[0008]本发明与现有技术相比，具有以下优点:
1、能够控制氮气的开关，并与抛光垫研磨盘的工作进程同步；
2、減少了氮气的使用量，大大节约了生产成本，显著提高了经济效益。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1为本发明一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置的结构示意图。
【具体实施方式】[0010]以下结合附图，通过详细说明ー个较佳的具体实施例，对本发明做进ー步阐述。
[0011]如图1所示，一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，包含:氮气输送管道1、气阀
2。其中，氮气输送管道I分别连接外部的氮气源与抛光垫研磨盘；气阀2设置在氮气输送管道I上，在本实施例中，优选气阀2设置在氮气输送管道I和抛光垫研磨盘之间，可以相对靠近抛光垫研磨盘。
[0012]如图1所示，还包含:气路接头3，其分别通过管路与外部的研磨液供给系统的气控系统以及气阀2相连；当外部的研磨液供给系统的气控系统供气，打开研磨液供给系统的阀门，从而开始输送研磨液，气路接头3则将导通研磨液供给系统的气控系统的部分气体传送到气阀2，气阀2打开；当外部的研磨液供给系统的气控系统停止供气，从而关闭阀门停止输送研磨液，则气阀2关闭。在本实施例中，气路接头3选用三通接头，当开通研磨液供给系统的控制气体经过三通接头时，该三通接头的其中一路即分出部分气体进入气阀2以导通该气阀2，从而实现研磨液供给系统与氮气输送系统同歩。
[0013]当使用时，由于研磨液供给系统输送研磨液的同时，抛光垫研磨盘也开始工作，并需要输送氮气，此吋，由于气路接头3的存在，其将接收到的控制研磨液供给系统的控制气体分出部分给气阀2，气阀2打开，向抛光垫研磨盘中输入氮气，从而防止研磨液残留堵塞抛光垫研磨盘的研磨头；当抛光垫研磨盘不再工作，研磨液供给系统不再输送研磨液时，没有控制气体通过气路接头3，气阀2关闭氮气输送通道，不再输送氮气，使得生产过程中不再浪费氮气，大大节约了生产成本，減少了不必要的浪费，显著地提高了经济效益。
[0014]当然，在实际生产过程中，化学机械研磨机台中可能有多个抛光垫研磨盘，则需要多个氮气输送管道I以及研磨液供给系统，从而相应的分别设置有对应的气阀2以及气路接头3，以满足多个抛光垫研磨盘的需要。
[0015]综上所述，本发明ー种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置能够控制氮气的开关，并与抛光垫研磨盘的工作进程同歩；減少了氮气的使用量，大大节约了生产成本，显著提高了经济效益。
[0016]尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。
【权利要求】
1.一种用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，其特征在于，包含: 氮气输送管道(I)，所述的氮气输送管道(I)分别连接外部的氮气源与平台调节器； 气阀(2)，所述的气阀(2)设置在氮气输送管道(I)上。
2.根据权利要求1所述的用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，其特征在于，所述的气阀(2 )设置在氮气输送管道(I)与抛光垫研磨盘之间。
3.根据权利要求1所述的用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，其特征在于，还包含:气路接头(3)，所述的气路接头(3)分别通过管路与外部的研磨液供给系统的气控系统以及气阀(2)相连；当外部的研磨液供给系统的气控系统供气从而打开研磨液供给系统的阀门开始输送研磨液，气路接头(3)则将导通研磨液供给系统的气控系统的部分气体传送到气阀(2)，气阀(2)打开；当外部的研磨液供给系统的气控系统停止供气从而关闭阀门停止输送研磨液，则气阀(2)关闭。
4.根据权利要求3所述的用于抛光垫研磨盘的氮气输送装置，其特征在于，所述的气路接头(3)为三通接头，当开通控制研磨液供给系统的气体经过所述的三通接头，部分气体进入气阀(2)以导通气阀(2)。
【文档编号】B24B37/34GK103522171SQ201210231300
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2012年7月5日 优先权日:2012年7月5日
【发明者】邵尔剑 申请人:上海宏力半导体制造有限公司