一种平面磁控溅射镀膜平移机构的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种平面磁控溅射镀膜平移机构，通过在U型输送轨道(1)的弯折点设置平移机构(4)，改变玻璃朝外的一侧，使玻璃两侧均能朝外并镀膜，实现双面镀膜，大大提高生产效率。
【专利说明】一种平面磁控溅射镀膜平移机构
【技术领域】
[0001] 本实用新型属于玻璃镀膜设备领域，尤其涉及一种平面磁控溅射镀膜平移机构。【背景技术】
[0002] 传统输送基片架的输送轨道为U型，基片架在输送轨道上输送到真空室内进行镀 膜工序，
[0003]在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：由于在输 送轨道上基片架是连续的，镀膜设备设置在U型轨道的外侧，镀膜设备只能对U型弯折点外 侧的玻璃面进行镀膜，从而只能镀玻璃一侧的膜，后续还需要将玻璃翻面，重新送入输送轨 道进行镀膜，操作繁琐、工作效率低。 实用新型内容
[0004]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可实现玻璃双面镀膜的平面磁控溅 射镀膜平移机构。
[0005] 为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种平面磁控溅射镀 膜平移机构，包括呈U型的输送基片架的输送轨道、将输送轨道分隔成两部分的隔墙，所述 隔墙一侧为对玻璃进行镀膜的真空室，所述U型轨道的弯折点在真空室内，U型轨道的弯折 点为将基片架从U型轨道一侧输送到另一侧的平移机构，所述平移机构包括：
[0006] 连接U型轨道两侧的架体；
[0007] 设置在所述架体上的导轨；
[0008] 能通过导轨在U型轨道两侧来回滑动的可支撑基片架的托板；
[0009]驱动托板从U型轨道两侧来回滑动的驱动机构。
[0010] 所述托板上设有与导轨相适配的滑块。
[0011] 所述驱动机构为齿轮齿条机构，所述齿条固定安装在托板下端，所述齿轮通过驱 动轴安装在架体上的轴承座上。
[0012] 所述滑块设置在托板的两端，所述架体上设有两根导轨。
[0013] 上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果，将直线输送轨道改成 平移机构，可以实现基片的双面镀膜，产能翻倍。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1为本实用新型实施例中提供的平面磁控溅射镀膜平移机构的结构示意图；
[0015] 图2为图1中平移机构的结构示意图；
[0016] 图3为图2平移机构的局部放大图；
[0017] 上述图中的标记均为：1、输送轨道，2、隔墙，3、真空室，4、平移机构，5、架体，6、导 轨，7、托板，71、滑块，8、驱动机构，81、齿轮，82、齿条，9、基片架。
【具体实施方式】
[0018] 为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新 型实施方式作进一步地详细描述。
[0019] 参见图1，一种平面磁控溅射镀膜平移机构，包括呈U型的输送基片架9的输送轨 道1、将输送轨道1分隔成两部分的隔墙2,隔墙2 -侧为对玻璃进行镀膜的真空室3,U型 轨道的弯折点在真空室3内，U型轨道的弯折点为将基片架9从U型轨道一侧输送到另一 侧的平移机构4,如图2和图3所不，平移机构4包括：
[0020] 连接U型轨道两侧的架体5 ;
[0021] 设置在架体5上的导轨6 ;
[0022] 能通过导轨6在U型轨道两侧来回滑动的可支撑基片架9的托板7 ;
[0023] 驱动托板7从U型轨道两侧来回滑动的驱动机构8。
[0024] 托板7上设有与导轨6相适配的滑块71。
[0025] 驱动机构8为齿轮齿条机构，齿条82固定安装在托板7下端，齿轮81通过驱动轴 安装在架体5上的轴承座上。齿轮81安装在有磁流体密封的驱动轴上，真空密封用磁流体 实现，利用齿轮齿条传动同时结合直线平移导轨6实现往复平移传动。驱动机构8也可采 用其他类型，比如气缸驱动托板7来回滑动。
[0026] 滑块71设置在托板7的两端，架体5上设有两根导轨6。托板7运行更平稳、可 A+^. Ο
[0027] 使用时，基片架9在U型轨道的一侧运动，真空室3内的镀膜设备对玻璃的一侧进 行镀膜，运动到平移机构4时，在托板7的带动下，基片架9本平移输送到U型轨道的另一 侦牝并继续在轨道上运动，此时，平移机构4改变了玻璃朝外的一侧，使玻璃另一侧朝外，从 而对玻璃另一侧进行镀膜。托板7来回往复运动，继续输送其他基片架9和玻璃。
[0028] 采用上述的结构后，巧妙地运用U型轨道的U型转弯处，改变玻璃朝外的一侧，将 真空旋转传动机构改成真空平移机构，可以实现基片的双面镀膜，产能翻倍，同时平移机构 4结构简单、运行可靠，提高生产线稳定性。
[0029] 上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受 上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改 进，或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型 的保护范围之内。
【权利要求】
1. 一种平面磁控溅射镀膜平移机构，包括呈U型的输送基片架（9)的输送轨道（1)、 将输送轨道（1)分隔成两部分的隔墙（2)，所述隔墙（2) -侧为对玻璃进行镀膜的真空室 (3)，其特征在于，所述U型轨道的弯折点在真空室（3)内，U型轨道的弯折点为将基片架 (9)从U型轨道一侧输送到另一侧的平移机构（4)，所述平移机构（4)包括： 连接U型轨道两侧的架体（5); 设置在所述架体（5)上的导轨（6); 能通过导轨（6)在U型轨道两侧来回滑动的可支撑基片架（9)的托板（7); 驱动托板（7)从U型轨道两侧来回滑动的驱动机构（8)。
2. 如权利要求1所述的平面磁控溅射镀膜平移机构，其特征在于，所述托板（7)上设有 与导轨（6)相适配的滑块（71)。
3. 如权利要求1或2所述的平面磁控溅射镀膜平移机构，其特征在于，所述驱动机构 (8)为齿轮齿条机构，所述齿条（82)固定安装在托板（7)下端，所述齿轮（81)通过驱动轴 安装在架体（5)上的轴承座上。
4. 如权利要求3所述的平面磁控溅射镀膜平移机构，其特征在于，所述滑块（71)设置 在托板（7)的两端，所述架体（5)上设有两根导轨（6)。
【文档编号】C23C14/56GK203866381SQ201420241960
【公开日】2014年10月8日 申请日期:2014年5月12日 优先权日:2014年5月12日
【发明者】张兵, 罗德华, 王伟, 邵家满, 王寅 申请人:芜湖长信科技股份有限公司