技术总结
一种原子层沉积装置，具有第一系列的高压气体注入开口与第一系列的排出开口，两者被定位，使得它们一起产生每个冲净气体区域内的第一高压/吸入区域，其中每个第一高压/吸入区域大体上延伸覆盖加工隧道的整个宽度，且其中，被连接到第二冲净气体源的气体注入开口的分布、在该第一高压/吸入区域内的气体排出开口的分布，还有该第二冲净气体源的压力以及在该气体排出开口的压力等等，使得在该第一高压/吸入区域内的平均压力与参考压力的偏差小于30％，该参考压力为不存在基板时，在该加工隧道内的平均压力所定义。
技术研发人员：E·H·A·格兰尼曼;胡磊磊
受保护的技术使用者：ASM国际股份有限公司
文档号码：201580031750
技术研发日：2015.11.03
技术公布日：2017.05.31