1.一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，包括如下具体步骤：
A、准备衬底：将基片切割成所需尺寸，清洗备用；
B、制备单层二氧化硅小球：向培养皿中注水，将二氧化硅小球溶液逐滴滴入水表面；待水面上形成薄膜后，用水替换悬浮的二氧化硅小球溶液；待替换完成后，将基片放入水底，抽干培养皿中的水，得到带有单层二氧化硅小球的基片，并晾干备用；
C、制备纳米棒：采用倾斜角沉积技术，使用电子束蒸发镀膜设备，在气压小于1×10-6托的真空沉积室中，在单层二氧化硅小球基片上沉积二氧化钛或镍，且材料蒸汽入射方向与样品台法线夹角大于70°，形成长度约为3.5μm、直径约为500nm的二氧化钛或镍纳米棒；
D、沉积金属膜层：采用倾斜角沉积技术，使用电子束蒸发镀膜设备，在气压小于1×10-6托的真空沉积室中，在二氧化钛或镍纳米棒一侧蒸镀金属铂，且材料蒸汽入射方向与样品台法线夹角为0°，形成厚度约为150nm的铂膜层，最终制得微纳米马达。
2.根据权利要求1所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤A中，所述的基片采用玻璃片或硅片。
3.根据权利要求1或2所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤A中，所述的清洗基片包括如下步骤：先超声清洗5 min，然后用去离子水、双氧水、氢氧化铵按体积比5:1:1配置的溶液进行清洗，再用去离子水清洗5-10次，最后用氮气吹干。
4.根据权利要求1所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤B中，所述的培养皿在使用前先超声清洗5分钟，然后依次用丙酮、酒精、去离子水进行超声清洗，再用去离子水冲洗，最后用氮气吹干。
5.根据权利要求1或4所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤B中，所述的二氧化硅小球溶液的制备包括如下步骤：先将直径为150-2000nm的二氧化硅小球超声清洗5 min，置于离心管中，加去离子水稀释成溶液，利用涡旋振荡器将溶液摇匀；然后向离心管中加入不小于溶液水量的高纯水，继续离心清洗，并通过不断地添加和移除高纯水，反复离心3次；最后加入酒精，制成质量百分比浓度为0.08%-2.24%的二氧化硅小球溶液。
6.根据权利要求1或4所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤B中，使用注射器将二氧化硅小球溶液逐滴滴入水表面，注射速率为0.009-0.011 mL/min，且使弯成90°的注射器针头靠近培养皿边缘。
7.根据权利要求1或4所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤B中，所述的替换包括如下步骤：将特氟龙环置于薄膜之上，利用注射泵进行注水，使水位升高，再用蠕动泵同时进行注水和排水操作，将薄膜以下悬浮在溶液中的二氧化硅小球溶液用超纯水替换。
8.根据权利要求1所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤C中，沉积速度为0.5 nm/s。
9.根据权利要求1所述的一种微纳米马达的制备方法，其特征在于，步骤D中，沉积速度为0.5 nm/s。
10.一种利用权利要求1-8任一项所述方法制备的微纳米马达。