1.一种碳化硅沉积设备的进气装置，其特征在于：包括MTS储液罐(1)、混合罐(2)和缓冲罐(3)，所述MTS储液罐(1)上设有氢气输入管道(11)，所述氢气输入管道(11)开口伸入到MTS液位下方，所述MTS储液罐(1)的顶部还设有储液罐排气口(12)，所述储液罐排气口(12)通过第一管道(51)与所述混合罐(2)的第一进气口(21)相连，所述混合罐(2)还设有第二进气口(22)，所述第二进气口(22)用于输入氩气，所述混合罐(2)设有混合罐(2)排气口，所述混合罐(2)排气口通过第二管道(52)与所述缓冲罐(3)的进气口(31)相连，所述缓冲罐(3)设有缓冲罐排气口(32)，所述缓冲罐排气口(32)通过第三管道(53)与碳化硅沉积设备的炉体(4)相连。
2.根据权利要求1所述的碳化硅沉积设备的进气装置，其特征在于：还包括控制器、压力变送器(6)和电动调节阀(7)，所述压力变送器(6)设置在所述缓冲罐(3)或所述第三管道(53)上，所述电动调节阀(7)设置在所述第三管道(53)上，所述压力变送器(6)与所述控制器相连，所述控制器与所述电动调节阀(7)相连，所述控制器接收压力变送器(6)信号后处理并输出控制信号给所述电动调节阀(7)。
3.根据权利要求2所述的碳化硅沉积设备的进气装置，其特征在于：所述的压力变送器(6)传感单元为陶瓷膜片。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的碳化硅沉积设备的进气装置，其特征在于：所述第三管道(53)中的进气压力控制精度高于±15Pa。
5.一种碳化硅沉积设备，包括进气装置和炉体(4)，所述进气装置和所述炉体(4)相连，其特征在于：所述进气装置具体为权利要求1-4任意一项所述的进气装置。