1.一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，包括磁流变液供给回收机构以及两个磁流变抛光机构，每个磁流变抛光机构均包括固定板、主动轮、运输带以及磁盒；所述主动轮安装在固定板的一端，磁盒固定安装在固定板的另一端；运输带套装在两个主动轮以及磁盒的外轮廓上；两个磁流变抛光机构中的磁盒靠近布置，待抛光元件置于两个磁盒之间；磁流变液供给回收机构包括喷嘴、回收盒、喷出泵以及回收泵；每个运输带至少配置一个所述喷嘴和一个回收盒，喷嘴设置在磁盒的端部位置，并位于运输带运动的起始方向的一端；回收盒设置在主动轮外侧；喷出泵向喷嘴提供磁流变液，回收泵通过回收盒回收磁流变液；所述磁盒中设置工作磁铁，用于产生磁流变液产生流变的磁场。
2.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，还包括支架，所述两个磁流变抛光机构固定在支架上，支架控制两个磁流变抛光机构的相对位置。
3.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，所述磁流变抛光机构还包括辅助磁铁，布置于运输带附近，用于控制磁流变液在运输带上稳定分布。
4.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，还包括装卡工具，用于固定待抛光元件以及控制待抛光元件运动。
5.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，工作磁铁的数量为大于或等于两个，在磁盒中均匀布置，相邻两个工作磁铁的极性互为镜像关系。
6.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，所述磁盒朝向待抛光元件一侧的外形结构与待抛光元件的外形结构一致；磁盒中布置的工作磁铁分布形状与磁盒的外形结构一致。
7.如权利要求6所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，当所述待抛光元件为曲面时，磁盒朝向待抛光元件一侧的外形结构为与待抛光元件的外形结构一致的曲面。
8.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，还包括磁流变液控制系统，磁流变液控制系统进一步包括磁流变液的搅拌器、水冷装置、温度传感器、压力传感器、粘度传感器以及电磁流量计。
9.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，所述喷嘴和回收盒位于靠近磁流变液供给回收机构的一侧。
10.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，所述主动轮表面为磨砂表面。
11.如权利要求1所述的一种磁流变双面抛光装置，其特征在于，至少有两个所述磁流变双面抛光装置并联形成双面抛光系统，待抛光元件从所有的双面抛光装置的两个运输带之间顺次通过。