珩磨头冲洗装置及珩磨机的制作方法

本发明涉及加工设备
技术领域：
，具体涉及一种珩磨头冲洗装置及应用该珩磨头冲洗装置的珩磨机。
背景技术：
：珩磨机是一种利用珩磨头对工件表面进行精加工的磨床，主要用在汽车、拖拉机、液压件、轴承、航空等制造业中珩磨工件的孔。在珩磨机运行过程中经常出现珩磨头卡滞，由此会使加工得到的孔圆度超差，影响工件的质量。为了减小珩磨头卡滞现象需要定期清洗珩磨头。现有的珩磨机一般没有设置清洗珩磨头的装置，或者独立设置一个与珩磨机相分离的清洗装置，清洗珩磨头时，需要将珩磨头拆下进行清洗，造成清洗珩磨头的工序复杂，降低生产效率；而且珩磨头的结构精细，采用水管冲淋等日常清洗方式进行清洗会导致珩磨头清洗不全面。因此，有必要提供一种新型的清洗装置以解决上述问题。技术实现要素：本发明的主要目的是提供一种珩磨头冲洗装置及珩磨机，旨在解决现有珩磨头清洗方式耗时和清洗不干净的技术问题。为实现上述目的，本发明提出的珩磨头冲洗装置包括本体部，所述本体部的中部贯穿形成用于珩磨头插入的清洗腔，所述珩磨头冲洗装置还包括环设于所述本体部内壁的出水槽和开设于所述本体部外壁的进水孔，所述本体部的内部中空形成环形的水腔，所述进水孔和所述出水槽分别与所述水腔相连通。优选地，所述进水孔的数量为多个，所述出水槽的开口横截面积比多个所述进水孔的开口总横截表面积小。优选地，所述本体部包括相对设置的顶面和底面，所述出水槽开设于所述本体部的内壁靠近所述底面的一端。优选地，所述出水槽从所述水腔的内表面向靠近所述底面的方向倾斜延伸。优选地，所述清洗腔靠近所述顶面的边沿设有倒角。优选地，所述进水孔通过快接插头与外部管路相连接。本发明还提供了一种珩磨机，所述珩磨机包括珩磨头、校零环和如前述的珩磨头冲洗装置，所述珩磨头冲洗装置与所述校零环相连接，所述珩磨机还包括插入所述珩磨头冲洗装置和所述校零环并能做往复运动的珩磨头。优选地，所述清洗腔的直径大于所述校零环的开口直径。优选地，所述本体部的外壁向内凹陷形成限位槽，所述珩磨机还包括设于所述校零环顶端的限位结构，所述限位结构和所述限位槽相配合。优选地，所述珩磨机还包括用于支撑所述校零环的基座，所述本体部上开设有用于连接所述校零环的第一安装孔，所述校零环上开设有用于连接所述基座的第二安装孔，所述第一安装孔和所述第二安装孔相对应。本发明技术方案中，珩磨头冲洗装置包括本体部，本体部的中部贯穿形成用于珩磨头插入的清洗腔，珩磨头冲洗装置还包括环设于本体部内壁的出水槽和开设于本体部外壁的进水孔，本体部的内部中空形成环形的水腔，进水孔和出水槽分别与水腔相连通。通过设置本体部和清洗腔，使得珩磨头可以直接插入本体部，清洗时不需要拆卸珩磨头；通过设置进水孔、水腔和出水槽，使得水可以从进水孔通过水腔和出水槽向清洗腔中射出；又通过环设的出水槽，使得插入本体部的珩磨头可以360°的进行清洗，清洗更全面；由于出水槽和进水孔之间设有水腔，使得不需要环设进水孔即可实现全面清洗，从而进水孔的设置更灵活。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。图1为本发明珩磨头冲洗装置一实施例的立体结构示意图；图2为图1所示的珩磨头冲洗装置一实施例的俯视图；图3为图2所示的珩磨头冲洗装置沿a-a线的剖面结构示意图；图4为本发明珩磨机一实施例的部分结构示意图。附图标号说明：标号名称标号名称10珩磨头冲洗装置1本体部11安装孔13限位槽15顶面17底面3出水槽31侧壁5进水孔51快速插头7清洗腔73倒角9水腔30校零环40基座50调整块本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。另外，在本发明中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。另外，本发明各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。本发明提出一种珩磨头冲洗装置，珩磨头冲洗装置能快速、全面的清洗珩磨头。请参照图1、图2和图3，其中，图1为本发明珩磨头冲洗装置一实施例的立体结构示意图，图2为图1所示的珩磨头冲洗装置一实施例的俯视图，图3为图2所示的珩磨头冲洗装置沿a-a线的剖面结构示意图。在本发明一实施例中，该珩磨头冲洗装置10包括本体部1，本体部1的中部贯穿形成用于珩磨头(未图示)插入的清洗腔7，珩磨头冲洗装置10还包括环设于本体部1内壁的出水槽3和开设于本体部1外壁的进水孔5，本体部1的内部中空形成环形的水腔9，进水孔5和出水槽3分别与水腔9相连通。通过设置本体部1和清洗腔7，使得冲洗珩磨头时，珩磨头可以直接插入本体部1，不需要拆卸珩磨头；通过设置进水孔5、水腔9和出水槽3，使得水可以从进水孔5通过水腔9和出水槽3向清洗腔7中射出；又通过环设的出水槽3，使得插入本体部1的珩磨头可以360°进行清洗，清洗更全面；由于进水孔5和出水槽3之间设有水腔9，使得不需要环设进水孔5即可实现全面清洗，从而进水孔5的设置更灵活。进一步地，进水孔5的数量为多个，出水槽3的开口横截面积比多个进水孔5的开口总横截面积小。优选的，多个进水孔5均匀环设于本体部1。在本实施例中，进水孔5的个数为3个，其中轴线两两之间的夹角为60度。3个进水孔5的开口总横截面积大于出水槽3的开口横截面积，从而增大从出水槽3流出的水流压力。本体部1包括相对设置的顶面15和底面17，出水槽3开设于本体部1的内壁靠近底面17的一端。具体地，顶面15为清洗珩磨头时，珩磨头首先插入的一端，底面17为清洗珩磨头时，珩磨头首先钻出的一端。通过将出水槽3开设于本体部1的内壁靠近底面17的一端，使得本体部1的内壁靠近底面的一端留有空间设置倒角、软性垫圈等结构。优选地，出水槽3与水腔9的底部连通，通过设置出水槽3与水腔9的底部连通，使得在不使用珩磨头冲洗装置10时，水腔9中的水不会滞留。出水槽3从水腔9的内表面向靠近底面17的方向倾斜延伸。具体地，出水槽3的侧壁31连接水腔9的内表面和清洗腔7的内表面，侧壁31自水腔9的内表面向靠近底面17的方向倾斜延伸。从而使得从出水槽3射出的水与珩磨头的外表面呈一定的角度，有利于喷射到珩磨头表面的水流沿顶面15向底面17方向流动，清洗更干净。清洗腔3靠近顶面15的边沿设有倒角73。通过设置倒角73，有利于珩磨头插入清洗腔7内。在一实施例中，进水孔5通过快接插头51与外部管路相连接。通过设置快接插头51，使得珩磨头冲洗装置10的装配更简单、快速。本发明还提供一种珩磨机。该珩磨机具有珩磨头更换频率低，生产效率高的特点。请参阅图4，为本发明珩磨机一实施例的部分结构示意图。珩磨机包括珩磨头、校零环30和如前述的珩磨头冲洗装置10，珩磨头冲洗装置10与校零环30相连接，珩磨机还包括插入珩磨头冲洗装置10和校零环30并能做往复运动的珩磨头(未图示)。校零环30用于校正珩磨头的角度。优选地，珩磨头冲洗装置10设于校零环30的顶端。通过珩磨头冲洗装置10与校零环30相连接，使得珩磨头校正角度的同时，即可实现清洗珩磨头；同时不需要在现有珩磨机的结构上重新设置支架等支撑结构以安装珩磨头冲洗装置10。进一步地，清洗腔7的直径大于校零环30的开口直径，以有利于珩磨头的插入。本体部1的外壁向内凹陷形成限位槽13，珩磨机还包括设于校零环30顶端的限位结构60，限位结构60和限位槽13相配合。在本实施例中，限位槽13和限位结构60的数量分别为3个，并且3个限位槽13均匀环设于本体部1的外壁。通过设置限位结构40和限位槽13相配合，有利于珩磨头冲洗装置10的稳定性。进一步地，限位结构60包括与校零环30相连接的立柱61和套设于立柱61上的限位块63，限位块63用于与本体部1的顶面相抵接。优选地，限位块13转动套设于立柱61上，在安装珩磨机冲洗装置10时，可通过旋转限位块13，将限位结构60调整为与珩磨头冲洗装置10相配合的状态。珩磨机还包括用于支撑校零环30的基座40，本体部1上开设有用于连接校零环30的第一安装孔11，校零环上30开设有用于连接基座40的第二安装孔(未标示)，第一安装孔11和第二安装孔相对应。通过设置相对应的第一安装孔11和第二安装孔，使得珩磨头冲洗装置10和校零环30能通过同一螺栓与基座40相连接，并且避免了对校零环30的二次改动，使得珩磨头冲洗装置10可直接适用于现有的珩磨机结构。以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的
技术领域：
均包括在本发明的专利保护范围内。当前第1页12