一种防强光镜片镀膜方法与流程

文档序号:14397222阅读:951来源:国知局

本发明涉及一种防强光镜片镀膜方法。



背景技术:

随着人们文化、生活水平的不断提高,视力保健工作的开展,眼镜作为矫正视力或保护眼睛而制作的简单光学器件,在人们生活领域中发挥了重要的作用。眼镜通常是由镜片和镜架组成,从镜片的功能上讲,它具有调节进入眼睛之光量,增加视力,保护眼睛安全和临床治疗眼病等作用。

例如,随着车辆的不断增多以及车辆本身存在的不完善,交通事故也越来越多,特别是夜间行车发生的交通事故,夜行车发生的交通事故往往是由于两车交会时,双方的车灯会使人产生刺眼、眩晕,驾驶员本能的会眯眼,甚至会因为灯光刺眼而失盲几秒钟,这样就容易造成交通事故,为此市场上出现了针对强光刺激眼睛的墨镜、半墨镜,如太阳眼镜等,但是这类眼镜大都是采用偏振光技术制成的镜片,只能减少漫反射光线的照射而无法真正降低入射光线的强度,对白天强烈阳光对人眼刺激造成炫目有一定的防眩晕和挡光作用,但是在黑暗的夜里,对减少驾驶员夜间会车造成的强光刺激效果不好。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种防强光镜片镀膜方法,该方法制造出来的防强光光学镜片具有防止强光对人体的伤害,同时还具有防蓝光和自主光学调控的功能。

为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:

一种防强光镜片镀膜方法,其包括在基片外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防强光光学镜片,所述镀膜方法具体包括以下步骤:

1)对基片进行清洗;

2)基片清洗后的干燥:将清洗后的基片用异丙醇脱干,脱干后的基片采用异丙醇慢拉干燥,再置于无尘镀膜恒温烤箱中于60℃~75℃烘烤8小时以上;

3)加硬处理:将镜片基片浸入甲基硅树脂强化溶液中,加硬处理温度115-125℃,2小时后将镜片基片取出并送至烘干箱内干燥固化,烘干温度120℃,固化时间60分钟;

4)退火处理:将加硬处理后的镜片进行退火处理:

5)二次清洗:将退火处理后的镜片基片置于真空镀膜舱内,用霍尔离子源对镜片基片进行离子轰击3-5分钟;

6)镀ar膜:采用真空蒸镀的方式对二次清洗后的镜片基片镀ar膜。

步骤6)镀ar膜的具体步骤如下:

a、镀第一膜层:

将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用霍尔离子源轰击二氧化硅,二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为7å/s,第一膜层形成后的厚度为5-15nm,最终形成二氧化硅层;

b、镀第二膜层:

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用霍尔离子源轰击五氧化三钛,五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5å/s,第二膜层形成后的厚度为10-20nm,最终形成五氧化三钛层;

c、镀第三膜层:

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤a中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为1.5å/s,第二膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第二膜层的膜材为铬或银,形成高反射金属层;

d、镀第四膜层:

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤b中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为7å/s,第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体,形成高硬度层。

e、镀第五膜层:

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,其中第一膜层的膜材为银的氧化物,在电子枪蒸镀的作用下第一膜层的膜材的氧离子分离,第一膜层的膜材中的银以纳米级分子形式沉积于基片的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为1å/s,第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述银的氧化物为ag2o、ago或ag2o3;

所述步骤1)中,对基片的清洗具体步骤如下:

a、采用有机溶剂清洗剂对基片进行清洗,并以超声波辅助清洗;

b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片进行清洗,并以超声波辅助清洗;

c、将步骤b处理的基片依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。

所述基片为高分子树脂成型。

本发明采用电子束真空蒸镀的原理,利用带电荷的粒子在电场中加速后具有一定动能的特点,将离子引向欲被镀膜的基片制成的电极,并通过电子枪高温轰击将高纯度金属氧化物组分,蒸发出来的纳米分子使其沿着一定的方向运动到基片并最终在基片上沉积成膜的方法。本项发明技术结合利用磁场的特殊分布控制电场中的电子运动轨迹,以此改进镀膜的工艺,使得镀膜厚度及均匀性可控,且制备的膜层致密性好、粘结力强及纯净度高。

本发明在基片上真空蒸镀的高反射金属层,具有优异的高反射性能,能把大部分光波反射回去,从而防止强光对人眼造成伤害。本发明制备方法制得的镜片能够显著提高镜片的耐磨性以及有效抑制细菌生长,具有优良的杀灭有害细菌的性能和防强光性能。

附图说明

以下结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细说明:

图1为本发明整体的分解图。

具体实施方式

如图1所示,本发明包括在基片1外表面和内表面分别蒸镀膜系形成防强光光学镜片,所述镀膜方法具体包括以下步骤:

1)对基片1进行清洗;

2)基片1清洗后的干燥:将清洗后的基片1用异丙醇脱干,脱干后的基片1采用异丙醇慢拉干燥,再置于无尘镀膜恒温烤箱中于60℃~75℃烘烤8小时以上;

3)加硬处理:将镜片基片1浸入甲基硅树脂强化溶液中,加硬处理温度115-125℃,2小时后将镜片基片1取出并送至烘干箱内干燥固化,烘干温度120℃,固化时间60分钟;

4)退火处理:将加硬处理后的镜片进行退火处理:

5)二次清洗:将退火处理后的镜片基片1置于真空镀膜舱内,用霍尔离子源对镜片基片1进行离子轰击3-5分钟;

6)镀ar膜:采用真空蒸镀的方式对二次清洗后的镜片基片1镀ar膜。

根据权利要求1所述的一种镜片加工方法,其特征在于:步骤6)镀ar膜的具体步骤如下:

a、镀第一膜层2:

将真空镀膜舱内的真空度调整至大于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用霍尔离子源轰击二氧化硅,二氧化硅蒸发后以纳米级分子形式沉积于镜片基片1的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为7å/s,第一膜层形成后的厚度为5-15nm,最终形成二氧化硅层;

b、镀第二膜层3:

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用霍尔离子源轰击五氧化三钛,五氧化三钛蒸发后以纳米级分子形式沉积于第一膜层的外表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为2.5å/s,第二膜层形成后的厚度为10-20nm,最终形成五氧化三钛层;

c、镀第三膜层4:

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第二膜层的膜材,第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤a中第一膜层的表面,同时控制第二膜层蒸镀的速率为1.5å/s,第二膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第二膜层的膜材为铬或银,形成高反射金属层;

d、镀第四膜层5:

保持真空镀膜舱内的真空度大于或等于5.0×10-3帕,同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃,采用电子枪轰击第三膜层的膜材,第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤b中第二膜层的表面,同时控制第三膜层蒸镀的速率为7å/s,第三膜层最终形成后的厚度为10-50nm;其中,所述第三膜层的膜材为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或者一氧化硅晶体,形成高硬度层。

e、镀第五膜层6:

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕,并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃,采用电子枪轰击第一膜层的膜材,其中第一膜层的膜材为银的氧化物,在电子枪蒸镀的作用下第一膜层的膜材的氧离子分离,第一膜层的膜材中的银以纳米级分子形式沉积于基片1的外表面,同时控制第一膜层蒸镀的速率为1å/s,第一膜层最终形成后的厚度为5-20nm;其中,所述银的氧化物为ag2o、ago或ag2o3;

所述步骤1)中,对基片1的清洗具体步骤如下:

a、采用有机溶剂清洗剂对基片1进行清洗,并以超声波辅助清洗;

b、采用水基清洗剂对经步骤a清洗的基片1进行清洗,并以超声波辅助清洗;

c、将步骤b处理的基片1依序进行自来水漂洗和蒸馏水漂洗。

所述基片1为高分子树脂成型。

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